स्थानांतरण-मैट्रिक्स विधि (प्रकाशिकी): Difference between revisions

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[[Image:Etalon-1-corr.svg|thumb|एक परत के माध्यम से किरण (प्रकाशिकी) का संचरण]]'''स्थानांतरण-आव्यूह विधि''' [[स्तरीकृत माध्यम]] के माध्यम से [[विद्युत चुम्बकीय तरंग]] या [[ध्वनिक तरंग|ध्वनिक तरंगों]] के संचरण का विश्लेषण करने के लिए [[प्रकाशिकी]] और ध्वनिकी में उपयोग की जाने वाली विधि है।<ref>Born, M.; Wolf, E., ''[[Principles of Optics|Principles of optics: electromagnetic theory of propagation, interference and diffraction of light]]''.  Oxford, Pergamon Press, 1964.</ref><ref> Mackay, T. G.; Lakhtakia, A., ''The Transfer-Matrix Method in Electromagnetics and Optics''.  San Rafael, CA, Morgan and Claypool, 2020. {{doi|10.2200/S00993ED1V01Y202002EMA001}}</ref> यह, उदाहरण के लिए, विरोधी-चिंतनशील लेपन और [[ढांकता हुआ दर्पण|अचालक दर्पणों]] के डिजाइन के लिए प्रासंगिक है।
[[Image:Etalon-1-corr.svg|thumb|एक परत के माध्यम से किरण (प्रकाशिकी) का संचरण]]'''स्थानांतरण-आव्यूह विधि''' [[स्तरीकृत माध्यम]] के माध्यम से [[विद्युत चुम्बकीय तरंग]] या [[ध्वनिक तरंग|ध्वनिक तरंगों]] के संचरण का विश्लेषण करने के लिए [[प्रकाशिकी]] और ध्वनिकी में उपयोग की जाने वाली विधि है।<ref>Born, M.; Wolf, E., ''[[Principles of Optics|Principles of optics: electromagnetic theory of propagation, interference and diffraction of light]]''.  Oxford, Pergamon Press, 1964.</ref><ref> Mackay, T. G.; Lakhtakia, A., ''The Transfer-Matrix Method in Electromagnetics and Optics''.  San Rafael, CA, Morgan and Claypool, 2020. {{doi|10.2200/S00993ED1V01Y202002EMA001}}</ref> यह, उदाहरण के लिए, विरोधी-चिंतनशील लेपन और [[ढांकता हुआ दर्पण|अचालक दर्पणों]] के डिजाइन के लिए प्रासंगिक है।


दो माध्यमों (प्रकाशिक) के बीच एकल अंतरापृष्ठ से प्रकाश का परावर्तन (भौतिकी) [[फ्रेस्नेल समीकरण|फ्रेस्नेल समीकरणों]] द्वारा वर्णित है। यद्यपि, जब कई विकिपीडिया: अंतरापृष्ठ होते हैं, जैसे कि चित्र में, प्रतिबिंब स्वयं भी आंशिक रूप से संचरित होते हैं और फिर आंशिक रूप से परिलक्षित होते हैं। यथार्थ पथ लंबाई के आधार पर, ये प्रतिबिंब विनाशकारी या रचनात्मक रूप से व्यतिकरण (तरंग संचरण) कर सकते हैं। परत संरचना का समग्र प्रतिबिंब प्रतिबिंबों की अनंत संख्या का योग है।
इस प्रकार से दो माध्यमों (प्रकाशिक) के बीच एकल अंतरापृष्ठ से प्रकाश का परावर्तन (भौतिकी) [[फ्रेस्नेल समीकरण|फ्रेस्नेल समीकरणों]] द्वारा वर्णित है। यद्यपि, जब कई विकिपीडिया: अंतरापृष्ठ होते हैं, जैसे कि चित्र में, प्रतिबिंब स्वयं भी आंशिक रूप से संचरित होते हैं और फिर आंशिक रूप से परिलक्षित होते हैं। यथार्थ पथ लंबाई के आधार पर, ये प्रतिबिंब विनाशकारी या रचनात्मक रूप से व्यतिकरण (तरंग संचरण) कर सकते हैं। परत संरचना का समग्र प्रतिबिंब प्रतिबिंबों की अनंत संख्या का योग है।


स्थानांतरण-आव्यूह विधि इस तथ्य पर आधारित है कि, मैक्सवेल के समीकरणों के अनुसार, [[विद्युत क्षेत्र]] के लिए माध्यम से दूसरे माध्यम की सीमाओं के पार सरल निरंतरता की स्थिति होती है। यदि क्षेत्र परत के प्रारंभ में जाना जाता है, तो परत के अंत में क्षेत्र को साधारण [[मैट्रिक्स (गणित)|आव्यूह (गणित)]] संक्रिया से प्राप्त किया जा सकता है। परतों के स्तंभ को तब प्रणाली आव्यूह के रूप में दर्शाया जा सकता है, जो व्यक्तिगत परत आव्यूह का उत्पाद है। विधि के अंतिम चरण में प्रणाली आव्यूह को प्रतिबिंब और [[संचरण गुणांक]] में परिवर्तित करना सम्मिलित है।
अतः स्थानांतरण-आव्यूह विधि इस तथ्य पर आधारित है कि, मैक्सवेल के समीकरणों के अनुसार, [[विद्युत क्षेत्र]] के लिए माध्यम से दूसरे माध्यम की सीमाओं के पार सरल निरंतरता की स्थिति होती है। इस प्रकार से यदि क्षेत्र परत के प्रारंभ में जाना जाता है, तो परत के अंत में क्षेत्र को साधारण [[मैट्रिक्स (गणित)|आव्यूह (गणित)]] संक्रिया से प्राप्त किया जा सकता है। अतः परतों के स्तंभ को तब प्रणाली आव्यूह के रूप में दर्शाया जा सकता है, जो व्यक्तिगत परत आव्यूह का उत्पाद है। विधि के अंतिम चरण में प्रणाली आव्यूह को प्रतिबिंब और [[संचरण गुणांक]] में परिवर्तित करना सम्मिलित है।


== विद्युत चुम्बकीय तरंगों के लिए औपचारिकता ==
== विद्युत चुम्बकीय तरंगों के लिए औपचारिकता ==


नीचे वर्णित किया गया है कि सतह के सामान्य पर परतों के स्तंभ के माध्यम से संचरित [[आवृत्ति]] के विद्युत चुम्बकीय तरंगों (उदाहरण के लिए प्रकाश) पर स्थानांतरण आव्यूह कैसे लागू होता है। यह कोण, [[अवशोषण (विद्युत चुम्बकीय विकिरण)]], और [[पारगम्यता (विद्युत चुंबकत्व)]] के साथ मीडिया पर घटना से निपटने के लिए सामान्यीकृत किया जा सकता है। हम मानते हैं कि स्तंभ परतें <math>z\,</math>, सामान्य हैं अक्ष के लिए सामान्य हैं और एक परत के भीतर के क्षेत्र को [[तरंग संख्या]] <math>k\,</math>,
इस प्रकार से नीचे वर्णित किया गया है कि सतह के सामान्य पर परतों के स्तंभ के माध्यम से संचरित [[आवृत्ति]] के विद्युत चुम्बकीय तरंगों (उदाहरण के लिए प्रकाश) पर स्थानांतरण आव्यूह कैसे लागू होता है। यह कोण, [[अवशोषण (विद्युत चुम्बकीय विकिरण)]], और [[पारगम्यता (विद्युत चुंबकत्व)]] के साथ मीडिया पर घटना से निपटने के लिए सामान्यीकृत किया जा सकता है। अतः हम मानते हैं कि स्तंभ परतें <math>z\,</math>, सामान्य हैं अक्ष के लिए सामान्य हैं और एक परत के भीतर के क्षेत्र को [[तरंग संख्या]] <math>k\,</math>,
:<math>E(z) = E_r e^{ikz} + E_l e^{-ikz}\,</math> के साथ बाएं और दाएं यात्रा करने वाली तरंग के अधिस्थापन के रूप में दर्शाया जा सकता है।
:<math>E(z) = E_r e^{ikz} + E_l e^{-ikz}\,</math> के साथ बाएं और दाएं यात्रा करने वाली तरंग के अधिस्थापन के रूप में दर्शाया जा सकता है।
क्योंकि मैक्सवेल के समीकरण से यह पता चलता है कि विद्युत क्षेत्र <math>E\,</math> और चुंबकीय क्षेत्र (इसका सामान्यीकृत व्युत्पन्न) <math display=inline>H=\frac{1}{ik} Z_c \frac{dE}{dz}\,</math> एक सीमा के पार निरंतर होना चाहिए, क्षेत्र को सदिश <math display="inline">(E(z),H(z))\,</math> के रूप में प्रस्तुत करना सुविधाजनक है, जहाँ
क्योंकि मैक्सवेल के समीकरण से यह पता चलता है कि विद्युत क्षेत्र <math>E\,</math> और चुंबकीय क्षेत्र (इसका सामान्यीकृत व्युत्पन्न) <math display=inline>H=\frac{1}{ik} Z_c \frac{dE}{dz}\,</math> एक सीमा के पार निरंतर होना चाहिए, क्षेत्र को सदिश <math display="inline">(E(z),H(z))\,</math> के रूप में प्रस्तुत करना सुविधाजनक है, जहाँ
:<math>H(z) = \frac{1}{Z_c} E_r e^{ikz} - \frac{1}{Z_c} E_l e^{-ikz}\,</math>।
:<math>H(z) = \frac{1}{Z_c} E_r e^{ikz} - \frac{1}{Z_c} E_l e^{-ikz}\,</math>।
चूंकि <math>E\,</math> और <math>H\,</math> से <math>E_r\,</math> और <math>E_l\,</math> से संबंधित दो समीकरण हैं, ये दोनों निरूपण समतुल्य हैं। नवीन प्रतिनिधित्व में, दूरी <math>L\,</math> पर <math>z\,</math> की धनात्मक दिशा में संचरण,[[विशेष रैखिक समूह]] {{nowrap|SL(''2'', '''C''')}}
चूंकि <math>E\,</math> और <math>H\,</math> से <math>E_r\,</math> और <math>E_l\,</math> से संबंधित दो समीकरण हैं, ये दोनों निरूपण समतुल्य हैं। इस प्रकार से नवीन प्रतिनिधित्व में, दूरी <math>L\,</math> पर <math>z\,</math> की धनात्मक दिशा में संचरण,[[विशेष रैखिक समूह]] {{nowrap|SL(''2'', '''C''')}}
:<math>M = \left( \begin{array}{cc} \cos kL & i Z_c \sin kL \\ \frac{i}{Z_c} \sin kL & \cos kL \end{array} \right),</math>
:<math>M = \left( \begin{array}{cc} \cos kL & i Z_c \sin kL \\ \frac{i}{Z_c} \sin kL & \cos kL \end{array} \right),</math>
और
और
:<math>\left(\begin{array}{c} E(z+L) \\ H(z+L) \end{array} \right) =
:<math>\left(\begin{array}{c} E(z+L) \\ H(z+L) \end{array} \right) =
   M\cdot  \left(\begin{array}{c} E(z) \\ H(z) \end{array} \right)</math> से संबंधित आव्यूह द्वारा वर्णित किया गया है।
   M\cdot  \left(\begin{array}{c} E(z) \\ H(z) \end{array} \right)</math> से संबंधित आव्यूह द्वारा वर्णित किया गया है।
ऐसा आव्यूह परत के माध्यम से संचरण का प्रतिनिधित्व कर सकता है यदि <math>k\,</math> माध्यम में तरंग संख्या है और <math>L\,</math>, परत की मोटाई है: <math>N\,</math> परतों वाले प्रणाली के लिए, प्रत्येक परत <math>j\,</math> में स्थानांतरण आव्यूह <math>M_j\,</math> होता है, जहां <math>j\,</math> उच्चतर <math>z\,</math> मान की ओर बढ़ता है। प्रणाली स्थानांतरण आव्यूह तब
ऐसा आव्यूह परत के माध्यम से संचरण का प्रतिनिधित्व कर सकता है यदि <math>k\,</math> माध्यम में तरंग संख्या है और <math>L\,</math>, परत की मोटाई है: <math>N\,</math> परतों वाले प्रणाली के लिए, प्रत्येक परत <math>j\,</math> में स्थानांतरण आव्यूह <math>M_j\,</math> होता है, जहां <math>j\,</math> उच्चतर <math>z\,</math> मान की ओर बढ़ता है। इस प्रकार से प्रणाली स्थानांतरण आव्यूह तब
:<math>M_s = M_N \cdot \ldots \cdot M_2 \cdot M_1</math> है।
:<math>M_s = M_N \cdot \ldots \cdot M_2 \cdot M_1</math> है।
सामान्यतः, कोई भी परत संरचना के [[प्रतिबिंब|परावर्तकता]] और संप्रेषण को जानना चाहेगा। यदि परत स्तंभ <math>z=0\,</math>से प्रारंभ होता है, तो ऋणात्मक <math>z\,</math> के लिए, क्षेत्र को
सामान्यतः, कोई भी परत संरचना के [[प्रतिबिंब|परावर्तकता]] और संप्रेषण को जानना चाहेगा। इस प्रकार से यदि परत स्तंभ <math>z=0\,</math>से प्रारंभ होता है, तो ऋणात्मक <math>z\,</math> के लिए, क्षेत्र को
:<math>E_L(z) = E_0 e^{ik_Lz} + r E_0 e^{-ik_Lz},\qquad z<0,</math>
:<math>E_L(z) = E_0 e^{ik_Lz} + r E_0 e^{-ik_Lz},\qquad z<0,</math>
जहाँ <math>E_0\,</math> आगामी तरंग का आयाम है, <math>k_L\,</math> बाएं माध्यम में तरंग संख्या है, और <math>r\,</math> परत संरचना का आयाम (तीव्रता नहीं!) परावर्तन गुणांक है। परत संरचना के दूसरी ओर, क्षेत्र में एक दाएँ-प्रसारित संचारित क्षेत्र
जहाँ <math>E_0\,</math> आगामी तरंग का आयाम है, <math>k_L\,</math> बाएं माध्यम में तरंग संख्या है, और <math>r\,</math> परत संरचना का आयाम (तीव्रता नहीं!) परावर्तन गुणांक है। इस प्रकार से परत संरचना के दूसरी ओर, क्षेत्र में एक दाएँ-प्रसारित संचारित क्षेत्र
:<math>E_R(z) = t E_0 e^{ik_R z},\qquad z>L'</math>
:<math>E_R(z) = t E_0 e^{ik_R z},\qquad z>L'</math>
होता है, जहाँ <math>t\,</math> आयाम संप्रेषण है, <math>k_R\,</math>, सबसे दाहिने माध्यम में तरंग संख्या है, और <math>L'</math> कुल मोटाई है। यदि <math display=inline>H_L = \frac{1}{ik} Z_c \frac{dE_L}{dz}\,</math> और <math display=inline>H_R = \frac{1}{ik} Z_c \frac{dE_R}{dz}\,</math>, तो कोई प्रणाली आव्यूह <math>M_s\,</math>के आव्यूह अवयवों <math>M_{mn}\,</math> के संदर्भ में
होता है, जहाँ <math>t\,</math> आयाम संप्रेषण है, <math>k_R\,</math>, सबसे दाहिने माध्यम में तरंग संख्या है, और <math>L'</math> कुल मोटाई है। इस प्रकार से यदि <math display=inline>H_L = \frac{1}{ik} Z_c \frac{dE_L}{dz}\,</math> और <math display=inline>H_R = \frac{1}{ik} Z_c \frac{dE_R}{dz}\,</math>, तो कोई प्रणाली आव्यूह <math>M_s\,</math>के आव्यूह अवयवों <math>M_{mn}\,</math> के संदर्भ में
:<math>\left(\begin{array}{c} E(z_R) \\ H(z_R) \end{array} \right) =
:<math>\left(\begin{array}{c} E(z_R) \\ H(z_R) \end{array} \right) =
   M\cdot \left(\begin{array}{c} E(0) \\ H(0) \end{array} \right)</math>
   M\cdot \left(\begin{array}{c} E(0) \\ H(0) \end{array} \right)</math>
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:<math>r = \left[\frac{ (M_{21} + k_L k_R M_{12}) + i(k_L M_{22} - k_R M_{11})}{(-M_{21} + k_L k_R M_{12}) + i(k_L M_{22} + k_R M_{11})}\right]</math> प्राप्त कर सकता है।
:<math>r = \left[\frac{ (M_{21} + k_L k_R M_{12}) + i(k_L M_{22} - k_R M_{11})}{(-M_{21} + k_L k_R M_{12}) + i(k_L M_{22} + k_R M_{11})}\right]</math> प्राप्त कर सकता है।


संप्रेषण और परावर्तन (अर्थात, घटना की तीव्रता <math display="inline">\left|E_0\right|^2</math> के अंश परत द्वारा संचरित और परावर्तित होते हैं) प्रायः अधिक व्यावहारिक उपयोग के होते हैं और क्रमशः (सामान्य घटना पर) <math display="inline">T=\frac{k_R}{k_L}|t|^2\,</math> और <math>R=|r|^2\,</math> के द्वारा दिए जाते हैं।
अतः संप्रेषण और परावर्तन (अर्थात, घटना की तीव्रता <math display="inline">\left|E_0\right|^2</math> के अंश परत द्वारा संचरित और परावर्तित होते हैं) प्रायः अधिक व्यावहारिक उपयोग के होते हैं और क्रमशः (सामान्य घटना पर) <math display="inline">T=\frac{k_R}{k_L}|t|^2\,</math> और <math>R=|r|^2\,</math> के द्वारा दिए जाते हैं।


=== उदाहरण ===
=== उदाहरण ===
एक उदाहरण के रूप में, अपवर्तक सूचकांक n और मोटाई d के साथ कांच की परत पर विचार करें जो तरंग संख्या k (हवा में) पर हवा में निलंबित है। कांच में तरंग संख्या होती है <math>k'=nk\,</math> स्थानांतरण आव्यूह है
एक उदाहरण के रूप में, अपवर्तक सूचकांक n और मोटाई d के साथ कांच की परत पर विचार करें जो तरंग संख्या k (वायु में) पर वायु में निलंबित है। इस प्रकार से कांच में तरंग संख्या <math>k'=nk\,</math> होती है। स्थानांतरण आव्यूह  
:<math>M=\left(\begin{array}{cc}\cos k'd & \sin(k'd)/k' \\ -k' \sin k'd & \cos k'd \end{array}\right)</math>
:<math>M=\left(\begin{array}{cc}\cos k'd & \sin(k'd)/k' \\ -k' \sin k'd & \cos k'd \end{array}\right)</math> है।
आयाम प्रतिबिंब गुणांक को सरल बनाया जा सकता है
इस प्रकार से आयाम प्रतिबिंब गुणांक
:<math>r = \frac{(1/n - n) \sin(k'd)}{(n+1/n)\sin(k'd)  + 2 i \cos(k'd)}</math>
:<math>r = \frac{(1/n - n) \sin(k'd)}{(n+1/n)\sin(k'd)  + 2 i \cos(k'd)}</math> को सरल बनाया जा सकता है।
यह विन्यास प्रभावी रूप से फैब्री-पेरोट इंटरफेरोमीटर या एटलॉन का वर्णन करता है: के लिए <math display=inline>k'd=0, \pi, 2\pi, \cdots\,</math>, प्रतिबिम्ब लुप्त हो जाता है।
अतः यह विन्यास प्रभावी रूप से फैब्री-पेरोट इंटरफेरोमीटर या एटलॉन का <math display="inline">k'd=0, \pi, 2\pi, \cdots\,</math> के लिए वर्णन करता है, प्रतिबिम्ब लुप्त हो जाता है।


== ध्वनिक तरंगें ==
== ध्वनिक तरंगें ==


ध्वनि तरंगों के लिए स्थानांतरण-आव्यूह विधि लागू करना संभव है। विद्युत क्षेत्र E और इसके व्युत्पन्न F के बजाय, विस्थापन u और [[तनाव (भौतिकी)]] <math>\sigma=C du/dz</math>, जहाँ <math>C</math> [[पी तरंग मापांक]] है, इसका इस्तेमाल किया जाना चाहिए।
ध्वनि तरंगों के लिए स्थानांतरण-आव्यूह विधि लागू करना संभव है। इस प्रकार से विद्युत क्षेत्र E और इसके व्युत्पन्न F के अतिरिक्त, विस्थापन u और [[तनाव (भौतिकी)]] <math>\sigma=C du/dz</math>, जहाँ <math>C</math> [[पी तरंग मापांक]] है, इसका उपयोग किया जाना चाहिए।


== एबेल्स आव्यूह औपचारिकता ==
== एबेल्स आव्यूह औपचारिकता ==
[[Image:Stratifiedinterface.svg|thumb|400px|right|स्तरीकृत अंतरापृष्ठ से प्रतिबिंब]]एबेल्स आव्यूह विधि<ref>O. S. Heavens. ''Optical Properties of Thin Films''. Butterworth, London (1955).</ref><ref>{{cite journal | last1=Névot | first1=L. | last2=Croce | first2=P. | title=Caractérisation des surfaces par réflexion rasante de rayons X. Application à l'étude du polissage de quelques verres silicates | journal=Revue de Physique Appliquée | publisher=EDP Sciences | volume=15 | issue=3 | year=1980 | issn=0035-1687 | doi=10.1051/rphysap:01980001503076100 | pages=761–779| s2cid=128834171 | url=https://hal.archives-ouvertes.fr/jpa-00244786/file/ajp-rphysap_1980_15_3_761_0.pdf |language=fr}}</ref><ref>{{cite journal | last=Abelès | first=Florin |author-link=Florin Abelès| title=La théorie générale des couches minces |trans-title=The generalized theory of thin films| journal=Journal de Physique et le Radium | publisher=EDP Sciences | volume=11 | issue=7 | year=1950 | issn=0368-3842 | doi=10.1051/jphysrad:01950001107030700 | pages=307–309|language=fr}}</ref> लम्बवत संवेग अंतरण, क्यू के समारोह के रूप में, स्तरीकृत अंतरापृष्ठ से स्पेक्युलर परावर्तकता की गणना करने के लिए कम्प्यूटेशनल रूप से तेज़ और आसान तरीका है<sub>z</sub>:
[[Image:Stratifiedinterface.svg|thumb|400px|right|स्तरीकृत अंतरापृष्ठ से प्रतिबिंब]]अतः एबेल्स आव्यूह विधि<ref>O. S. Heavens. ''Optical Properties of Thin Films''. Butterworth, London (1955).</ref><ref>{{cite journal | last1=Névot | first1=L. | last2=Croce | first2=P. | title=Caractérisation des surfaces par réflexion rasante de rayons X. Application à l'étude du polissage de quelques verres silicates | journal=Revue de Physique Appliquée | publisher=EDP Sciences | volume=15 | issue=3 | year=1980 | issn=0035-1687 | doi=10.1051/rphysap:01980001503076100 | pages=761–779| s2cid=128834171 | url=https://hal.archives-ouvertes.fr/jpa-00244786/file/ajp-rphysap_1980_15_3_761_0.pdf |language=fr}}</ref><ref>{{cite journal | last=Abelès | first=Florin |author-link=Florin Abelès| title=La théorie générale des couches minces |trans-title=The generalized theory of thin films| journal=Journal de Physique et le Radium | publisher=EDP Sciences | volume=11 | issue=7 | year=1950 | issn=0368-3842 | doi=10.1051/jphysrad:01950001107030700 | pages=307–309|language=fr}}</ref> स्तरीकृत अंतरापृष्ठ से नियमित परावर्तकता की गणना करने के लिए संगणनात्मक रूप से तीव्र और सरल विधि है, लम्बवत संवेग संचरण के एक फलन के रूप में, ''Q''<sub>z</sub>:
:<math>Q_z=\frac{4\pi}{\lambda}\sin\theta=2k_z</math>
:<math>Q_z=\frac{4\pi}{\lambda}\sin\theta=2k_z</math>
जहाँ θ आपतित [[विकिरण]] का आपतन/परावर्तन कोण है और λ विकिरण की तरंगदैर्घ्य है।
जहाँ θ आपतित [[विकिरण]] का आपतन/परावर्तन कोण है और λ विकिरण की तरंगदैर्घ्य है। मापी गई परावर्तनता अंतरापृष्ठ के लंबवत प्रकीर्णन लंबाई घनत्व (एसएलडी) प्रोफ़ाइल, ρ(z) में भिन्नता पर निर्भर करती है। यद्यपि प्रकीर्णन लंबाई घनत्व प्रोफ़ाइल सामान्यतः निरंतर भिन्न फलन है, अंतरापृष्ठीय संरचना को प्रायः ठीक रूप से अनुमानित किया जा सकता है एक स्लैब मॉडल द्वारा जिसमें मोटाई की परतें (d<sub>n</sub>), प्रकीर्णन लंबाई घनत्व (ρ<sub>n</sub>) और रूक्षता (σ<sub>n,n+1</sub>) सुपर- और उप-चरणों के बीच मध्यवर्ती हैं। इस प्रकार से प्रत्येक परत का वर्णन करने वाले मापदंडों को परिवर्तित कर, सैद्धांतिक और मापा परावर्तकता घटता के बीच अंतर को कम करने के लिए शोधन प्रक्रिया का उपयोग करता है।
मापी गई परावर्तनता प्रकीर्णन लंबाई घनत्व (SLD) में भिन्नता पर निर्भर करती है
प्रोफ़ाइल, ρ(z), अंतरापृष्ठ के लंबवत। यद्यपि प्रकीर्णन लंबाई घनत्व प्रोफ़ाइल
सामान्यतः निरंतर भिन्न कार्य है, इंटरफेसियल संरचना को प्रायः अच्छी तरह से अनुमानित किया जा सकता है
एक स्लैब मॉडल द्वारा जिसमें मोटाई की परतें (डी<sub>n</sub>), बिखरने की लंबाई घनत्व (ρ<sub>n</sub>) और खुरदरापन (σ<sub>n,n+1</sub>) सुपर- और उप-चरणों के बीच सैंडविच हैं। प्रत्येक परत का वर्णन करने वाले मापदंडों को बदलकर, सैद्धांतिक और मापा परावर्तकता घटता के बीच अंतर को कम करने के लिए शोधन प्रक्रिया का उपयोग करता है।


इस विवरण में अंतरापृष्ठ को n परतों में विभाजित किया गया है। घटना के बाद से न्यूट्रॉन बीम
इस विवरण में अंतरापृष्ठ को n परतों में विभाजित किया गया है। घटना के बाद से न्यूट्रॉन किरण पुंज तरंगसदिश, k, परत n में प्रत्येक परत द्वारा अपवर्तित होता है, इस प्रकार दिया जाता है:
वेववेक्टर, k, परत n में प्रत्येक परत द्वारा अपवर्तित होता है, द्वारा दिया जाता है:
:<math>k_n=\sqrt{{k_z}^2-4\pi({\rho}_n-{\rho}_0)}</math>
:<math>k_n=\sqrt{{k_z}^2-4\pi({\rho}_n-{\rho}_0)}</math>
परत n और n+1 के बीच फ्रेस्नेल समीकरण गुणांक तब दिया जाता है:
परत n और n+1 के बीच फ्रेस्नेल समीकरण गुणांक तब दिया जाता है:
:<math> r_{n,n+1} = \frac{k_{n}-k_{n+1}}{k_{n}+k_{n+1}} </math>
:<math> r_{n,n+1} = \frac{k_{n}-k_{n+1}}{k_{n}+k_{n+1}} </math>
चूंकि प्रत्येक परत के बीच अंतरापृष्ठ पूरी तरह से चिकनी होने की संभावना नहीं है, इसलिए प्रत्येक अंतरापृष्ठ की खुरदरापन/फैलाना फ़्रेस्नेल गुणांक को संशोधित करता है और त्रुटि फ़ंक्शन द्वारा हिसाब किया जाता है, जैसा कि #Nevot1980|Nevot and Croce (1980) द्वारा वर्णित है।
चूंकि प्रत्येक परत के बीच अंतरापृष्ठ पूर्ण रूप से चिकनी होने की संभावना नहीं है, इसलिए प्रत्येक अंतरापृष्ठ की रूक्षता/फैलाना फ़्रेस्नेल गुणांक को संशोधित करता है और इसे त्रुटि फलन द्वारा उत्तरदायी ठहराया जाता है, जैसा कि नेवोट और क्रोस (1980) द्वारा वर्णित है।


:<math>r_{n,n+1} = \frac{k_{n}-k_{n+1}}{k_{n}+k_{n+1}}\exp(-2k_{n}k_{n+1}{\sigma_{n,n+1}}^2) </math>
:<math>r_{n,n+1} = \frac{k_{n}-k_{n+1}}{k_{n}+k_{n+1}}\exp(-2k_{n}k_{n+1}{\sigma_{n,n+1}}^2) </math>
एक चरण कारक, β, पेश किया जाता है, जो प्रत्येक परत की मोटाई के लिए जिम्मेदार होता है।
इस प्रकार से एक चरण कारक, β, पूर्ण प्रस्तुत किया जाता है, जो प्रत्येक परत की मोटाई के लिए उत्तरदायी होता है।
:<math>\beta_{0} = 0</math>
:<math>\beta_{0} = 0</math>
:<math>\beta_{n} = i k_{n}d_{n}</math>
:<math>\beta_{n} = i k_{n}d_{n}</math>
जहाँ <math>i^2 = -1</math>
जहाँ <math>i^2 = -1</math> है। एक विशेषता आव्यूह, c<sub>n</sub> फिर प्रत्येक परत के लिए गणना की जाती है।
एक विशेषता आव्यूह, सी<sub>n</sub> फिर प्रत्येक परत के लिए गणना की जाती है।
:<math>c_{n}=\left[\begin{array}{cc}
:<math>c_{n}=\left[\begin{array}{cc}
\exp\left(\beta_{n}\right) & r_{n,n+1}\exp\left(\beta_{n}\right)\\
\exp\left(\beta_{n}\right) & r_{n,n+1}\exp\left(\beta_{n}\right)\\
r_{n,n+1}\exp\left(-\beta_{n}\right) & \exp\left(-\beta_{n}\right)\end{array}\right]</math>
r_{n,n+1}\exp\left(-\beta_{n}\right) & \exp\left(-\beta_{n}\right)\end{array}\right]</math>
परिणामी आव्यूह को इन विशेषता आव्यूह के आदेशित उत्पाद के रूप में परिभाषित किया गया है
इस प्रकार से परिणामी आव्यूह को इन विशिष्ट आव्यूह
:<math>M=\prod_{n}c_{n}</math>
:<math>M=\prod_{n}c_{n}</math>
जिससे परावर्तन की गणना इस प्रकार की जाती है:
के क्रमित उत्पाद के रूप में परिभाषित किया गया है, जिससे परावर्तन की गणना इस प्रकार से की जाती है:
:<math>R=\left|\frac{M_{10}}{M_{00}}\right|^{2}</math>
:<math>R=\left|\frac{M_{10}}{M_{00}}\right|^{2}</math>




== यह भी देखें ==
== यह भी देखें ==
* [[ न्यूट्रॉन परावर्तक ]]
* [[ न्यूट्रॉन परावर्तक |न्यूट्रॉन परावर्तक]]
* [[इलिप्सोमेट्री]]
* [[इलिप्सोमेट्री|दीर्घवृत्तमिति]]
* [[जोन्स कैलकुलस]]
* [[जोन्स कैलकुलस|जोन्स गणना]]
* एक्स-रे परावर्तकता
* एक्स-किरण परावर्तकता
[[बिखरने-मैट्रिक्स विधि|बिखरने-आव्यूह विधि]] विधि
 
* [[बिखरने-मैट्रिक्स विधि|प्रकीर्णित-आव्यूह विधि]]


==संदर्भ==
==संदर्भ==
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*[https://github.com/gevero/py_matrix Py_matrix] is an open source Python code that implements the transfer-matrix method for multilayers with arbitrary dielectric tensors. It was especially created for plasmonic and magnetoplasmonic calculations.
*[https://github.com/gevero/py_matrix Py_matrix] is an open source Python code that implements the transfer-matrix method for multilayers with arbitrary dielectric tensors. It was especially created for plasmonic and magnetoplasmonic calculations.
*[https://ncnr.nist.gov/instruments/magik/calculators/calcR_d3_dark.html In-browser calculator and fitter] Javascript interactive reflectivity calculator using matrix method and Nevot-Croce roughness approximation (calculation kernel converted from C via [[Emscripten]])
*[https://ncnr.nist.gov/instruments/magik/calculators/calcR_d3_dark.html In-browser calculator and fitter] Javascript interactive reflectivity calculator using matrix method and Nevot-Croce roughness approximation (calculation kernel converted from C via [[Emscripten]])
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Latest revision as of 17:37, 16 July 2023

एक परत के माध्यम से किरण (प्रकाशिकी) का संचरण

स्थानांतरण-आव्यूह विधि स्तरीकृत माध्यम के माध्यम से विद्युत चुम्बकीय तरंग या ध्वनिक तरंगों के संचरण का विश्लेषण करने के लिए प्रकाशिकी और ध्वनिकी में उपयोग की जाने वाली विधि है।[1][2] यह, उदाहरण के लिए, विरोधी-चिंतनशील लेपन और अचालक दर्पणों के डिजाइन के लिए प्रासंगिक है।

इस प्रकार से दो माध्यमों (प्रकाशिक) के बीच एकल अंतरापृष्ठ से प्रकाश का परावर्तन (भौतिकी) फ्रेस्नेल समीकरणों द्वारा वर्णित है। यद्यपि, जब कई विकिपीडिया: अंतरापृष्ठ होते हैं, जैसे कि चित्र में, प्रतिबिंब स्वयं भी आंशिक रूप से संचरित होते हैं और फिर आंशिक रूप से परिलक्षित होते हैं। यथार्थ पथ लंबाई के आधार पर, ये प्रतिबिंब विनाशकारी या रचनात्मक रूप से व्यतिकरण (तरंग संचरण) कर सकते हैं। परत संरचना का समग्र प्रतिबिंब प्रतिबिंबों की अनंत संख्या का योग है।

अतः स्थानांतरण-आव्यूह विधि इस तथ्य पर आधारित है कि, मैक्सवेल के समीकरणों के अनुसार, विद्युत क्षेत्र के लिए माध्यम से दूसरे माध्यम की सीमाओं के पार सरल निरंतरता की स्थिति होती है। इस प्रकार से यदि क्षेत्र परत के प्रारंभ में जाना जाता है, तो परत के अंत में क्षेत्र को साधारण आव्यूह (गणित) संक्रिया से प्राप्त किया जा सकता है। अतः परतों के स्तंभ को तब प्रणाली आव्यूह के रूप में दर्शाया जा सकता है, जो व्यक्तिगत परत आव्यूह का उत्पाद है। विधि के अंतिम चरण में प्रणाली आव्यूह को प्रतिबिंब और संचरण गुणांक में परिवर्तित करना सम्मिलित है।

विद्युत चुम्बकीय तरंगों के लिए औपचारिकता

इस प्रकार से नीचे वर्णित किया गया है कि सतह के सामान्य पर परतों के स्तंभ के माध्यम से संचरित आवृत्ति के विद्युत चुम्बकीय तरंगों (उदाहरण के लिए प्रकाश) पर स्थानांतरण आव्यूह कैसे लागू होता है। यह कोण, अवशोषण (विद्युत चुम्बकीय विकिरण), और पारगम्यता (विद्युत चुंबकत्व) के साथ मीडिया पर घटना से निपटने के लिए सामान्यीकृत किया जा सकता है। अतः हम मानते हैं कि स्तंभ परतें , सामान्य हैं अक्ष के लिए सामान्य हैं और एक परत के भीतर के क्षेत्र को तरंग संख्या ,

के साथ बाएं और दाएं यात्रा करने वाली तरंग के अधिस्थापन के रूप में दर्शाया जा सकता है।

क्योंकि मैक्सवेल के समीकरण से यह पता चलता है कि विद्युत क्षेत्र और चुंबकीय क्षेत्र (इसका सामान्यीकृत व्युत्पन्न) एक सीमा के पार निरंतर होना चाहिए, क्षेत्र को सदिश के रूप में प्रस्तुत करना सुविधाजनक है, जहाँ

चूंकि और से और से संबंधित दो समीकरण हैं, ये दोनों निरूपण समतुल्य हैं। इस प्रकार से नवीन प्रतिनिधित्व में, दूरी पर की धनात्मक दिशा में संचरण,विशेष रैखिक समूह SL(2, C)

और

से संबंधित आव्यूह द्वारा वर्णित किया गया है।

ऐसा आव्यूह परत के माध्यम से संचरण का प्रतिनिधित्व कर सकता है यदि माध्यम में तरंग संख्या है और , परत की मोटाई है: परतों वाले प्रणाली के लिए, प्रत्येक परत में स्थानांतरण आव्यूह होता है, जहां उच्चतर मान की ओर बढ़ता है। इस प्रकार से प्रणाली स्थानांतरण आव्यूह तब

है।

सामान्यतः, कोई भी परत संरचना के परावर्तकता और संप्रेषण को जानना चाहेगा। इस प्रकार से यदि परत स्तंभ से प्रारंभ होता है, तो ऋणात्मक के लिए, क्षेत्र को

जहाँ आगामी तरंग का आयाम है, बाएं माध्यम में तरंग संख्या है, और परत संरचना का आयाम (तीव्रता नहीं!) परावर्तन गुणांक है। इस प्रकार से परत संरचना के दूसरी ओर, क्षेत्र में एक दाएँ-प्रसारित संचारित क्षेत्र

होता है, जहाँ आयाम संप्रेषण है, , सबसे दाहिने माध्यम में तरंग संख्या है, और कुल मोटाई है। इस प्रकार से यदि और , तो कोई प्रणाली आव्यूह के आव्यूह अवयवों के संदर्भ में

को हल कर सकता है, और

और

प्राप्त कर सकता है।

अतः संप्रेषण और परावर्तन (अर्थात, घटना की तीव्रता के अंश परत द्वारा संचरित और परावर्तित होते हैं) प्रायः अधिक व्यावहारिक उपयोग के होते हैं और क्रमशः (सामान्य घटना पर) और के द्वारा दिए जाते हैं।

उदाहरण

एक उदाहरण के रूप में, अपवर्तक सूचकांक n और मोटाई d के साथ कांच की परत पर विचार करें जो तरंग संख्या k (वायु में) पर वायु में निलंबित है। इस प्रकार से कांच में तरंग संख्या होती है। स्थानांतरण आव्यूह

है।

इस प्रकार से आयाम प्रतिबिंब गुणांक

को सरल बनाया जा सकता है।

अतः यह विन्यास प्रभावी रूप से फैब्री-पेरोट इंटरफेरोमीटर या एटलॉन का के लिए वर्णन करता है, प्रतिबिम्ब लुप्त हो जाता है।

ध्वनिक तरंगें

ध्वनि तरंगों के लिए स्थानांतरण-आव्यूह विधि लागू करना संभव है। इस प्रकार से विद्युत क्षेत्र E और इसके व्युत्पन्न F के अतिरिक्त, विस्थापन u और तनाव (भौतिकी) , जहाँ पी तरंग मापांक है, इसका उपयोग किया जाना चाहिए।

एबेल्स आव्यूह औपचारिकता

स्तरीकृत अंतरापृष्ठ से प्रतिबिंब

अतः एबेल्स आव्यूह विधि[3][4][5] स्तरीकृत अंतरापृष्ठ से नियमित परावर्तकता की गणना करने के लिए संगणनात्मक रूप से तीव्र और सरल विधि है, लम्बवत संवेग संचरण के एक फलन के रूप में, Qz:

जहाँ θ आपतित विकिरण का आपतन/परावर्तन कोण है और λ विकिरण की तरंगदैर्घ्य है। मापी गई परावर्तनता अंतरापृष्ठ के लंबवत प्रकीर्णन लंबाई घनत्व (एसएलडी) प्रोफ़ाइल, ρ(z) में भिन्नता पर निर्भर करती है। यद्यपि प्रकीर्णन लंबाई घनत्व प्रोफ़ाइल सामान्यतः निरंतर भिन्न फलन है, अंतरापृष्ठीय संरचना को प्रायः ठीक रूप से अनुमानित किया जा सकता है एक स्लैब मॉडल द्वारा जिसमें मोटाई की परतें (dn), प्रकीर्णन लंबाई घनत्व (ρn) और रूक्षता (σn,n+1) सुपर- और उप-चरणों के बीच मध्यवर्ती हैं। इस प्रकार से प्रत्येक परत का वर्णन करने वाले मापदंडों को परिवर्तित कर, सैद्धांतिक और मापा परावर्तकता घटता के बीच अंतर को कम करने के लिए शोधन प्रक्रिया का उपयोग करता है।

इस विवरण में अंतरापृष्ठ को n परतों में विभाजित किया गया है। घटना के बाद से न्यूट्रॉन किरण पुंज तरंगसदिश, k, परत n में प्रत्येक परत द्वारा अपवर्तित होता है, इस प्रकार दिया जाता है:

परत n और n+1 के बीच फ्रेस्नेल समीकरण गुणांक तब दिया जाता है:

चूंकि प्रत्येक परत के बीच अंतरापृष्ठ पूर्ण रूप से चिकनी होने की संभावना नहीं है, इसलिए प्रत्येक अंतरापृष्ठ की रूक्षता/फैलाना फ़्रेस्नेल गुणांक को संशोधित करता है और इसे त्रुटि फलन द्वारा उत्तरदायी ठहराया जाता है, जैसा कि नेवोट और क्रोस (1980) द्वारा वर्णित है।

इस प्रकार से एक चरण कारक, β, पूर्ण प्रस्तुत किया जाता है, जो प्रत्येक परत की मोटाई के लिए उत्तरदायी होता है।

जहाँ है। एक विशेषता आव्यूह, cn फिर प्रत्येक परत के लिए गणना की जाती है।

इस प्रकार से परिणामी आव्यूह को इन विशिष्ट आव्यूह

के क्रमित उत्पाद के रूप में परिभाषित किया गया है, जिससे परावर्तन की गणना इस प्रकार से की जाती है:


यह भी देखें

संदर्भ

  1. Born, M.; Wolf, E., Principles of optics: electromagnetic theory of propagation, interference and diffraction of light. Oxford, Pergamon Press, 1964.
  2. Mackay, T. G.; Lakhtakia, A., The Transfer-Matrix Method in Electromagnetics and Optics. San Rafael, CA, Morgan and Claypool, 2020. doi:10.2200/S00993ED1V01Y202002EMA001
  3. O. S. Heavens. Optical Properties of Thin Films. Butterworth, London (1955).
  4. Névot, L.; Croce, P. (1980). "Caractérisation des surfaces par réflexion rasante de rayons X. Application à l'étude du polissage de quelques verres silicates" (PDF). Revue de Physique Appliquée (in français). EDP Sciences. 15 (3): 761–779. doi:10.1051/rphysap:01980001503076100. ISSN 0035-1687. S2CID 128834171.
  5. Abelès, Florin (1950). "La théorie générale des couches minces" [The generalized theory of thin films]. Journal de Physique et le Radium (in français). EDP Sciences. 11 (7): 307–309. doi:10.1051/jphysrad:01950001107030700. ISSN 0368-3842.


अग्रिम पठन


बाहरी संबंध

There are a number of computer programs that implement this calculation: