गैल्वेनी विभव: Difference between revisions

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[[File:Galvani Volta Surface Potential.svg|thumb|400px|गलवानी क्षमता <math>\phi</math> संभावित तिजोरी <math>\psi</math> और सतह की क्षमता <math>\chi</math> चरण में। दो चरणों के बीच गणना किए गए संबंधित संभावित अंतर।]][[इलेक्ट्रोकैमिस्ट्री]] में, '''गैलवानी क्षमता''' जिसे गैलवानी [[संभावित अंतर]] Δφ, डेल्टा फाई भी कहा जाता है। दो चरण पदार्थ के थोक में दो बिंदुओं के बीच विद्युत संभावित अंतर है <ref>{{GoldBookRef |title=Galvani potential difference |file=G02574 }}</ref> ये चरण दो अलग-अलग [[ठोस]] हो सकते हैं। जैसे दो धातुएं साथ जुड़ती हैं, ठोस और [[तरल]] जैसे धातु [[इलेक्ट्रोड]] एक [[इलेक्ट्रोलाइट]] में डूबा हुआ है।
[[File:Galvani Volta Surface Potential.svg|thumb|400px|गलवानी विभव <math>\phi</math> संभावित तिजोरी <math>\psi</math> और सतह की विभव <math>\chi</math> चरण में। दो चरणों के बीच गणना किए गए संबंधित संभावित अंतर।]][[इलेक्ट्रोकैमिस्ट्री]] में, '''गैलवानी विभव''' जिसे गैलवानी [[संभावित अंतर]] अर्ताथ  Δφ भी कहा जाता है। मुख्यतः दो पदार्थों के बीच में या दो बिंदुओं के बीच विद्युत संभावित अंतर के रूप में प्रकट किया जाता है <ref>{{GoldBookRef |title=Galvani potential difference |file=G02574 }}</ref> ये चरणों में दो अलग-अलग [[ठोस]] रूप में होते हैं। जैसे दो धातुएं एक साथ संयोजित होती हैं, इसी प्रकार ठोस और [[तरल]] धातुएँ जैसे [[इलेक्ट्रोड]] मुख्य रूप से [[इलेक्ट्रोलाइट]] में डूबा रहता हैं।


गैलवानी क्षमता का नाम [[लुइगी गलवानी]] के नाम पर रखा गया है।
गैलवानी विभव का नाम [[लुइगी गलवानी]] के नाम पर रखा गया है।


== दो धातुओं के बीच गैलवानी क्षमता ==
== दो धातुओं के बीच गैलवानी विभव ==


सबसे पहले, दो धातुओं के बीच गलवानी क्षमता पर विचार करें। जब दो धातुएं एक दूसरे से विद्युत रूप से पृथक होती हैं, तो उनके बीच एकपक्षीय वोल्टेज अंतर उपस्तिथ हो सकता है। चूंकि, जब दो अलग-अलग धातुओं को इलेक्ट्रॉनिक संपर्क में लाया जाता है, तो इलेक्ट्रॉन कम वोल्टेज वाली धातु से उच्च वोल्टेज वाली धातु में तब तक प्रवाहित होंगे, जब तक कि दोनों चरणों के थोक में इलेक्ट्रॉनों का [[फर्मी स्तर]] बराबर नहीं हो जाता। दो चरणों के बीच से निकलने वाले इलेक्ट्रॉनों की वास्तविक संख्या छोटी होती है, यह वस्तुओं के बीच समाई पर निर्भर करता है और इलेक्ट्रॉन बैंड के अधिकार व्यावहारिक रूप से अप्रभावित रहते हैं। जबकि, इस छोटे से वृद्धि और कमी के परिणामस्वरूप धातुओं में सभी ऊर्जा स्तरों में बदलाव होता है। दो चरणों के बीच अंतराफलक में विद्युत [[दोहरी व्यवस्था|दोहरी परत (सतह विज्ञान)]] बनती है।<ref>V.S. Bagotsky, "Fundamentals of Electrochemistry", Willey Interscience, 2006.</ref> संपर्क में दो अलग-अलग चरणों के बीच विद्युत रासायनिक क्षमता की समानता को इस प्रकार लिखा जा सकता है।
सबसे पहले, दो धातुओं के बीच गलवानी विभव पर विचार करते हैं। जब दो धातुएं एक दूसरे से विद्युत रूप से पृथक होती हैं, तो उनके बीच एकपक्षीय वोल्टेज अंतर उपस्तिथ हो सकता है। चूंकि जब दो अलग-अलग धातुओं को इलेक्ट्रॉनिक संपर्क में लाया जाता है, तो इलेक्ट्रॉन कम वोल्टेज वाली धातु से उच्च वोल्टेज वाली धातु में तब तक प्रवाहित होंगे, जब तक कि दोनों चरणों के थोक में इलेक्ट्रॉनों का [[फर्मी स्तर]] बराबर नहीं रहता हैं। इस प्रकार दोनों चरणों के बीच से निकलने वाले इलेक्ट्रॉनों की वास्तविक संख्या कम होती है, यह वस्तुओं के बीच धारिता पर निर्भर करता है और इलेक्ट्रॉन बैंड के अधिकार व्यावहारिक रूप से अप्रभावित रहते हैं। जबकि, इस छोटे से वृद्धि और कमी के परिणामस्वरूप धातुओं में सभी ऊर्जा स्तरों में परिवर्तित रहता है। दो चरणों के बीच अंतराफलक में विद्युत [[दोहरी व्यवस्था|दोहरी परत (सतह विज्ञान)]] बनती है।<ref>V.S. Bagotsky, "Fundamentals of Electrochemistry", Willey Interscience, 2006.</ref> संपर्क में दो अलग-अलग चरणों के बीच विद्युत रासायनिक विभव की समानता को इस प्रकार लिखा जा सकता है।
:<math>\overline{\mu}_j^{(1)} = \overline{\mu}_j^{(2)}</math>
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*<math>\overline{\mu}</math> विद्युत रासायनिक क्षमता है।
*<math>\overline{\mu}</math> विद्युत रासायनिक विभव है।
*j उन प्रजातियों को दर्शाता है जो प्रणाली में विद्युत प्रवाह के वाहक हैं, जो धातुओं में इलेक्ट्रॉन हैं।
*j उन प्रजातियों को दर्शाता है जो प्रणाली में विद्युत प्रवाह के वाहक हैं, जो धातुओं में इलेक्ट्रॉन हैं।
*(1) और (2) क्रमशः चरण 1 और चरण 2 को दर्शाते हैं।
*(1) और (2) क्रमशः चरण 1 और चरण 2 को दर्शाते हैं।


अब, किसी प्रजाति की विद्युत रासायनिक क्षमता को उसकी रासायनिक क्षमता और स्थानीय इलेक्ट्रोस्टैटिक क्षमता के योग के रूप में परिभाषित किया गया है।
अब, किसी प्रजाति की विद्युत रासायनिक विभव को उसकी रासायनिक विभव और स्थानीय इलेक्ट्रोस्टैटिक विभव के योग के रूप में परिभाषित किया गया है।
:<math>\overline{\mu}_j = \mu_j + z_j F \phi</math>
:<math>\overline{\mu}_j = \mu_j + z_j F \phi</math>
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*μ [[रासायनिक क्षमता]] है।
*μ [[रासायनिक क्षमता|रासायनिक विभव]] है।
* z एकल आवेश वाहक इलेक्ट्रॉनों के लिए एकता द्वारा किया गया विद्युत आवेश है।
* z एकल आवेश वाहक इलेक्ट्रॉनों के लिए एकता द्वारा किया गया विद्युत आवेश है।
*F फैराडे नियतांक है।
*F फैराडे नियतांक है।
*Φ इलेक्ट्रोस्टैटिक क्षमता है।
*Φ इलेक्ट्रोस्टैटिक विभव है।


ऊपर के दो समीकरणों से।
ऊपर के दो समीकरणों के आधार पर उक्स समीकरण प्राप्त होता हैं जो इस प्रकार हैं।
:<math>\phi^{(2)} - \phi^{(1)} = \frac {\mu_j^{(1)} - \mu_j^{(2)}} {z_j F}</math>
:<math>\phi^{(2)} - \phi^{(1)} = \frac {\mu_j^{(1)} - \mu_j^{(2)}} {z_j F}</math>
जहां बायीं ओर का अंतर चरणों (1) और (2) के बीच गैलवानी संभावित अंतर है। इस प्रकार, गैलवानी संभावित अंतर पूरी तरह से दो चरणों के रासायनिक अंतर से निर्धारित होता है, विशेष रूप से दो चरणों में आवेश वाहकों की रासायनिक क्षमता के अंतर से।
जहाँ बायीं ओर का अंतर समीकरण (1) और (2) के बीच गैलवानी संभावित अंतर प्राप्त करने के लिए उपयोगी है। इस प्रकार गैलवानी संभावित अंतर पूर्ण रूप से दो चरणों के रासायनिक अंतर से निर्धारित होता है, विशेष रूप से दो चरणों में आवेश वाहकों की रासायनिक विभव के अंतर से प्राप्त होता हैं।


इलेक्ट्रोड और विद्युतअपघट्य अन्य दो विद्युत प्रवाहकीय चरणों के बीच गैलवानी संभावित अंतर समान रूप से बनता है। चूंकि, उपरोक्त समीकरण में रासायनिक क्षमता को अंतराफलक पर विद्युत रासायनिक प्रतिक्रिया में सम्मलित सभी प्रजातियों को सम्मलित करने की आवश्यकता हो सकती है।
इलेक्ट्रोड और विद्युतअपघट्य अन्य दो विद्युत प्रवाहकीय चरणों के बीच गैलवानी संभावित अंतर समान रूप से बनता है। चूंकि, उपरोक्त समीकरण में रासायनिक विभव को अंतराफलक पर विद्युत रासायनिक प्रतिक्रिया में सम्मलित सभी प्रजातियों को सम्मलित करने की आवश्यकता हो सकती है।


== मापा सेल क्षमता से संबंध ==
== मापा सेल विभव से संबंध ==
वाल्टमीटर का उपयोग करके गैलवानी संभावित अंतर सीधे मापने योग्य नहीं है। सेल में इकट्ठे दो धातु इलेक्ट्रोड के बीच मापा संभावित अंतर, दो धातुओं का समाधान गैलवानी क्षमता के साथ उनके संयोजन की गैलवानी क्षमता के अंतर के बराबर नहीं होता है। क्योंकि सेल और धातु को अंतराफलक में सम्मलित करने की आवश्यकता होती है, जैसा कि [[ बिजली उत्पन्न करनेवाली सेल |बिजली उत्पन्न करने वाली सेल]] के निम्नलिखित आरेख।
वाल्टमीटर का उपयोग करके गैलवानी संभावित अंतर सीधे मापने योग्य नहीं है। सेल में इकट्ठे दो धातु इलेक्ट्रोड के बीच मापा संभावित अंतर, दो धातुओं का समाधान गैलवानी विभव के साथ उनके संयोजन की गैलवानी विभव के अंतर के बराबर नहीं होता है। क्योंकि सेल और धातु को अंतराफलक में सम्मलित करने की आवश्यकता होती है, जैसा कि [[ बिजली उत्पन्न करनेवाली सेल |बिजली उत्पन्न करने वाली सेल]] के निम्नलिखित आरेख।


:एम<sup>(1)</sup> | एस | एम<sup>(2)</sup> | एम<sup>(1)'</sup>
:M<sup>(1)</sup> | S | M<sup>(2)</sup> | M<sup>(1)'</sup>
जहाँ,
जहाँ,
*एम<sup>(1)</sup> और एम<sup>(2)</sup> दो अलग-अलग धातुएँ हैं,
*M<sup>(1)</sup> और M<sup>(2)</sup> दो अलग-अलग धातुएँ हैं,
*एस विद्युतअपघट्य को दर्शाता है,
*S विद्युतअपघट्य को दर्शाता है,
*एम<sup>(1)'</sup> अतिरिक्त धातु है, यहाँ धातु (1) माना जाता है, जिसे परिपथ को बंद करने के लिए डाला जाना चाहिए।
*M<sup>(1)'</sup> अतिरिक्त धातु है, यहाँ धातु (1) माना जाता है, जिसे परिपथ को बंद करने के लिए उपयोग किया जाना चाहिए।
*ऊर्ध्वाधर बार |, चरण सीमा को दर्शाता है।
*ऊर्ध्वाधर चरण सीमा को दर्शाता है।


इसके अतिरिक्त, मापी गई सेल क्षमता को इस प्रकार लिखा जा सकता है।<ref name=Trasatti>{{cite journal |last1=Trasatti |first1=S. |title=The absolute electrode potential: an explanatory note (Recommendations 1986) |journal=Pure and Applied Chemistry |date=1 January 1986 |volume=58 |issue=7 |pages=955–966 |doi=10.1351/pac198658070955 |s2cid=31768829 |doi-access=free }}</ref>
इसके अतिरिक्त, मापी गई सेल विभव को इस प्रकार लिखा जा सकता है।<ref name=Trasatti>{{cite journal |last1=Trasatti |first1=S. |title=The absolute electrode potential: an explanatory note (Recommendations 1986) |journal=Pure and Applied Chemistry |date=1 January 1986 |volume=58 |issue=7 |pages=955–966 |doi=10.1351/pac198658070955 |s2cid=31768829 |doi-access=free }}</ref>
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:<math>E^{(2)} - E^{(1)} = \left(\phi^{(2)} - \phi^{(S)} - \frac {\mu_j^{(2)}} {z_j F}\right) - \left(\phi^{(1)} - \phi^{(S)} - \frac {\mu_j^{(1)}} {z_j F}\right) = \left(\phi^{(2)} - \phi^{(1)}\right) - \left(\frac {\mu_j^{(2)} - \mu_j^{(1)}} {z_j F}\right)
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जहाँ,
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*E एकल इलेक्ट्रोड की क्षमता है,
*E एकल इलेक्ट्रोड की विभव है,
*(एस) विद्युत अपघट्य समाधान को दर्शाता है।
*(S) विद्युत अपघट्य समाधान को दर्शाता है।


उपरोक्त समीकरण से, इलेक्ट्रॉनिक संपर्क में दो धातुओं अर्थात, इलेक्ट्रॉनिक संतुलन के अनुसार में समान इलेक्ट्रोड क्षमता होनी चाहिए।<ref name=Trasatti/>साथ ही, दो धातुओं के भीतर इलेक्ट्रॉनों की विद्युत रासायनिक क्षमता समान होगी। चूंकि, उनकी गैलवानी क्षमता अलग होगी जब तक कि धातु समान न हों।
उपरोक्त समीकरण से, इलेक्ट्रॉनिक संपर्क में दो धातुओं अर्थात, इलेक्ट्रॉनिक संतुलन के अनुसार में समान इलेक्ट्रोड विभव होनी आवश्यक हैं।<ref name=Trasatti/> साथ ही दो धातुओं के भीतर इलेक्ट्रॉनों की विद्युत रासायनिक विभव समान रहती हैं। चूंकि इनकी गैलवानी विभव अलग होगी जब तक कि धातु समान नही होता हैं।


इसके अतिरिक्त, यदि परिभाषित करें <math>\pi</math>, विद्युत क्षमता [6] में इलेक्ट्रोमोटिव क्षमता, जैसा
इसके अतिरिक्त, यदि परिभाषित करें इस प्रकार <math>\pi</math>, विद्युत विभव [6] में इलेक्ट्रोमोटिव विभव, जैसे-
:<math>\pi=-\frac{\mu_e}{F}+\phi</math>,
:<math>\pi=-\frac{\mu_e}{F}+\phi</math>,


जो वोल्ट की इकाइयों में दिए गए इलेक्ट्रॉनों की कम विद्युत रासायनिक क्षमता का प्रभावी रूप से ऋणात्मक है। यह उल्लेखनीय है कि<ref>{{cite journal|last=Virkar|first=Anil V.|title=ठोस ऑक्साइड इलेक्ट्रोलाइज़र कोशिकाओं में ऑक्सीजन इलेक्ट्रोड प्रदूषण का तंत्र|journal=International Journal of Hydrogen Energy|volume=35|issue=18|pages=9527–9543|doi=10.1016/j.ijhydene.2010.06.058|year=2010}}</ref><ref>{{cite journal |last1=Jacobsen|first1=Torben|last2=Mogensen|first2=Mogens|date=2008-12-18|title=ऑक्साइड इलेक्ट्रोलाइट सेल में ऑक्सीजन आंशिक दबाव और विद्युत क्षमता का कोर्स|journal=ECS Transactions|language=en|volume=13|issue=26|pages=259–273|doi=10.1149/1.3050398|bibcode=2008ECSTr..13z.259J|s2cid=97315796|issn=1938-6737|url=http://orbit.dtu.dk/en/publications/the-course-of-oxygen-partial-pressure-and-electric-potentials-across-an-oxide-electrolyte-cell(b35ac21f-ac2f-4907-8a14-bc420661ff91).html}}</ref> निष्क्रिय धातु जांच और वोल्टमीटर का उपयोग करके प्रयोगात्मक रूप से क्या <math>\pi</math> मापता है।
जो वोल्ट की इकाइयों में दिए गए इलेक्ट्रॉनों की कम विद्युत रासायनिक विभव का प्रभावी रूप से ऋणात्मक रहती हैं। यह उल्लेखनीय है कि<ref>{{cite journal|last=Virkar|first=Anil V.|title=ठोस ऑक्साइड इलेक्ट्रोलाइज़र कोशिकाओं में ऑक्सीजन इलेक्ट्रोड प्रदूषण का तंत्र|journal=International Journal of Hydrogen Energy|volume=35|issue=18|pages=9527–9543|doi=10.1016/j.ijhydene.2010.06.058|year=2010}}</ref><ref>{{cite journal |last1=Jacobsen|first1=Torben|last2=Mogensen|first2=Mogens|date=2008-12-18|title=ऑक्साइड इलेक्ट्रोलाइट सेल में ऑक्सीजन आंशिक दबाव और विद्युत क्षमता का कोर्स|journal=ECS Transactions|language=en|volume=13|issue=26|pages=259–273|doi=10.1149/1.3050398|bibcode=2008ECSTr..13z.259J|s2cid=97315796|issn=1938-6737|url=http://orbit.dtu.dk/en/publications/the-course-of-oxygen-partial-pressure-and-electric-potentials-across-an-oxide-electrolyte-cell(b35ac21f-ac2f-4907-8a14-bc420661ff91).html}}</ref> निष्क्रिय धातु जांच और वोल्टमीटर का उपयोग करके प्रयोगात्मक रूप से क्या <math>\pi</math> मापता है।


== यह भी देखें ==
== यह भी देखें ==
* [[पूर्ण [[इलेक्ट्रोड क्षमता]]]]
* पूर्ण [[इलेक्ट्रोड क्षमता|इलेक्ट्रोड विभव]]
* [[इलेक्ट्रोड क्षमता]]
* [[इलेक्ट्रोड क्षमता|इलेक्ट्रोड विभव]]
*[[ITIES|आईटीईएस]] (दो अमिश्रणीय विद्युतअपघट्य समाधानों के बीच अंतराफलक)
*[[ITIES|आईटीईएस]] (दो अमिश्रणीय विद्युतअपघट्य समाधानों के बीच अंतराफलक)
* [[वोल्टा क्षमता]]
* [[वोल्टा क्षमता|वोल्टा विभव]]
* [[डोनन क्षमता]]
* [[डोनन क्षमता|डोनन विभव]]


==संदर्भ==
==संदर्भ==

Revision as of 22:28, 23 March 2023

गलवानी विभव संभावित तिजोरी और सतह की विभव चरण में। दो चरणों के बीच गणना किए गए संबंधित संभावित अंतर।

इलेक्ट्रोकैमिस्ट्री में, गैलवानी विभव जिसे गैलवानी संभावित अंतर अर्ताथ Δφ भी कहा जाता है। मुख्यतः दो पदार्थों के बीच में या दो बिंदुओं के बीच विद्युत संभावित अंतर के रूप में प्रकट किया जाता है [1] ये चरणों में दो अलग-अलग ठोस रूप में होते हैं। जैसे दो धातुएं एक साथ संयोजित होती हैं, इसी प्रकार ठोस और तरल धातुएँ जैसे इलेक्ट्रोड मुख्य रूप से इलेक्ट्रोलाइट में डूबा रहता हैं।

गैलवानी विभव का नाम लुइगी गलवानी के नाम पर रखा गया है।

दो धातुओं के बीच गैलवानी विभव

सबसे पहले, दो धातुओं के बीच गलवानी विभव पर विचार करते हैं। जब दो धातुएं एक दूसरे से विद्युत रूप से पृथक होती हैं, तो उनके बीच एकपक्षीय वोल्टेज अंतर उपस्तिथ हो सकता है। चूंकि जब दो अलग-अलग धातुओं को इलेक्ट्रॉनिक संपर्क में लाया जाता है, तो इलेक्ट्रॉन कम वोल्टेज वाली धातु से उच्च वोल्टेज वाली धातु में तब तक प्रवाहित होंगे, जब तक कि दोनों चरणों के थोक में इलेक्ट्रॉनों का फर्मी स्तर बराबर नहीं रहता हैं। इस प्रकार दोनों चरणों के बीच से निकलने वाले इलेक्ट्रॉनों की वास्तविक संख्या कम होती है, यह वस्तुओं के बीच धारिता पर निर्भर करता है और इलेक्ट्रॉन बैंड के अधिकार व्यावहारिक रूप से अप्रभावित रहते हैं। जबकि, इस छोटे से वृद्धि और कमी के परिणामस्वरूप धातुओं में सभी ऊर्जा स्तरों में परिवर्तित रहता है। दो चरणों के बीच अंतराफलक में विद्युत दोहरी परत (सतह विज्ञान) बनती है।[2] संपर्क में दो अलग-अलग चरणों के बीच विद्युत रासायनिक विभव की समानता को इस प्रकार लिखा जा सकता है।

जहाँ,

  • विद्युत रासायनिक विभव है।
  • j उन प्रजातियों को दर्शाता है जो प्रणाली में विद्युत प्रवाह के वाहक हैं, जो धातुओं में इलेक्ट्रॉन हैं।
  • (1) और (2) क्रमशः चरण 1 और चरण 2 को दर्शाते हैं।

अब, किसी प्रजाति की विद्युत रासायनिक विभव को उसकी रासायनिक विभव और स्थानीय इलेक्ट्रोस्टैटिक विभव के योग के रूप में परिभाषित किया गया है।

जहाँ,

  • μ रासायनिक विभव है।
  • z एकल आवेश वाहक इलेक्ट्रॉनों के लिए एकता द्वारा किया गया विद्युत आवेश है।
  • F फैराडे नियतांक है।
  • Φ इलेक्ट्रोस्टैटिक विभव है।

ऊपर के दो समीकरणों के आधार पर उक्स समीकरण प्राप्त होता हैं जो इस प्रकार हैं।

जहाँ बायीं ओर का अंतर समीकरण (1) और (2) के बीच गैलवानी संभावित अंतर प्राप्त करने के लिए उपयोगी है। इस प्रकार गैलवानी संभावित अंतर पूर्ण रूप से दो चरणों के रासायनिक अंतर से निर्धारित होता है, विशेष रूप से दो चरणों में आवेश वाहकों की रासायनिक विभव के अंतर से प्राप्त होता हैं।

इलेक्ट्रोड और विद्युतअपघट्य अन्य दो विद्युत प्रवाहकीय चरणों के बीच गैलवानी संभावित अंतर समान रूप से बनता है। चूंकि, उपरोक्त समीकरण में रासायनिक विभव को अंतराफलक पर विद्युत रासायनिक प्रतिक्रिया में सम्मलित सभी प्रजातियों को सम्मलित करने की आवश्यकता हो सकती है।

मापा सेल विभव से संबंध

वाल्टमीटर का उपयोग करके गैलवानी संभावित अंतर सीधे मापने योग्य नहीं है। सेल में इकट्ठे दो धातु इलेक्ट्रोड के बीच मापा संभावित अंतर, दो धातुओं का समाधान गैलवानी विभव के साथ उनके संयोजन की गैलवानी विभव के अंतर के बराबर नहीं होता है। क्योंकि सेल और धातु को अंतराफलक में सम्मलित करने की आवश्यकता होती है, जैसा कि बिजली उत्पन्न करने वाली सेल के निम्नलिखित आरेख।

M(1) | S | M(2) | M(1)'

जहाँ,

  • M(1) और M(2) दो अलग-अलग धातुएँ हैं,
  • S विद्युतअपघट्य को दर्शाता है,
  • M(1)' अतिरिक्त धातु है, यहाँ धातु (1) माना जाता है, जिसे परिपथ को बंद करने के लिए उपयोग किया जाना चाहिए।
  • ऊर्ध्वाधर चरण सीमा को दर्शाता है।

इसके अतिरिक्त, मापी गई सेल विभव को इस प्रकार लिखा जा सकता है।[3]

जहाँ,

  • E एकल इलेक्ट्रोड की विभव है,
  • (S) विद्युत अपघट्य समाधान को दर्शाता है।

उपरोक्त समीकरण से, इलेक्ट्रॉनिक संपर्क में दो धातुओं अर्थात, इलेक्ट्रॉनिक संतुलन के अनुसार में समान इलेक्ट्रोड विभव होनी आवश्यक हैं।[3] साथ ही दो धातुओं के भीतर इलेक्ट्रॉनों की विद्युत रासायनिक विभव समान रहती हैं। चूंकि इनकी गैलवानी विभव अलग होगी जब तक कि धातु समान नही होता हैं।

इसके अतिरिक्त, यदि परिभाषित करें इस प्रकार , विद्युत विभव [6] में इलेक्ट्रोमोटिव विभव, जैसे-

,

जो वोल्ट की इकाइयों में दिए गए इलेक्ट्रॉनों की कम विद्युत रासायनिक विभव का प्रभावी रूप से ऋणात्मक रहती हैं। यह उल्लेखनीय है कि[4][5] निष्क्रिय धातु जांच और वोल्टमीटर का उपयोग करके प्रयोगात्मक रूप से क्या मापता है।

यह भी देखें

संदर्भ

  1. IUPAC, Compendium of Chemical Terminology, 2nd ed. (the "Gold Book") (1997). Online corrected version: (2006–) "Galvani potential difference". doi:10.1351/goldbook.G02574
  2. V.S. Bagotsky, "Fundamentals of Electrochemistry", Willey Interscience, 2006.
  3. 3.0 3.1 Trasatti, S. (1 January 1986). "The absolute electrode potential: an explanatory note (Recommendations 1986)". Pure and Applied Chemistry. 58 (7): 955–966. doi:10.1351/pac198658070955. S2CID 31768829.
  4. Virkar, Anil V. (2010). "ठोस ऑक्साइड इलेक्ट्रोलाइज़र कोशिकाओं में ऑक्सीजन इलेक्ट्रोड प्रदूषण का तंत्र". International Journal of Hydrogen Energy. 35 (18): 9527–9543. doi:10.1016/j.ijhydene.2010.06.058.
  5. Jacobsen, Torben; Mogensen, Mogens (2008-12-18). "ऑक्साइड इलेक्ट्रोलाइट सेल में ऑक्सीजन आंशिक दबाव और विद्युत क्षमता का कोर्स". ECS Transactions (in English). 13 (26): 259–273. Bibcode:2008ECSTr..13z.259J. doi:10.1149/1.3050398. ISSN 1938-6737. S2CID 97315796.