पोरोसिमेट्री: Difference between revisions
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पोरोसिमेट्री एक विश्लेषणात्मक तकनीक है जिसका उपयोग किसी सामग्री की | '''छिद्रतामापी (पोरोसिमेट्री)''' एक विश्लेषणात्मक तकनीक है जिसका उपयोग किसी सामग्री की छिद्रपूर्ण संरचना के विभिन्न मात्रात्मक पहलुओं को निर्धारित करने के लिए किया जाता है, जैसे कि छिद्र व्यास, कुल छिद्र मात्रा, सतह क्षेत्र और विस्तृत और पूर्ण घनत्व हैं। | ||
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Latest revision as of 10:40, 30 May 2023
छिद्रतामापी (पोरोसिमेट्री) एक विश्लेषणात्मक तकनीक है जिसका उपयोग किसी सामग्री की छिद्रपूर्ण संरचना के विभिन्न मात्रात्मक पहलुओं को निर्धारित करने के लिए किया जाता है, जैसे कि छिद्र व्यास, कुल छिद्र मात्रा, सतह क्षेत्र और विस्तृत और पूर्ण घनत्व हैं।
इस तकनीक में एक पोरोसिमीटर के उपयोग के माध्यम से सामग्री में उच्च दबाव पर गैर-गीले द्रव पारा (तत्व) की समावेश सम्मिलित है। छिद्र का आकार द्रव की सतह के तनाव के विरोधी बल के खिलाफ द्रव को एक छिद्र में डालने के लिए आवश्यक बाहरी दबाव से निर्धारित किया जा सकता है।
सिलेंडर (ज्यामिति) छिद्र वाले उपरोक्त सामग्री के लिए वाशबर्न के समीकरण के रूप में जाना जाने वाला एक बल संतुलन समीकरण इस प्रकार दिया गया है:[1]
- = द्रव का दबाव
- = गैस का दबाव
- = द्रव का पृष्ठ तनाव
- = घुसपैठ द्रव का संपर्क कोण
- = छिद्र व्यास
चूंकि तकनीक सामान्यतया निर्वात (वैक्यूम) के अन्दर की जाती है, इसलिए प्रारंभिक गैस का दबाव शून्य होता है। अधिकांश दृढ़ पदार्थों के साथ बुध (तत्व) का संपर्क कोण 135° और 142° के मध्य मे होता है, इसलिए बिना अधिक त्रुटि के 140° का औसत लिया जा सकता है। निर्वात में 20°C पर पारे का पृष्ठ तनाव 480 मिलीन्यूटन/मीटर है। विभिन्न प्रतिस्थापनों के साथ, समीकरण बनता है:
जैसे-जैसे दबाव बढ़ता है, वैसे-वैसे संचयी छिद्र आयतन भी बढ़ता है। संचयी छिद्र आयतन से, दबाव और छिद्र व्यास का पता लगाया जा सकता है, जहां औसत छिद्र व्यास देने के लिए कुल आयतन का 50% जोड़ा गया है।
यह भी देखें
- बीईटी सिद्धांत, विशिष्ट सतह का माप
- इवापोपोरोमेट्री
- सरंध्रता
- लकड़ी की धातु, छिद्र संरचना संसेचन और प्रतिकृति के लिए भी इंजेक्ट की जाती है
संदर्भ
- ↑ Abell, A.B.; Willis, K.L.; Lange, D.A. (1999). "पारा घुसपैठ पोरोसिमेट्री और सीमेंट आधारित सामग्री का छवि विश्लेषण". Journal of Colloid and Interface Science. 211 (1): 39–44. doi:10.1006/jcis.1998.5986. ISSN 0021-9797.
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