एसएमआईएफ (इंटरफ़ेस): Difference between revisions
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[[File:6_inch_SMIF_POD.jpg|thumb|6 वेफर्स के लिए SMIF POD]] | [[File:6_inch_SMIF_POD.jpg|thumb|6 वेफर्स के लिए SMIF POD]]SMIF ('''एसएमआईएफ''' '''स्टैंडर्ड मैकेनिकल इंटरफ़ेस''') एक अलगाव तकनीक है जिसे 1980 के दशक में [[ऊँचा खंभा|पालो अल्टो]] में [[ हेवलेट पैकर्ड ]] में <nowiki>''माइक्रोनॉट्स''</nowiki> के रूप में जाने जाने वाले समूह द्वारा विकसित किया गया था। इस प्रणाली का उपयोग [[ अर्द्ध |अर्धचालक]] [[वेफर (इलेक्ट्रॉनिक्स)]] निर्माण और [[ साफ कमरा |साफ कमरा (क्लीन रूम)]] वातावरण में किया जाता है। यह एक SEMI मानक है.<ref>https://store-us.semi.org/products/e01900-semi-e19-specification-for-standard-mechanical-interface-smif?_pos=1&_sid=4b6273910&_ss=r E19-0417</ref> | ||
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प्रत्येक एसएमआईएफ पॉड में एक वेफर कैसेट होता है जिसमें वेफर्स क्षैतिज रूप से संग्रहीत होते हैं। पॉड की निचली सतह खुलने वाला दरवाज़ा है, और जब एक SMIF पॉड को लोड पोर्ट पर रखा जाता है, नीचे के दरवाजे और कैसेट को उपकरण में उतारा जाता है ताकि वेफर्स को हटाया जा सके। | प्रत्येक एसएमआईएफ पॉड में एक वेफर कैसेट होता है जिसमें वेफर्स क्षैतिज रूप से संग्रहीत होते हैं। पॉड की निचली सतह खुलने वाला दरवाज़ा है, और जब एक SMIF पॉड को लोड पोर्ट पर रखा जाता है, नीचे के दरवाजे और कैसेट को उपकरण में उतारा जाता है ताकि वेफर्स को हटाया जा सके। | ||
[[ अर्द्ध |अर्धचालक]] फैब्रिकेशन वातावरण में एसएमआईएफ पॉड्स द्वारा वेफर्स और रेटिकल्स दोनों को संभाला जा सकता है। लिथोग्राफिक टूल, रेटिकल्स या [[फोटोमास्क]] में प्रयुक्त छवि में वह छवि होती है जो पूर्ण एकीकृत अर्धचालक विनिर्माण चक्र के एक प्रसंस्करण चरण में एक लेपित वेफर पर उजागर होती है। चूँकि रेटिकल्स सीधे तौर पर वेफर प्रसंस्करण से जुड़े होते हैं, इसलिए उन्हें संदूषण से बचाने या लिथो टूल में संदूषण का स्रोत होने से बचाने के लिए भी कदम उठाने की आवश्यकता होती है। एसएमआईएफ का उपयोग सामान्यतः 200 मिमी से बड़े वेफर्स के लिए किया जाता है, जो 300 मिमी वेफर्स के लिए [[FOUP]] ('''फ्रं'''ट '''ओ'''पनिंग '''यू'''निफाइड '''पॉ'''ड) (एफओयूपी) के बराबर है। 300 मिमी वेफर्स के अधिक लचीलेपन का | [[ अर्द्ध |अर्धचालक]] फैब्रिकेशन वातावरण में एसएमआईएफ पॉड्स द्वारा वेफर्स और रेटिकल्स दोनों को संभाला जा सकता है। लिथोग्राफिक टूल, रेटिकल्स या [[फोटोमास्क]] में प्रयुक्त छवि में वह छवि होती है जो पूर्ण एकीकृत अर्धचालक विनिर्माण चक्र के एक प्रसंस्करण चरण में एक लेपित वेफर पर उजागर होती है। चूँकि रेटिकल्स सीधे तौर पर वेफर प्रसंस्करण से जुड़े होते हैं, इसलिए उन्हें संदूषण से बचाने या लिथो टूल में संदूषण का स्रोत होने से बचाने के लिए भी कदम उठाने की आवश्यकता होती है। एसएमआईएफ का उपयोग सामान्यतः 200 मिमी से बड़े वेफर्स के लिए किया जाता है, जो 300 मिमी वेफर्स के लिए [[FOUP]] ('''फ्रं'''ट '''ओ'''पनिंग '''यू'''निफाइड '''पॉ'''ड) (एफओयूपी) के बराबर है। 300 मिमी वेफर्स के अधिक लचीलेपन का तात्पर्य है कि 300 मिमी के लिए एसएमआईएफ तकनीक और डिजाइन का उपयोग करना संभव नहीं है, यही एफओयूपी के उद्भव का कारण है। SEMI E47.1-1106 सहित कई FOUP SEMI मानक,<ref>{{Cite web|url=https://store-us.semi.org/products/e04701-semi-e47-1-mechanical-specification-for-foups-used-to-transport-and-store-300-mm-wafers?_pos=1&_sid=62f232782&_ss=r|title = E04701 - SEMI E47.1 - Mechanical Specification for FOUPS Used to Transport and Store 300 mm Wafers}}</ref> 300 और 450 मिमी वेफर्स दोनों से संबंधित हैं। | ||
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Revision as of 12:29, 16 August 2023
SMIF (एसएमआईएफ स्टैंडर्ड मैकेनिकल इंटरफ़ेस) एक अलगाव तकनीक है जिसे 1980 के दशक में पालो अल्टो में हेवलेट पैकर्ड में ''माइक्रोनॉट्स'' के रूप में जाने जाने वाले समूह द्वारा विकसित किया गया था। इस प्रणाली का उपयोग अर्धचालक वेफर (इलेक्ट्रॉनिक्स) निर्माण और साफ कमरा (क्लीन रूम) वातावरण में किया जाता है। यह एक SEMI मानक है.[1]
विकास
मुख्य विकास टीम का नेतृत्व मिहिर पारिख के निर्देशन में इंजीनियरिंग प्रबंधक के रूप में उलरिच कैम्फ ने किया था। प्रौद्योगिकी विकसित करने वाली मुख्य टीम बार्कले टुलिस द्वारा संचालित थी, जिनके पास अधिकांश पेटेंट थे, डेव थ्रैशर, जो बाद में सिलिकॉन वैली समूह में सम्मिलित हो गए, और थॉमस एटिसन, बार्कले टुलिस के निर्देशन में तकनीकी स्टाफ के सदस्य थे। मिहिर ने बाद में SEMI को प्रौद्योगिकी प्रदान की, और फिर अपने लिए एक प्रति का लाइसेंस लिया, और प्रौद्योगिकी को व्यावसायिक रूप से प्रदान करने के लिए असिस्ट टेक्नोलॉजीज को विकसित किया था। इसके बाद ब्रूक्स ऑटोमेशन ने अपने वर्सापोर्ट में असिस्ट तकनीक का अधिग्रहण किया था। अधिग्रहण के बाद इंटरफ़ेस वही हैl
उपयोग
एसएमआईएफ (SMIF) पॉड्स का उद्देश्य नियंत्रित वायु प्रवाह, दबाव और कण गणना के साथ लघु वातावरण प्रदान करके वेफर्स को संदूषण से अलग करना है। एसएमआईएफ पॉड्स को उत्पादन उपकरण पर स्वचालित मैकेनिकल इंटरफेस द्वारा एक्सेस किया जा सकता है। इसलिए वेफर्स सावधानीपूर्वक नियंत्रित वातावरण में रहते हैं, चाहे वह एसएमआईएफ पॉड में हो या उपकरण में, आसपास के वायु प्रवाह के संपर्क में आए बिना।
प्रत्येक एसएमआईएफ पॉड में एक वेफर कैसेट होता है जिसमें वेफर्स क्षैतिज रूप से संग्रहीत होते हैं। पॉड की निचली सतह खुलने वाला दरवाज़ा है, और जब एक SMIF पॉड को लोड पोर्ट पर रखा जाता है, नीचे के दरवाजे और कैसेट को उपकरण में उतारा जाता है ताकि वेफर्स को हटाया जा सके।
अर्धचालक फैब्रिकेशन वातावरण में एसएमआईएफ पॉड्स द्वारा वेफर्स और रेटिकल्स दोनों को संभाला जा सकता है। लिथोग्राफिक टूल, रेटिकल्स या फोटोमास्क में प्रयुक्त छवि में वह छवि होती है जो पूर्ण एकीकृत अर्धचालक विनिर्माण चक्र के एक प्रसंस्करण चरण में एक लेपित वेफर पर उजागर होती है। चूँकि रेटिकल्स सीधे तौर पर वेफर प्रसंस्करण से जुड़े होते हैं, इसलिए उन्हें संदूषण से बचाने या लिथो टूल में संदूषण का स्रोत होने से बचाने के लिए भी कदम उठाने की आवश्यकता होती है। एसएमआईएफ का उपयोग सामान्यतः 200 मिमी से बड़े वेफर्स के लिए किया जाता है, जो 300 मिमी वेफर्स के लिए FOUP (फ्रंट ओपनिंग यूनिफाइड पॉड) (एफओयूपी) के बराबर है। 300 मिमी वेफर्स के अधिक लचीलेपन का तात्पर्य है कि 300 मिमी के लिए एसएमआईएफ तकनीक और डिजाइन का उपयोग करना संभव नहीं है, यही एफओयूपी के उद्भव का कारण है। SEMI E47.1-1106 सहित कई FOUP SEMI मानक,[2] 300 और 450 मिमी वेफर्स दोनों से संबंधित हैं।
यह भी देखें
- सेमीकंडक्टर डिवाइस निर्माण
- फोटोमास्क
संदर्भ
बाहरी संबंध
- Semiconductor Equipment and Materials International - SEMI the semiconductor industry trade association
- Entegris wafer and reticle handling systems
- Fortrend Engineering
