फर्नेस एनील: Difference between revisions
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फर्नेस एनीलिंग फैब्रिकेशन ([[ अर्धचालक ]]) में उपयोग की जाने वाली एक प्रक्रिया है जिसमें उनके विद्युत गुणों को प्रभावित करने के लिए कई | फर्नेस एनीलिंग फैब्रिकेशन ([[ अर्धचालक ]]) में उपयोग की जाने वाली एक प्रक्रिया है जिसमें उनके विद्युत गुणों को प्रभावित करने के लिए कई अर्धचालक [[वेफर (इलेक्ट्रॉनिक्स)]] को गर्म करना सम्मिलित है। ऊष्मा उपचार विभिन्न प्रभावों के लिए रचना किए गए हैं। डोपेंट को सक्रिय करने के लिए वेफर्स को गर्म किया जा सकता है सब्सट्रेट इंटरफेस को वेफर करने के लिए फिल्म को फिल्म या फिल्म में बदल सकते हैं जमा फिल्मों को सघन कर सकते हैं बढ़ी हुई फिल्मों की स्थिति बदल सकते हैं, [[आयन आरोपण]] से क्षति की सुधार कर सकते हैं डोपेंट को स्थानांतरित कर सकते हैं या डोपेंट को एक फिल्म से दूसरी या एक से ड्राइव कर सकते हैं। वेफर सब्सट्रेट में फिल्म आयन आरोपण प्रक्रिया के समय उच्च ऊर्जा आयनों के साथ बमबारी के कारण क्रिस्टल सब्सट्रेट क्षतिग्रस्त हो जाता है। क्रिस्टल को उच्च तापमान पर रखकर क्षति की सुधार की जा सकती है। इस प्रक्रिया को एनीलिंग कहा जाता है। फर्नेस एनील्स को अन्य फर्नेस प्रसंस्करण चरणों में एकीकृत किया जा सकता है, जैसे ऑक्सीकरण या स्वयं को संसाधित किया जा सकता है। | ||
फर्नेस एनील्स विशेष रूप से | फर्नेस एनील्स विशेष रूप से अर्धचालक वेफर्स को गर्म करने के लिए बनाए गए उपकरणों द्वारा किया जाता है। फर्नेस एक समय में कई वेफर्स को संसाधित करने में सक्षम हैं किंतु प्रत्येक प्रक्रिया कई घंटों और एक दिन के बीच चल सकती है। तेजी से [[रैपिड थर्मल एनील]] (आरटीए) या [[ तेजी से थर्मल प्रसंस्करण |तेजी से थर्मल प्रसंस्करण]] (आरटीपी) द्वारा फर्नेस एनील्स की आपूर्ति की जा रही है। यह भट्टियों के अपेक्षाकृत लंबे तापीय चक्रों के कारण होता है जो सक्रिय होने वाले डोपेंट का कारण बनता है विशेष रूप से बोरॉन उद्देश्य से कहीं अधिक फैलाने के लिए आरटीपी या आरटीए प्रत्येक वेफर के लिए थर्मल चक्र होने से इसे ठीक करता है जो भट्टी के एनील्स के लिए घंटों के अतिरिक्त मिनटों के क्रम का होता है। | ||
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* [http://www.cec-intl.com/annealing_furnaces.php समेकित इंजीनियरिंग कंपनी] {{Webarchive|url=https://web.archive.org/web/20131105143935/http://www.cec-intl.com/annealing_furnaces.php |date=2013-11-05 }} एनीलिंग भट्टियां स्टील और एल्यूमीनियम अनुप्रयोगों की एक विस्तृत श्रृंखला को | * [http://www.cec-intl.com/annealing_furnaces.php समेकित इंजीनियरिंग कंपनी] {{Webarchive|url=https://web.archive.org/web/20131105143935/http://www.cec-intl.com/annealing_furnaces.php |date=2013-11-05 }} एनीलिंग भट्टियां स्टील और एल्यूमीनियम अनुप्रयोगों की एक विस्तृत श्रृंखला को आवरण करती हैं, जिसमें तड़के सामान्यीकरण और उम्र बढ़ने, और इसी तरह की स्वचालित लोडिंग, अनलोडिंग और रोलर चूल्हा, टिप-अप या बैच व्यवस्था के साथ प्राकृतिक या विवश शीतलन संभव है। | ||
* [http://www.crystec.com/kllprode.htm कोयो थर्मो सिस्टम] | * [http://www.crystec.com/kllprode.htm कोयो थर्मो सिस्टम] अर्धचालक, सौर, डिस्प्ले और इलेक्ट्रॉनिक अनुप्रयोगों के लिए एनीलिंग भट्टियां | ||
* [http://www.tel.com | * [http://www.tel.com टोक्यो इलेक्ट्रॉन लिमिटेड] टेलफॉर्मुला और टेलिंडी प्लस | ||
* [https://web.archive.org/web/20131017173147/http://www.tentorio.com/english.html] एनीलिंग फर्नेस - हाई या लो कार्बन स्टील वायर या स्ट्रिप, लो कार्बन और अलॉय स्टील के लिए। | * [https://web.archive.org/web/20131017173147/http://www.tentorio.com/english.html] एनीलिंग फर्नेस - हाई या लो कार्बन स्टील वायर या स्ट्रिप, लो कार्बन और अलॉय स्टील के लिए। | ||
* [https://wwww.futekfurnace.com] एनवीएम, टीएफएच, मैग्नेटिक सेंसर और इंडक्टर्स सहित | * [https://wwww.futekfurnace.com] एनवीएम, टीएफएच, मैग्नेटिक सेंसर और इंडक्टर्स सहित अर्धचालक अनुप्रयोगों के लिए एनीलिंग फर्नेस। | ||
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Latest revision as of 17:23, 13 July 2023
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 Anneal furnace, 2018 |
फर्नेस एनीलिंग फैब्रिकेशन (अर्धचालक ) में उपयोग की जाने वाली एक प्रक्रिया है जिसमें उनके विद्युत गुणों को प्रभावित करने के लिए कई अर्धचालक वेफर (इलेक्ट्रॉनिक्स) को गर्म करना सम्मिलित है। ऊष्मा उपचार विभिन्न प्रभावों के लिए रचना किए गए हैं। डोपेंट को सक्रिय करने के लिए वेफर्स को गर्म किया जा सकता है सब्सट्रेट इंटरफेस को वेफर करने के लिए फिल्म को फिल्म या फिल्म में बदल सकते हैं जमा फिल्मों को सघन कर सकते हैं बढ़ी हुई फिल्मों की स्थिति बदल सकते हैं, आयन आरोपण से क्षति की सुधार कर सकते हैं डोपेंट को स्थानांतरित कर सकते हैं या डोपेंट को एक फिल्म से दूसरी या एक से ड्राइव कर सकते हैं। वेफर सब्सट्रेट में फिल्म आयन आरोपण प्रक्रिया के समय उच्च ऊर्जा आयनों के साथ बमबारी के कारण क्रिस्टल सब्सट्रेट क्षतिग्रस्त हो जाता है। क्रिस्टल को उच्च तापमान पर रखकर क्षति की सुधार की जा सकती है। इस प्रक्रिया को एनीलिंग कहा जाता है। फर्नेस एनील्स को अन्य फर्नेस प्रसंस्करण चरणों में एकीकृत किया जा सकता है, जैसे ऑक्सीकरण या स्वयं को संसाधित किया जा सकता है।
फर्नेस एनील्स विशेष रूप से अर्धचालक वेफर्स को गर्म करने के लिए बनाए गए उपकरणों द्वारा किया जाता है। फर्नेस एक समय में कई वेफर्स को संसाधित करने में सक्षम हैं किंतु प्रत्येक प्रक्रिया कई घंटों और एक दिन के बीच चल सकती है। तेजी से रैपिड थर्मल एनील (आरटीए) या तेजी से थर्मल प्रसंस्करण (आरटीपी) द्वारा फर्नेस एनील्स की आपूर्ति की जा रही है। यह भट्टियों के अपेक्षाकृत लंबे तापीय चक्रों के कारण होता है जो सक्रिय होने वाले डोपेंट का कारण बनता है विशेष रूप से बोरॉन उद्देश्य से कहीं अधिक फैलाने के लिए आरटीपी या आरटीए प्रत्येक वेफर के लिए थर्मल चक्र होने से इसे ठीक करता है जो भट्टी के एनील्स के लिए घंटों के अतिरिक्त मिनटों के क्रम का होता है।
उपकरण
- समेकित इंजीनियरिंग कंपनी Archived 2013-11-05 at the Wayback Machine एनीलिंग भट्टियां स्टील और एल्यूमीनियम अनुप्रयोगों की एक विस्तृत श्रृंखला को आवरण करती हैं, जिसमें तड़के सामान्यीकरण और उम्र बढ़ने, और इसी तरह की स्वचालित लोडिंग, अनलोडिंग और रोलर चूल्हा, टिप-अप या बैच व्यवस्था के साथ प्राकृतिक या विवश शीतलन संभव है।
- कोयो थर्मो सिस्टम अर्धचालक, सौर, डिस्प्ले और इलेक्ट्रॉनिक अनुप्रयोगों के लिए एनीलिंग भट्टियां
- टोक्यो इलेक्ट्रॉन लिमिटेड टेलफॉर्मुला और टेलिंडी प्लस
- [1] एनीलिंग फर्नेस - हाई या लो कार्बन स्टील वायर या स्ट्रिप, लो कार्बन और अलॉय स्टील के लिए।
- [2] एनवीएम, टीएफएच, मैग्नेटिक सेंसर और इंडक्टर्स सहित अर्धचालक अनुप्रयोगों के लिए एनीलिंग फर्नेस।
अर्धचालक उपकरण निर्माण
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