क्लीन रूम: Difference between revisions

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{{about|the manufacturing or research environment|the method used to avoid copyright infringement|Clean room design|the software project methodology|Cleanroom software engineering|the TV episode |The Clean Room}}
[[File:Clean room.jpg|thumb|right|क्लीन रूम का उपयोग माइक्रोसिस्टम्स के उत्पादन के लिए किया जाता है। [[ फोटोलिथोग्राफी ]] के लिए पीली (लाल-हरी) रोशनी आवश्यक है, ताकि कम तरंग दैर्ध्य के प्रकाश में [[ photoresist |  प्रकाश प्रतिरोध]] के अवांछित जोखिम को रोका जा सके।]]
{{Short description|Dust-free room for research or production}}
[[File:Clean room.jpg|thumb|right|साफ कमरा का उपयोग माइक्रोसिस्टम्स के उत्पादन के लिए किया जाता है। [[ फोटोलिथोग्राफी ]] के लिए पीली (लाल-हरी) रोशनी आवश्यक है, ताकि कम तरंग दैर्ध्य के प्रकाश में [[ photoresist |  प्रकाश प्रतिरोध]] के अवांछित जोखिम को रोका जा सके।]]
  [[File:Cleanroom outside.jpg|thumb|right|बाहर से साफ-सुथरा कमरा]]
  [[File:Cleanroom outside.jpg|thumb|right|बाहर से साफ-सुथरा कमरा]]
[[File:Cleanroom entrance.jpg|thumb|right|बिना एयर शावर वाले साफ कमरा में प्रवेश]]
[[File:Cleanroom entrance.jpg|thumb|right|बिना एयर शावर वाले क्लीन रूम में प्रवेश]]
[[File:Cleanroom1.jpg|thumb|right|सीलिंग ग्रिड में स्थापित फैन फिल्टर इकाइयों के साथ [[ माइक्रोइलेक्ट्रॉनिक्स ]] निर्माण के लिए साफ कमरा]]
[[File:Cleanroom1.jpg|thumb|right|सीलिंग ग्रिड में स्थापित फैन फिल्टर इकाइयों के साथ [[ माइक्रोइलेक्ट्रॉनिक्स ]] निर्माण के लिए क्लीन रूम]]
[[File:Cleanroom-Cabin.JPG|thumb|right|सटीक माप उपकरणों के लिए साफ कमरा केबिन]]
[[File:Cleanroom-Cabin.JPG|thumb|right|सटीक माप उपकरणों के लिए क्लीन रूम केबिन]]
[[File:Cleanroom Garment2.JPG|thumb|विशिष्ट साफ कमरा हेड गारमेंट]]
[[File:Cleanroom Garment2.JPG|thumb|विशिष्ट क्लीन रूम हेड गारमेंट]]
एक साफ कमरा एक इंजीनियरिंग का स्थान है, जो हवा में कणों की बहुत कम सांद्रता रखता है। यह अच्छी तरह से अलग है तथा संदूषण से भली-भांति नियंत्रित है तथा सक्रिय रूप से स्वच्छ है.ऐसे कमरों की आम तौर पर वैज्ञानिक अनुसंधान के लिए और सभी नैनोस्केल प्रक्रियाओं जैसे अर्धचालक उत्पादन के लिए औद्योगिक उत्पादन की आवश्यकता होती है।हर चीज को धूल, हवा से लेकर हवा के कणों तक, या वेपोराइज्ड कणों तक से दूर रखने के लिए एक सफाई कक्ष बनाया गया है।
क्लीन रूम एक इंजीनियरिंग का स्थान है, जो हवा में कणों की बहुत कम सांद्रता रखता है। यह अच्छी तरह से अलग है तथा संदूषण से भली-भांति नियंत्रित है तथा सक्रिय रूप से स्वच्छ है.ऐसे कमरों की आम तौर पर वैज्ञानिक अनुसंधान के लिए और सभी नैनोस्केल प्रक्रियाओं जैसे अर्धचालक उत्पादन के लिए औद्योगिक उत्पादन की आवश्यकता होती है।हर चीज को धूल, हवा से लेकर हवा के कणों तक, या वेपोराइज्ड कणों तक से दूर रखने के लिए एक सफाई कक्ष बनाया गया है।


दूसरी ओर, एक साफ-सुथरा कमरा की सामग्री को बाहर निकालने में भी मदद मिल सकती है। हमारा उद्देश्य खतरनाक [[ जैविक इंजीनियरिंग | जीव विज्ञान]] और परमाणु कार्य, फार्मास्यूटिक्स और[[ वाइरालजी | वायरोलॉजी]] में प्राथमिक उद्देश्य होता है।
दूसरी ओर, एक साफ-सुथरा कमरा की सामग्री को बाहर निकालने में भी सहायता  मिल सकती है। हमारा उद्देश्य खतरनाक [[ जैविक इंजीनियरिंग | जीव विज्ञान]] और परमाणु कार्य, फार्मास्यूटिक्स और[[ वाइरालजी | वायरोलॉजी]] में प्राथमिक उद्देश्य होता है।


साफ कमरा आमतौर पर पूर्व निर्धारित अणु माप पर प्रति घन मीटर कणों की संख्या के द्वारा मानांकित स्वच्छता स्तर के साथ आते हैं। एक विशिष्ट शहरी क्षेत्र में परिवेश बाहरी हवा में 35,000,000 कण 0.5μ माइक्रोन के आकार के हर घन मीटर के लिए और एक आईएसओ 9 प्रमाणित साफ कमरा के समतुल्य होते हैं.आईएसओ 146441-स्तर 1 तुलना के द्वारा प्रमाणित क्लीन रूम उस आकार के कोई कण नहीं देता है, और प्रत्येक घन मीटर के लिए केवल 12 कणों की तुलना करता है और छोटा होता है। अर्धचालक सुविधाओं को प्रायः स्तर 7 से प्राप्त किया जाता है जबकि स्तर 1 की सुविधाएं अति दुर्लभ हैं।
क्लीन रूम आमतौर पर पूर्व निर्धारित अणु माप पर प्रति घन मीटर कणों की संख्या के द्वारा मानांकित स्वच्छता स्तर के साथ आते हैं। एक विशिष्ट शहरी क्षेत्र में परिवेश बाहरी हवा में 35,000,000 कण 0.5μ माइक्रोन के आकार के हर घन मीटर के लिए और एक आईएसओ 9 प्रमाणित क्लीन रूम के समतुल्य होते हैं.आईएसओ 146441-स्तर 1 तुलना के द्वारा प्रमाणित क्लीन रूम उस आकार के कोई कण नहीं देता है, और प्रत्येक घन मीटर के लिए केवल 12 कणों की तुलना करता है और छोटा होता है। अर्धचालक सुविधाओं को प्रायः स्तर 7 से प्राप्त किया जाता है जबकि स्तर 1 की सुविधाएं अति दुर्लभ हैं।


==इतिहास==
==इतिहास==
आधुनिक साफ कमरे का आविष्कार अमेरिकी भौतिक विज्ञानी  [[ विलिस व्हिटफ़ील्ड |विलिस व्हिटफ़ील्ड]] द्वारा किया गया था।<ref name="nkwes">{{cite news|first=William|last=Yardley|title=Willis Whitfield, Clean Room Inventor, Dies at 92 |url=https://www.nytimes.comm/2012/12/05/business/willis-whitfield-clean-room-inventor-dies-at-92.html |work=[[The New York Times]] |date=2012-12-04 |access-date=2013-06-22}}</ref>[[ Sandia National Laboratories | सैंडिया नेशनल लेबोरेटरीज]] के कर्मचारी के रूप में, व्हिटफ़ील्ड ने 1960 में साफ कमरा के लिए प्रारंभिक योजनाएँ बनाईं।<ref name="nkwes" />व्हिटफ़ील्ड के आविष्कार से पहले, पहले के साफ कमरा में अक्सर कणों और अप्रत्याशित [[ वायु प्रवाह ]] की समस्या होती थी। व्हिटफ़ील्ड ने अशुद्धियों को दूर करने के लिए अपने साफ कमरा को एक निरंतर, अत्यधिक फ़िल्टर्ड वायु प्रवाह के साथ समस्या होती थी ।<ref name=nkwes/> साथ समस्या थी.व्हाइटफील्ड ने अपने साफ कमरा को निरंतर, अत्यधिक फ़िल्टर्ड वायु प्रवाह के साथ अशुद्धियों को फ्लश करने के लिए डिज़ाइन किया। <ref name="nkwes" />1960 के दशक में अपने आविष्कार के कुछ ही वर्षों के भीतर, व्हिटफील्ड के आधुनिक साफ कमरा ने दुनिया भर में 50 अरब अमरीकी डॉलर से अधिक बिक्री (लगभग 430 अरब डॉलर आज) की थी।<ref name="kwes">{{cite news |title=Sandia physicist, cleanroom inventor dies at 92 |url=https://www.washingtonexaminer.com/sandia-physicist-cleanroom-inventor-dies-at-92 |work=[[KWES-TV|KWES]] |publisher=[[Associated Press]] |date=2012-11-26 |access-date=2012-12-03 }}</ref><ref>{{cite web|url=https://www.exyte.net/News%20-%20Events/Specialist%20articles/reinraum_printline_02_2015_Whitfield_110416.pdf|title=Willis Whitfield - Father of the Cleanroom|date=September 2015|publisher=Cleanroom online|access-date=2016-05-18}}<!--Document specified as "02-2015", pathway as 2014-11, http date as 2016-04-19 --></ref>
आधुनिक साफ कमरे का आविष्कार अमेरिकी भौतिक विज्ञानी  [[ विलिस व्हिटफ़ील्ड |विलिस व्हिटफ़ील्ड]] द्वारा किया गया था।<ref name="nkwes">{{cite news|first=William|last=Yardley|title=Willis Whitfield, Clean Room Inventor, Dies at 92 |url=https://www.nytimes.comm/2012/12/05/business/willis-whitfield-clean-room-inventor-dies-at-92.html |work=[[The New York Times]] |date=2012-12-04 |access-date=2013-06-22}}</ref>[[ Sandia National Laboratories | सैंडिया नेशनल लेबोरेटरीज]] के कर्मचारी के रूप में, व्हिटफ़ील्ड ने 1960 में क्लीन रूम के लिए प्रारंभिक योजनाएँ बनाईं।<ref name="nkwes" />व्हिटफ़ील्ड के आविष्कार से पहले, पहले के क्लीन रूम में अक्सर कणों और अप्रत्याशित [[ वायु प्रवाह ]] की समस्या होती थी। व्हिटफ़ील्ड ने अशुद्धियों को दूर करने के लिए अपने क्लीन रूम को एक निरंतर, अत्यधिक फ़िल्टर्ड वायु प्रवाह के साथ समस्या होती थी ।<ref name=nkwes/> साथ समस्या थी.व्हाइटफील्ड ने अपने क्लीन रूम को निरंतर, अत्यधिक फ़िल्टर्ड वायु प्रवाह के साथ अशुद्धियों को फ्लश करने के लिए डिज़ाइन किया। <ref name="nkwes" />1960 के दशक में अपने आविष्कार के कुछ ही वर्षों के भीतर, व्हिटफील्ड के आधुनिक क्लीन रूम ने दुनिया भर में 50 अरब अमरीकी डॉलर से अधिक बिक्री (लगभग 430 अरब डॉलर आज) की थी।<ref name="kwes">{{cite news |title=Sandia physicist, cleanroom inventor dies at 92 |url=https://www.washingtonexaminer.com/sandia-physicist-cleanroom-inventor-dies-at-92 |work=[[KWES-TV|KWES]] |publisher=[[Associated Press]] |date=2012-11-26 |access-date=2012-12-03 }}</ref><ref>{{cite web|url=https://www.exyte.net/News%20-%20Events/Specialist%20articles/reinraum_printline_02_2015_Whitfield_110416.pdf|title=Willis Whitfield - Father of the Cleanroom|date=September 2015|publisher=Cleanroom online|access-date=2016-05-18}}<!--Document specified as "02-2015", pathway as 2014-11, http date as 2016-04-19 --></ref>


[[ सिलिकॉन वैली | सिलिकॉन वैली]] की अधिकांश एकीकृत परिपथ निर्माण सुविधाएं तीन कंपनियों द्वारा बनायी गयी थी, माइक्रोएरे, प्यूरीयर तथा प्रमुख प्लास्टिक.इन प्रतिस्पर्धाओं ने लामिना की प्रवाह इकाइयां, दस्ताने के डिब्बे, साफ कमरे और हवा की बरसात के साथ रासायनिक टैंक और बैन्च का निर्माण एकीकृत परिपथ के निर्माण में किया। ये तीनों कंपनियां एकीकृत परिपथों के निर्माण के लिए टेफ्लोन के प्रयोग में अग्रणी थीं। विलियम (बिल) सी एम ए एल राय William (Bill) C. McElroy Jr ने इंजीनियरिंग मैनेजर, प्रारूपण कक्ष पर्यवेक्षक, क्यूए/क्यूसी के रूप में कार्य किया और तीनों कंपनियों तथा उनके डिजाइनों के लिए डिजाइनर के रूप में 45 मूल पेटेंट को उस समय की तकनीक में जोड़ा। एम्सी एलरॉय ने भी सूक्ष्म संदूषण पत्रिका, वीट प्रोसेसिंग ट्रेनिंग मैनुअल तथा गीले संसाधन और साफ कमरों के लिए उपकरण पुस्तिकाएं आदि के लिए चार पृष्ठ का एक लेख लिखा<ref>William (Bill) C. McElroy Jr., MicroAire Engineering Manager and acting VP; Kay Plastics Engineering Manager; PureAire Drafting Room Manager</ref>
[[ सिलिकॉन वैली | सिलिकॉन वैली]] की अधिकांश एकीकृत परिपथ निर्माण सुविधाएं तीन कंपनियों द्वारा बनायी गयी थी, माइक्रोएरे, प्यूरीयर तथा प्रमुख प्लास्टिक.इन प्रतिस्पर्धाओं ने लामिना की प्रवाह इकाइयां, दस्ताने के डिब्बे, साफ कमरे और हवा की बरसात के साथ रासायनिक टैंक और बैन्च का निर्माण एकीकृत परिपथ के निर्माण में किया। ये तीनों कंपनियां एकीकृत परिपथों के निर्माण के लिए टेफ्लोन के प्रयोग में अग्रणी थीं। विलियम (बिल) सी एम ए एल राय William (Bill) C. McElroy Jr ने इंजीनियरिंग मैनेजर, प्रारूपण कक्ष पर्यवेक्षक, क्यूए/क्यूसी के रूप में कार्य किया और तीनों कंपनियों तथा उनके डिजाइनों के लिए डिजाइनर के रूप में 45 मूल पेटेंट को उस समय की तकनीक में जोड़ा। एम्सी एलरॉय ने भी सूक्ष्म संदूषण पत्रिका, वीट प्रोसेसिंग ट्रेनिंग मैनुअल तथा गीले संसाधन और साफ कमरों के लिए उपकरण पुस्तिकाएं आदि के लिए चार पृष्ठ का एक लेख लिखा<ref>William (Bill) C. McElroy Jr., MicroAire Engineering Manager and acting VP; Kay Plastics Engineering Manager; PureAire Drafting Room Manager</ref>
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[[ निर्माण (अर्धचालक) ]], [[ रिचार्जेबल बैटरी ]] उद्योग, [[ जीवन विज्ञान ]] र्यावरण संदूषण के प्रति अत्यधिक संवेदनशील किसी भी अन्य क्षेत्र में एक स्वच्छ कक्ष की आवश्यकता है।
[[ निर्माण (अर्धचालक) ]], [[ रिचार्जेबल बैटरी ]] उद्योग, [[ जीवन विज्ञान ]] र्यावरण संदूषण के प्रति अत्यधिक संवेदनशील किसी भी अन्य क्षेत्र में एक स्वच्छ कक्ष की आवश्यकता है।


साफ कमरा बहुत छोटे से लेकर बड़े हो सकते हैं। एक ओर कई वर्ग मीटर के अंदर साफ कमरे के मानकों के लिए एकल प्रयोक्ता प्रयोगशाला का निर्माण किया जा सकता है और दूसरी ओर फैक्ट रूम के फर्श पर हजारों वर्ग मीटर की सफाई वाली एकमात्र उत्पादन सुविधाओं को एक कमरे में रखा जा सकता है। बड़े और छोटे के बीच, मॉड्यूलर साफ कमरा भी हैं। <ref>{{Cite web|url=https://www.mecart-cleanrooms.com/what-is-a-cleanroom/|title=What is a Cleanroom? &#124; Mecart|date=August 16, 2016|website=MECART Cleanrooms}}</ref>उनको प्रौद्योगिकी के स्केलिंग की लागत कम करने के पक्ष में तर्क दिया गया है और वे विपत्तिपूर्ण असफलता के प्रति संवेदनशील नहीं हैं.
क्लीन रूम बहुत छोटे से लेकर बड़े हो सकते हैं। एक ओर कई वर्ग मीटर के अंदर साफ कमरे के मानकों के लिए एकल प्रयोक्ता प्रयोगशाला का निर्माण किया जा सकता है और दूसरी ओर फैक्ट रूम के फर्श पर हजारों वर्ग मीटर की सफाई वाली एकमात्र उत्पादन सुविधाओं को एक कमरे में रखा जा सकता है। बड़े और छोटे के बीच, मॉड्यूलर क्लीन रूम भी हैं। <ref>{{Cite web|url=https://www.mecart-cleanrooms.com/what-is-a-cleanroom/|title=What is a Cleanroom? &#124; Mecart|date=August 16, 2016|website=MECART Cleanrooms}}</ref>उनको प्रौद्योगिकी के स्केलिंग की लागत कम करने के पक्ष में तर्क दिया गया है और वे विपत्तिपूर्ण असफलता के प्रति संवेदनशील नहीं हैं.


इस तरह के व्यापक क्षेत्र में, प्रत्येक सफाई कक्ष समान नहीं होता है। उदाहरण के लिए, अर्धचालक निर्माण में उपयोग किए जाने वाले कमरों में [[ नसबंदी (सूक्ष्म जीव विज्ञान) ]] (यानी, अनियंत्रित रोगाणुओं से मुक्त) होने की आवश्यकता नहीं है;<ref>[https://www.nytimes.com/2007/10/09/science/09clea.html?ref=science In NASA’s Sterile Areas, Plenty of Robust Bacteria] New York Times, 9. October 2007</ref>जबकि जैव प्रौद्योगिकी में इस्तेमाल होने वाले लोग आमतौर पर होना चाहिए। इसके विपरीत, ऑपरेटिंग रूम बिल्कुल नैनोस्केल अकार्बनिक लवणों जैसे जंग से शुद्ध नहीं होने चाहिए जबकि नैनो टैक्नोलॉजी इसके लिए आवश्यक है.तब सभी सफाई कक्षों के लिए वायु जनित कणिका का सख्त नियंत्रण, संभवतः हवा के द्वितीयक संदूषण, सतहों, कमरे, उपकरणों, रसायनों और मशीनों में प्रवेश करने वाले वायु कणों का सख्त नियंत्रण होता है
इस तरह के व्यापक क्षेत्र में, प्रत्येक सफाई कक्ष समान नहीं होता है। उदाहरण के लिए, अर्धचालक निर्माण में उपयोग किए जाने वाले कमरों में [[ नसबंदी (सूक्ष्म जीव विज्ञान) ]] (यानी, अनियंत्रित रोगाणुओं से मुक्त) होने की आवश्यकता नहीं है;<ref>[https://www.nytimes.com/2007/10/09/science/09clea.html?ref=science In NASA’s Sterile Areas, Plenty of Robust Bacteria] New York Times, 9. October 2007</ref>जबकि जैव प्रौद्योगिकी में इस्तेमाल होने वाले लोग आमतौर पर होना चाहिए। इसके विपरीत, ऑपरेटिंग रूम बिल्कुल नैनोस्केल अकार्बनिक लवणों जैसे जंग से शुद्ध नहीं होने चाहिए जबकि नैनो टैक्नोलॉजी इसके लिए आवश्यक है.तब सभी सफाई कक्षों के लिए वायु जनित कणिका का सख्त नियंत्रण, संभवतः हवा के द्वितीयक संदूषण, सतहों, कमरे, उपकरणों, रसायनों और मशीनों में प्रवेश करने वाले वायु कणों का सख्त नियंत्रण होता है
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== बुनियादी निर्माण ==
== बुनियादी निर्माण ==


सबसे पहले, एक साफ कमरा में प्रवेश करने वाली बाहरी हवा और धूल को बाहर करने के लिए उत्तरोत्तर महीन फिल्टर का उपयोग करके कई बाहरी [[ हवा का संचालक ]] द्वारा ठंडा किया जाता है।
सबसे पहले, एक क्लीन रूम में प्रवेश करने वाली बाहरी हवा और धूल को बाहर करने के लिए उत्तरोत्तर महीन फिल्टर का उपयोग करके कई बाहरी [[ हवा का संचालक |हवा का संचालक]] द्वारा ठंडा किया जाता है।


आंतरिक रूप से उत्पन्न दूषित पदार्थों को हटाने के लिए उच्च दक्षता वाले कीक अवशोषित फिल्टर, और/या अति-निम्न कणों वाली हवा यूएलपीए ([[ ULPA ]]) फिल्टर [[ HEPA | (HEPA]] ) युक्त प्रशंसक इकाइयों के माध्यम से वायु को लगातार पुनःपरिचालित किया जाता है। वायु कणों के उत्पादन में कमी लाने के लिए विशेष प्रकाश जुड़नार, दीवार, उपकरण तथा अन्य सामग्रियों का उपयोग किया जाता है। यदि स्वच्छ कक्ष का डिजाइन पटलीय वायुप्रवाह प्रकार का है तो वायुविक्षोभ को कम करने के लिए प्लास्टिक शीट का प्रयोग किया जा सकता है।<ref>{{Cite web|url=https://kenall.com/Home/Applications/Cleanroom-and-Containment|title=Kenall Cleanroom and Containment Lighting|website=kenall.com}}</ref><ref>{{Cite web|url=https://www.cleanroomtechnology.com/news/article_page/Fitting_lights_in_cleanrooms/145726|title=Fitting lights in cleanrooms|website=www.cleanroomtechnology.com}}</ref><ref>{{Cite web|url=https://www.lighting.philips.com/main/prof/indoor-luminaires/waterproof-and-cleanroom/cleanroom/cleanroom-led|title=Cleanroom LED|website=Philips}}</ref>
आंतरिक रूप से उत्पन्न दूषित पदार्थों को हटाने के लिए उच्च दक्षता वाले कीक अवशोषित फिल्टर, और/या अति-निम्न कणों वाली हवा यूएलपीए ([[ ULPA |ULPA]]) फिल्टर [[ HEPA |(HEPA]]) युक्त प्रशंसक इकाइयों के माध्यम से वायु को लगातार पुनःपरिचालित किया जाता है। वायु कणों के उत्पादन में कमी लाने के लिए विशेष प्रकाश जुड़नार, दीवार, उपकरण तथा अन्य सामग्रियों का उपयोग किया जाता है। यदि स्वच्छ कक्ष का डिजाइन पटलीय वायुप्रवाह प्रकार का है तो वायुविक्षोभ को कम करने के लिए प्लास्टिक शीट का प्रयोग किया जा सकता है।<ref>{{Cite web|url=https://kenall.com/Home/Applications/Cleanroom-and-Containment|title=Kenall Cleanroom and Containment Lighting|website=kenall.com}}</ref><ref>{{Cite web|url=https://www.cleanroomtechnology.com/news/article_page/Fitting_lights_in_cleanrooms/145726|title=Fitting lights in cleanrooms|website=www.cleanroomtechnology.com}}</ref><ref>{{Cite web|url=https://www.lighting.philips.com/main/prof/indoor-luminaires/waterproof-and-cleanroom/cleanroom/cleanroom-led|title=Cleanroom LED|website=Philips}}</ref>


एक साफ कमरे के अंदर का वायु तापमान और आर्द्रता के स्तर को कसकर नियंत्रित किया जाता है, क्योंकि ये हवा में छानने की क्षमता और साधन को प्रभावित करते हैं। यदि किसी कमरे में पर्याप्त आर्द्रता नहीं रह जाती, जिससे कि स्थैतिक बिजली एक चिंता का कारण बन सके, तो उस पर भी नियंत्रण किया जा सकेगा उदाहरण के लिए, आवेश में भरे हुए आयनों को हवा में डालकर, [[ कोरोना डिस्चार्ज | कोरोना डिस्चार्ज]] का प्रयोग करके। स्थैतिक निर्वहन विशेष रूप से इलेक्ट्रॉनिक्स उद्योग के लिए महत्व का होता है, जहां वह अवयवों और सर्किट्री को तत्काल नष्ट कर सकता है।
एक साफ कमरे के अंदर का वायु तापमान और आर्द्रता के स्तर को कसकर नियंत्रित किया जाता है, क्योंकि ये हवा में छानने की क्षमता और साधन को प्रभावित करते हैं। यदि किसी कमरे में पर्याप्त आर्द्रता नहीं रह जाती, जिससे कि स्थैतिक बिजली एक चिंता का कारण बन सके, तो उस पर भी नियंत्रण किया जा सकेगा उदाहरण के लिए, आवेश में भरे हुए आयनों को हवा में डालकर, [[ कोरोना डिस्चार्ज |कोरोना डिस्चार्ज]] का प्रयोग करके। स्थैतिक निर्वहन विशेष रूप से इलेक्ट्रॉनिक्स उद्योग के लिए महत्व का होता है, जहां वह अवयवों और सर्किट्री को तत्काल नष्ट कर सकता है।


किसी भी सफाई कक्ष के भीतर न्यूनतम वायु प्रदूषण उत्पन्न करने के लिए डिजाइन किया गया उपकरण.सफाई कक्ष के निर्माण के लिए सामग्री के चयन से कोई भी कण उत्पन्न नहीं हो पाए, इसलिए अखंड एपॉक्सी या पॉलियुरथेन फर्श पर कोटिंग अधिक पसंद की जाती है। बफर किये हुए स्टेनलेस स्टील या पाउडर कोटेड हल्के स्टील सैंडविच पार्टिशन पैनल और हाईलाइट पैनल का उपयोग किया जाता है। दीवार से दीवार, दीवार से फर्श तक के कोनों, भीतरी से भीतरी छत को कोर से बचाने के लिए रस्सी की सतह प्रदान करते हैं और संधियों पर स्थित कणों के जमाव या उत्पादन से बचने के लिए सभी जोड़ों को युपी सीलेंट से सील लगाने की जरूरत होती है।
किसी भी सफाई कक्ष के भीतर न्यूनतम वायु प्रदूषण उत्पन्न करने के लिए डिजाइन किया गया उपकरण.सफाई कक्ष के निर्माण के लिए सामग्री के चयन से कोई भी कण उत्पन्न नहीं हो पाए, इसलिए अखंड एपॉक्सी या पॉलियुरथेन फर्श पर कोटिंग अधिक पसंद की जाती है। बफर किये हुए स्टेनलेस स्टील या पाउडर कोटेड हल्के स्टील सैंडविच पार्टिशन पैनल और हाईलाइट पैनल का उपयोग किया जाता है। दीवार से दीवार, दीवार से फर्श तक के कोनों, भीतरी से भीतरी छत को कोर से बचाने के लिए रस्सी की सतह प्रदान करते हैं और संधियों पर स्थित कणों के जमाव या उत्पादन से बचने के लिए सभी जोड़ों को युपी सीलेंट से सील लगाने की जरूरत होती है।
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क्लीनरूम, लैमिनर या अशांत वायु प्रवाह के सिद्धांतों का उपयोग करते हुए, हेपा या यूएलपीए फिल्टर के द्वारा कणों से मुक्त हवा बनाए रखते हैं। पटमीनार या यूनिडायरेक्शनल वायु प्रवाह प्रणाली को फिल्टर की हुई हवा को नीचे की ओर या क्षैतिज दिशा में निर्देशित करती है। सतत वायु प्रक्रमण को बनाए रखने के लिए पटलीय वायु प्रवाह प्रणालियों का आम तौर पर 80% स्वच्छ छत पर कार्यरत किया जाता है। हवा में अतिरिक्त कणों को आने से रोकने के लिए स्टेनलेस स्टील या अन्य गैर शेडिंग सामग्री को लामिनार वायु प्रवाह छन्नी तथा फन के निर्माण में उपयोग किया जाता है। अशांत, या नॉन यूनिडायरेक्शनल वायु प्रवाह लामिनार वायु प्रवाह समच्छों और अविशिष्ट वेग फिल्टरों का उपयोग करता है जो साफ कक्ष में एक स्थिर गति में रहते हैं, हालांकि सभी समान दिशा में नहीं। अपरिष्कृत वायु उन कणों को फंसाने का प्रयास करती है जो हवा में हो सकते हैं और उन्हें फर्श की ओर धकेल सकते हैं, जहां वे फ़िल्टर में प्रवेश करते हैं और साफ वातावरण छोड़ देते हैं। यू. एस. डी. ए. और ई. यू. ने सूक्ष्म जीवाणु संदूषण के लिए दिशानिर्देश तथा सीमा निर्धारित की है, जो भैषज उत्पादों में माइक्रोबियल संदूषण से मुक्त होने के लिए काफी कठोर है।<ref>{{Cite web|url=https://www.thomasnet.com/articles/automation-electronics/Cleanroom-Air-Flow-Principles|title=Cleanroom Air Flow Principles|website=www.thomasnet.com}}</ref> [[ चिपचिपा चटाई ]] के साथ एयर हैंडलर और फैन फिल्टर यूनिट के बीच [[ प्लेनम चैम्बर ]] का भी इस्तेमाल किया जा सकता है।
क्लीन रूम, लैमिनर या अशांत वायु प्रवाह के सिद्धांतों का उपयोग करते हुए, हेपा या यूएलपीए फिल्टर के द्वारा कणों से मुक्त हवा बनाए रखते हैं। पटमीनार या यूनिडायरेक्शनल वायु प्रवाह प्रणाली को फिल्टर की हुई हवा को नीचे की ओर या क्षैतिज दिशा में निर्देशित करती है। सतत वायु प्रक्रमण को बनाए रखने के लिए पटलीय वायु प्रवाह प्रणालियों का आम तौर पर 80% स्वच्छ छत पर कार्यरत किया जाता है। हवा में अतिरिक्त कणों को आने से रोकने के लिए स्टेनलेस स्टील या अन्य गैर शेडिंग सामग्री को लामिनार वायु प्रवाह छन्नी तथा फन के निर्माण में उपयोग किया जाता है। अशांत, या नॉन यूनिडायरेक्शनल वायु प्रवाह लामिनार वायु प्रवाह समच्छों और अविशिष्ट वेग फिल्टरों का उपयोग करता है जो साफ कक्ष में एक स्थिर गति में रहते हैं, हालांकि सभी समान दिशा में नहीं। अपरिष्कृत वायु उन कणों को फंसाने का प्रयास करती है जो हवा में हो सकते हैं और उन्हें फर्श की ओर धकेल सकते हैं, जहां वे फ़िल्टर में प्रवेश करते हैं और साफ वातावरण छोड़ देते हैं। यू. एस. डी. ए. और ई. यू. ने सूक्ष्म जीवाणु संदूषण के लिए दिशानिर्देश तथा सीमा निर्धारित की है, जो भैषज उत्पादों में माइक्रोबियल संदूषण से मुक्त होने के लिए काफी कठोर है।<ref>{{Cite web|url=https://www.thomasnet.com/articles/automation-electronics/Cleanroom-Air-Flow-Principles|title=Cleanroom Air Flow Principles|website=www.thomasnet.com}}</ref> [[ चिपचिपा चटाई |चिपचिपा चटाई]] के साथ एयर हैंडलर और फैन फिल्टर यूनिट के बीच [[ प्लेनम चैम्बर ]] का भी इस्तेमाल किया जा सकता है।


एयर फिल्टर के अलावा, स्वच्छ कमरे भी हवा को कीटाणुरहित करने के लिए पराबैंगनी प्रकाश का उपयोग कर सकते हैं। <ref>{{Cite journal|last1=Guimera|first1=Don|last2=Trzil|first2=Jean|last3=Joyner|first3=Joy|last4=Hysmith|first4=Nicholas D.|date=2018-02-01|title=Effectiveness of a shielded ultraviolet C air disinfection system in an inpatient pharmacy of a tertiary care children's hospital|journal=American Journal of Infection Control|language=en|volume=46|issue=2|pages=223–225|doi=10.1016/j.ajic.2017.07.026|pmid=28865936|issn=0196-6553|doi-access=free}}</ref>]यू वी उपकरणों को अधिकतम छत पर प्रकाश के जुड़नार (जुड़नार) तथा वायु में वायु संचार तंत्र में मिलाया जा सकता है, साथ ही यह संभावित संक्रामक कणों को नष्ट कर सकता है, जिसमें 9999 प्रतिशत हवा में मौजूद माइक्रोबियल और फफूंद संदूषक शामिल हैं।<ref>{{Cite web|url=https://www.outsourcing-pharma.com/Article/2004/02/18/UV-helps-maintain-cleanroom-air-quality|title=UV helps maintain cleanroom air quality|last=outsourcing-pharma.com|website=outsourcing-pharma.com|language=en-GB|access-date=2020-04-15}}</ref>यूवी लाइट का उपयोग पहले रोगाणुरहित वातावरण जैसे अस्पताल के प्रचालन कक्ष में सतह दूषित पदार्थों को साफ करने के लिए किया जाता रहा है।अन्य साफ कमरों में उनका उपयोग बढ़ सकता है क्योंकि उपकरण अधिक किफायती हो जाते हैं।उ. वी. आधारित विसंदूषण के संभावित लाभों में रासायनिक कीटाणुनाशकों पर कम निर्भरता और एचवीसी फिल्टर जीवन का विस्तार शामिल है
एयर फिल्टर के अलावा, स्वच्छ कमरे भी हवा को कीटाणुरहित करने के लिए पराबैंगनी प्रकाश का उपयोग कर सकते हैं।<ref>{{Cite journal|last1=Guimera|first1=Don|last2=Trzil|first2=Jean|last3=Joyner|first3=Joy|last4=Hysmith|first4=Nicholas D.|date=2018-02-01|title=Effectiveness of a shielded ultraviolet C air disinfection system in an inpatient pharmacy of a tertiary care children's hospital|journal=American Journal of Infection Control|language=en|volume=46|issue=2|pages=223–225|doi=10.1016/j.ajic.2017.07.026|pmid=28865936|issn=0196-6553|doi-access=free}}</ref> यू वी उपकरणों को अधिकतम छत पर प्रकाश के जुड़नार (जुड़नार) तथा वायु में वायु संचार तंत्र में मिलाया जा सकता है, साथ ही यह संभावित संक्रामक कणों को नष्ट कर सकता है, जिसमें 9999 प्रतिशत हवा में मौजूद माइक्रोबियल और फफूंद संदूषक शामिल हैं।<ref>{{Cite web|url=https://www.outsourcing-pharma.com/Article/2004/02/18/UV-helps-maintain-cleanroom-air-quality|title=UV helps maintain cleanroom air quality|last=outsourcing-pharma.com|website=outsourcing-pharma.com|language=en-GB|access-date=2020-04-15}}</ref>यूवी लाइट का उपयोग पहले रोगाणुरहित वातावरण जैसे अस्पताल के प्रचालन कक्ष में सतह दूषित पदार्थों को साफ करने के लिए किया जाता रहा है।अन्य साफ कमरों में उनका उपयोग बढ़ सकता है क्योंकि उपकरण अधिक किफायती हो जाते हैं।उ. वी. आधारित विसंदूषण के संभावित लाभों में रासायनिक कीटाणुनाशकों पर कम निर्भरता और एचवीसी फिल्टर जीवन का विस्तार शामिल है


=== विभिन्न प्रकार के साफ-सफाई ===
=== विभिन्न प्रकार के साफ-सफाई ===


कुछ सफाई कक्ष [[ सकारात्मक दबाव ]] में रखे जाते हैं, ताकि यदि कोई लीक हो तो सफाई न की हुई हवा के बजाय चैम्बर से हवा में से हवा बाहर निकलिए। अर्धचालक उत्पादन में यह सबसे अधिक मामला है, जहां लीक के छोटे कणों के द्वारा भी पूरी प्रक्रिया को दूषित किया जा सकता है, जबकि रिसने वाली कोई भी चीज आसपास के समुदाय के लिए हानिकारक नहीं होगी। इसके विपरीत ऐसा किया जाता है जैसे हाई लेवल वाली बायो-लेबोरेटरी के मामले में जो खतरनाक बैक्टीरिया या वायरसों को संभाले, वे हमेशा नकारात्मक दबाव में पड़े रहते हैं और उच्च दक्षता फिल्टर द्वारा उन पर से गुजरने वाले निकास तथा पुनः बंध्याकरण की प्रक्रियाएं दूर हो जाती हैं। दोनों अभी भी सफाई कक्ष हैं, क्योंकि अंदर के कणों का स्तर बहुत ही कम सीमाओं में बना रहता है।
कुछ सफाई कक्ष [[ सकारात्मक दबाव |सकारात्मक दबाव]] में रखे जाते हैं, ताकि यदि कोई लीक हो तो सफाई न की हुई हवा के बजाय चैम्बर से हवा में से हवा बाहर निकलिए। अर्धचालक उत्पादन में यह सबसे अधिक घटना है, जहां लीक के छोटे कणों के द्वारा भी पूरी प्रक्रिया को दूषित किया जा सकता है, जबकि रिसने वाली कोई भी चीज आसपास के समुदाय के लिए हानिकारक नहीं होगी। इसके विपरीत ऐसा किया जाता है जैसे हाई लेवल वाली बायो-लेबोरेटरी के मामले में जो खतरनाक बैक्टीरिया या वायरसों को संभाले, वे हमेशा नकारात्मक दबाव में पड़े रहते हैं और उच्च दक्षता फिल्टर द्वारा उन पर से गुजरने वाले निकास तथा पुनः बंध्याकरण की प्रक्रियाएं दूर हो जाती हैं। दोनों अभी भी सफाई कक्ष हैं, क्योंकि अंदर के कणों का स्तर बहुत ही कम सीमाओं में बना रहता है।


कुछ साफ कमरा [[ एचवीएसी ]] सिस्टम आर्द्रता को इतने निम्न स्तर तक नियंत्रित करते हैं कि [[ स्थिरविद्युत निर्वाह ]] समस्याओं को रोकने के लिए [[ वायु आयनकारक ]] जैसे अतिरिक्त उपकरण की आवश्यकता होती है। अर्धचालक व्यवसाय के भीतर यह एक विशेष चिंता का विषय है, क्योंकि स्थैतिक निर्वहन आधुनिक परिपथ डिजाइनों को आसानी से नुकसान पहुंचा सकता है। दूसरी ओर, हवा में सक्रिय आयन उजागर घटकों को भी नुकसान पहुंचा सकते हैं। इस वजह से उच्च इलेक्ट्रॉनिक्स और अर्धचालक सुविधाओं में अधिकांश श्रमिकों को काम करते समय प्रवाहकीय जूते पहनने पड़ते हैं। निचले स्तर के साफ-सफाई वाले कमरों में केवल विशेष जूते की आवश्यकता हो सकती है, पूरी तरह से चिकने तलवों के साथ जो धूल या गंदगी में ट्रैक नहीं करते हैं। हालांकि, सुरक्षा कारणों से, जूते के तलवों में फिसलने का खतरा नहीं होना चाहिए। साफ कमरा तक पहुंच आमतौर पर आवश्यक मशीनरी सहित, [[ साफ-सुथरा सूट ]] पहनने वालों तक ही सीमित होती है।
कुछ क्लीन रूम [[ एचवीएसी ]] सिस्टम आर्द्रता को इतने निम्न स्तर तक नियंत्रित करते हैं कि [[ स्थिरविद्युत निर्वाह ]] समस्याओं को रोकने के लिए [[ वायु आयनकारक |वायु आयनकारक]] जैसे अतिरिक्त उपकरण की आवश्यकता होती है। अर्धचालक व्यवसाय के भीतर यह एक विशेष चिंता का विषय है, क्योंकि स्थैतिक निर्वहन आधुनिक परिपथ डिजाइनों को आसानी से नुकसान पहुंचा सकता है। दूसरी ओर, हवा में सक्रिय आयन उजागर घटकों को भी नुकसान पहुंचा सकते हैं। इस वजह से उच्च इलेक्ट्रॉनिक्स और अर्धचालक सुविधाओं में अधिकांश श्रमिकों को काम करते समय प्रवाहकीय जूते पहनने पड़ते हैं। निचले स्तर के साफ-सफाई वाले कमरों में केवल विशेष जूते की आवश्यकता हो सकती है, पूरी तरह से चिकने तलवों के साथ जो धूल या गंदगी में ट्रैक नहीं करते हैं। हालांकि, सुरक्षा कारणों से, जूते के तलवों में फिसलने का खतरा नहीं होना चाहिए। क्लीन रूम तक पहुंच आमतौर पर आवश्यक मशीनरी सहित, [[ साफ-सुथरा सूट ]] पहनने वालों तक ही सीमित होती है।


सफाई कक्षों में जहाँ वायु संदूषण के मानक कम कठोर होते हैं, सफाई कक्ष के प्रवेश द्वार में वायु स्नान नहीं होता है। उपकक्ष (एक ग्रे रूम के रूप में जाना जाता है) साफ कमरे के कपड़ों पर डाल करने के लिए प्रयोग किया जाता है कई नाभिकीय संयंत्रों में, जो कि कुल मिलाकर निम्न श्रेणी के व्युत्क्रम दाब साफ-सफाई कक्ष के रूप में काम करते हैं, यह प्रथा बहुत सामान्य है.
सफाई कक्षों में जहाँ वायु संदूषण के मानक कम कठोर होते हैं, सफाई कक्ष के प्रवेश द्वार में वायु स्नान नहीं होता है। उपकक्ष (एक ग्रे रूम के रूप में जाना जाता है) साफ कमरे के कपड़ों पर डाल करने के लिए प्रयोग किया जाता है कई नाभिकीय संयंत्रों में, जो कि कुल मिलाकर निम्न श्रेणी के व्युत्क्रम दाब साफ-सफाई कक्ष के रूप में काम करते हैं, यह प्रथा बहुत सामान्य है.


'''रीसर्क्युलेटिंग बनाम वन पास साफ कमरा'''
'''रीसर्क्युलेटिंग बनाम वन पास क्लीन रूम'''


रीसर्क्युलेटिंग साफ कमरा कम दीवार वाले वायु रिटर्न के माध्यम से नकारात्मक दबाव वाले प्लेनम में हवा लौटाते हैं। हवा को फिर HEPA प्रशंसक फ़िल्टर इकाइयों द्वारा वापस साफ कमरा में खींच लिया जाता है। हवा लगातार घूम रही है और हर बार हवा से कणों को हटाते हुए HEPA निस्पंदन के माध्यम से लगातार गुजर रही है। इस डिजाइन का एक अन्य लाभ एयर कंडीशनिंग को शामिल किया जा सकता है।
रीसर्क्युलेटिंग क्लीन रूम कम दीवार वाले वायु रिटर्न के माध्यम से नकारात्मक दबाव वाले प्लेनम में हवा लौटाते हैं। हवा को फिर HEPA प्रशंसक फ़िल्टर इकाइयों द्वारा वापस क्लीन रूम में खींच लिया जाता है। हवा लगातार घूम रही है और हर बार हवा से कणों को हटाते हुए HEPA निस्पंदन के माध्यम से लगातार गुजर रही है। इस डिजाइन का एक अन्य लाभ एयर कंडीशनिंग को शामिल किया जा सकता है।


एक पास साफ कमरा साफ कमरा के बाहर से हवा खींचता है, इसे HEPA फैन फिल्टर यूनिट के माध्यम से साफ कमरा में पास करता है। हवा फिर एग्जॉस्ट ग्रिल के जरिए साफ कमरा के बाहर निकल जाती है। इस दृष्टिकोण का लाभ कम लागत है। नुकसान कम HEPA प्रशंसक फ़िल्टर लाइव हैं, समान रीसर्क्युलेटिंग साफ कमरा की तुलना में बदतर कण मायने रखता है, और एयर कंडीशनिंग को समायोजित नहीं कर सकता है।
एक पास क्लीन रूम क्लीन रूम के बाहर से हवा खींचता है, इसे HEPA फैन फिल्टर यूनिट के माध्यम से क्लीन रूम में पास करता है। हवा फिर एग्जॉस्ट ग्रिल के जरिए क्लीन रूम के बाहर निकल जाती है। इस दृष्टिकोण का लाभ कम लागत है। नुकसान कम HEPA प्रशंसक फ़िल्टर लाइव हैं, समान रीसर्क्युलेटिंग क्लीन रूम की तुलना में बदतर कण मायने रखता है, और एयर कंडीशनिंग को समायोजित नहीं कर सकता है।


== संचालन प्रक्रिया ==
== संचालन प्रक्रिया ==


किसी व्यक्ति द्वारा क्लीनरूम में घुसकर उसके कणों को कम करने के लिए, स्टाफ [[ एयरलॉक ]] में से घुसकर बाहर जा सकते हैं, [[ एयर शावर (कमरा) ]] (कभी-कभी हवा में नहाने के चरण सहित) और सुरक्षात्मक कपड़ों जैसे फन, फेस मास्क, दस्ताने, बूट और किट पहनते हैं।
किसी व्यक्ति द्वारा क्लीन रूम में घुसकर उसके कणों को कम करने के लिए, स्टाफ [[ एयरलॉक ]] में से घुसकर बाहर जा सकते हैं, [[ एयर शावर (कमरा) ]] (कभी-कभी हवा में नहाने के चरण सहित) और सुरक्षात्मक कपड़ों जैसे फन, फेस मास्क, दस्ताने, बूट और किट पहनते हैं।


सामान्य सामग्री जैसे कागज़, पेंसिल, और प्राकृतिक फाइबर से बने कपड़े अक्सर अलग किये जाते हैं क्योंकि उनके द्वारा उपयोग किये जाने वाले कणों को छुड़ा जाता है।
सामान्य सामग्री जैसे कागज़, पेंसिल, और प्राकृतिक फाइबर से बने कपड़े अक्सर अलग किये जाते हैं क्योंकि उनके द्वारा उपयोग किये जाने वाले कणों को छुड़ा जाता है।
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कण के स्तर की जांच सामान्यतया [[ कण काउंटर ]] तथा सूक्ष्मजीवों द्वारा की जाती है और पर्यावरण निगरानी विधियों द्वारा गिनी जाती है।।<ref>{{Cite journal|author=Sandle, T |title=Application of quality risk management to set viable environmental monitoring frequencies in biotechnology processing and support areas|journal=[[PDA (journal)|PDA J Pharm Sci Technol]] |volume=66 |issue=6 |pages=560–79|date=November 2012 |doi=10.5731/pdajpst.2012.00891|pmid=23183652|s2cid=7970}}</ref><रेफ नाम = सैंडल, टी 392–403 >{{Cite journal|author=Sandle, T |title=A review of cleanroom microflora: types, trends, and patterns|journal=[[PDA (journal)|PDA J Pharm Sci Technol]] |volume=65 |issue=4 |pages=392–403|date=November 2011 |doi=10.5731/pdajpst.2011.00765|pmid=22293526|s2cid=25970142}}<nowiki></ref></nowiki>
कण के स्तर की जांच सामान्यतया [[ कण काउंटर ]] तथा सूक्ष्मजीवों द्वारा की जाती है और पर्यावरण निगरानी विधियों द्वारा गिनी जाती है।।<ref>{{Cite journal|author=Sandle, T |title=Application of quality risk management to set viable environmental monitoring frequencies in biotechnology processing and support areas|journal=[[PDA (journal)|PDA J Pharm Sci Technol]] |volume=66 |issue=6 |pages=560–79|date=November 2012 |doi=10.5731/pdajpst.2012.00891|pmid=23183652|s2cid=7970}}</ref><रेफ नाम = सैंडल, टी 392–403 >{{Cite journal|author=Sandle, T |title=A review of cleanroom microflora: types, trends, and patterns|journal=[[PDA (journal)|PDA J Pharm Sci Technol]] |volume=65 |issue=4 |pages=392–403|date=November 2011 |doi=10.5731/pdajpst.2011.00765|pmid=22293526|s2cid=25970142}}<nowiki></ref></nowiki>


साफ कमरा में उपयोग किए जाने वाले [[ पॉलीमर | पॉलीमर]] टूल्स को सावधानीपूर्वक निर्धारित किया जाना चाहिए कि साफ कमरा प्रोसेसिंग फ्लुइड्स के साथ रासायनिक संगतता हो   
क्लीन रूम में उपयोग किए जाने वाले [[ पॉलीमर | पॉलीमर]] टूल्स को सावधानीपूर्वक निर्धारित किया जाना चाहिए कि क्लीन रूम प्रोसेसिंग फ्लुइड्स के साथ रासायनिक संगतता हो   


रेफरी>{{Cite journal|last1=Heikkinen|first1=Ismo T.S.|last2=Kauppinen|first2=Christoffer|last3=Liu|first3=Zhengjun|last4=Asikainen|first4=Sanja M.|last5=Spoljaric|first5=Steven|last6=Seppälä|first6=Jukka V.|last7=Savin|first7=Hele|author-link7=Hele Savin|date=October 2018|title=Chemical compatibility of fused filament fabrication-based 3-D printed components with solutions commonly used in semiconductor wet processing|journal=Additive Manufacturing|volume=23|pages=99–107|doi=10.1016/j.addma.2018.07.015|s2cid=139867946 |issn=2214-8604|url=https://hal.archives-ouvertes.fr/hal-02111366/file/Chemical_Compatibility_of_Fused_Filament.pdf}}<nowiki></ref></nowiki>
रेफरी>{{Cite journal|last1=Heikkinen|first1=Ismo T.S.|last2=Kauppinen|first2=Christoffer|last3=Liu|first3=Zhengjun|last4=Asikainen|first4=Sanja M.|last5=Spoljaric|first5=Steven|last6=Seppälä|first6=Jukka V.|last7=Savin|first7=Hele|author-link7=Hele Savin|date=October 2018|title=Chemical compatibility of fused filament fabrication-based 3-D printed components with solutions commonly used in semiconductor wet processing|journal=Additive Manufacturing|volume=23|pages=99–107|doi=10.1016/j.addma.2018.07.015|s2cid=139867946 |issn=2214-8604|url=https://hal.archives-ouvertes.fr/hal-02111366/file/Chemical_Compatibility_of_Fused_Filament.pdf}}<nowiki></ref></nowiki>
Line 80: Line 78:
रेफरी>{{Cite journal|last1=Pasanen|first1=T.P.|last2=von Gastrow|first2=G.|last3=Heikkinen|first3=I.T.S.|last4=Vähänissi|first4=V.|last5=Savin|first5=H.|last6=Pearce|first6=J.M.|date=January 2019|title=Compatibility of 3-D printed devices in cleanroom environments for semiconductor processing|journal=Materials Science in Semiconductor Processing|volume=89|pages=59–67|doi=10.1016/j.mssp.2018.08.027|s2cid=105579272 |issn=1369-8001|url=https://aaltodoc.aalto.fi/handle/123456789/34055}}<nowiki></ref></nowiki>
रेफरी>{{Cite journal|last1=Pasanen|first1=T.P.|last2=von Gastrow|first2=G.|last3=Heikkinen|first3=I.T.S.|last4=Vähänissi|first4=V.|last5=Savin|first5=H.|last6=Pearce|first6=J.M.|date=January 2019|title=Compatibility of 3-D printed devices in cleanroom environments for semiconductor processing|journal=Materials Science in Semiconductor Processing|volume=89|pages=59–67|doi=10.1016/j.mssp.2018.08.027|s2cid=105579272 |issn=1369-8001|url=https://aaltodoc.aalto.fi/handle/123456789/34055}}<nowiki></ref></nowiki>


सफाई करते समय केवल स्पेशल मोप्स और बाल्टी का ही उपयोग किया जाता है। सफाई करने वाले रसायनों में धूल को पकड़ने के लिए चिपचिपी तत्वों को शामिल किया जाता है, और इन्हें हल्के मोलेक्यूलर वेट सॉल्वैट्स से हटाने के लिए इसे दूसरे चरण की ज़रूरत पड़ सकती है। क्लीनरूम फर्नीचर को कम से कम कणों का उत्पादन करने के लिए पहले डिज़ाइन किया गया है, और यह आसानी से साफ किया जा सकता है।
सफाई करते समय केवल स्पेशल मोप्स और बाल्टी का ही उपयोग किया जाता है। सफाई करने वाले रसायनों में धूल को पकड़ने के लिए चिपचिपी तत्वों को शामिल किया जाता है, और इन्हें हल्के मोलेक्यूलर वेट सॉल्वैट्स से हटाने के लिए इसे दूसरे चरण की ज़रूरत पड़ सकती है। क्लीन रूम फर्नीचर को कम से कम कणों का उत्पादन करने के लिए पहले डिज़ाइन किया गया है, और यह आसानी से साफ किया जा सकता है।


एक क्लीन रूम उतनी ही प्रक्रिया और इसे बनाए रखने के लिए एक सावधानीपूर्वक कल्चर है, क्योंकि यह एक ऐसी जगह है।
एक क्लीन रूम उतनी ही प्रक्रिया और इसे बनाए रखने के लिए एक सावधानीपूर्वक कल्चर है, क्योंकि यह एक ऐसी जगह है।
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क्लीनरूम संदूषण के लिए सबसे बड़ा खतरा उपयोगकर्ताओं से आता है। <ref>{{Cite news|url=https://blog.ansi.org/2015/07/cleanroom-and-controlled-environment/|title=Cleanroom and Controlled Environment Attire - ANSI Blog|date=2015-07-15|work=The ANSI Blog|access-date=2018-11-24|language=en-US}}</ref>स्वास्थ्य देखभाल और दवा क्षेत्रों में, सूक्ष्मजीवों का नियंत्रण महत्वपूर्ण है,  विशेषकर सूक्ष्मजीवों को वायु प्रवाह में त्वचा की बहा में जमा करने की संभावना है। रुझान के आकलन के लिए सूक्ष्म जीवविज्ञानियों और गुणवत्ता नियंत्रण कार्मिकों के लिए क्लीनरूम माइक्रोफ़्लोरा का अध्ययन महत्वपूर्ण है। माइक्रोफ़्लोरा की किस्मों में परिवर्तन से मानक के विचलन का संकेत मिलता है जैसे प्रतिरोधी नस्लों या सफाई प्रथाओं के साथ समस्याओं।
क्लीन रूम संदूषण के लिए सबसे बड़ा खतरा उपयोगकर्ताओं से आता है। <ref>{{Cite news|url=https://blog.ansi.org/2015/07/cleanroom-and-controlled-environment/|title=Cleanroom and Controlled Environment Attire - ANSI Blog|date=2015-07-15|work=The ANSI Blog|access-date=2018-11-24|language=en-US}}</ref>स्वास्थ्य देखभाल और दवा क्षेत्रों में, सूक्ष्मजीवों का नियंत्रण महत्वपूर्ण है,  विशेषकर सूक्ष्मजीवों को वायु प्रवाह में त्वचा की बहा में जमा करने की संभावना है। रुझान के आकलन के लिए सूक्ष्म जीवविज्ञानियों और गुणवत्ता नियंत्रण कार्मिकों के लिए क्लीन रूम माइक्रोफ़्लोरा का अध्ययन महत्वपूर्ण है। माइक्रोफ़्लोरा की किस्मों में परिवर्तन से मानक के विचलन का संकेत मिलता है जैसे प्रतिरोधी नस्लों या सफाई प्रथाओं के साथ समस्याओं।


क्लीनरूम सूक्ष्म जीवों का आकलन करने के लिए, सामान्य वनस्पति मुख्य रूप से मानव त्वचा (ग्राम पॉजिटिव कोसी) से जुड़ी होती है, हालांकि पर्यावरण जैसे अन्य स्रोतों से सूक्ष्मजीव। ग्राम-पॉजिटिव छड़ पानी और
क्लीन रूम सूक्ष्म जीवों का आकलन करने के लिए, सामान्य वनस्पति मुख्य रूप से मानव त्वचा (ग्राम पॉजिटिव कोसी) से जुड़ी होती है, हालांकि पर्यावरण जैसे अन्य स्रोतों से सूक्ष्मजीव। ग्राम-पॉजिटिव छड़ पानी और


ग्राम-नकारात्मक छड़) का भी पता चलता है, हालांकि कम संख्या में माइक्रोकॉकस, स्टेफ़ायलोकोकस, कोरिनेबैक्टीरियम, और बैसिलस सामान्य बैक्टीरियल वंश में एस्पर्गिलस और पेनिसिलियम शामिल होते हैं।<ref name="Sandle," t="" 392–403="" />
ग्राम-नकारात्मक छड़) का भी पता चलता है, हालांकि कम संख्या में माइक्रोकॉकस, स्टेफ़ायलोकोकस, कोरिनेबैक्टीरियम, और बैसिलस सामान्य बैक्टीरियल वंश में एस्पर्गिलस और पेनिसिलियम शामिल होते हैं।<ref name="Sandle," t="" 392–403="" />


== साफ कमरा वर्गीकरण और मानकीकरण ==
== क्लीन रूम वर्गीकरण और मानकीकरण ==
[[File:ISS space station modules in the SSPF.jpg|thumb|300px|[[ कैनेडी स्पेस सेंटर ]] [[ अंतरिक्ष स्टेशन प्रसंस्करण सुविधा ]] का साफ कमरा प्रोसेसिंग बे। NASA SSPF में 100,000 वर्ग का मानक रखता है<ref>{{Cite web|url=https://science.ksc.nasa.gov/facilities/sspf.html|title=Space Station Processing Facility (SSPF)|website=science.ksc.nasa.gov}}</ref>]]
[[File:ISS space station modules in the SSPF.jpg|thumb|300px|[[ कैनेडी स्पेस सेंटर ]] [[ अंतरिक्ष स्टेशन प्रसंस्करण सुविधा ]] का क्लीन रूम प्रोसेसिंग बे। NASA SSPF में 100,000 वर्ग का मानक रखता है<ref>{{Cite web|url=https://science.ksc.nasa.gov/facilities/sspf.html|title=Space Station Processing Facility (SSPF)|website=science.ksc.nasa.gov}}</ref>]]
साफ कमरा को हवा की मात्रा के अनुसार अनुमत कणों की संख्या और आकार के अनुसार वर्गीकृत किया जाता है। कक्षा 100 या "वर्ग 1000" जैसी बड़ी संख्याएँ [[ FED-STD-209E ]] को संदर्भित करती हैं, और आकार के कणों की संख्या को दर्शाती हैं जिनका आकार 0.5 μm या उससे अधिक प्रति घन फुट हवा में होता है। मानक भी प्रक्षेप की अनुमति देता है; उदाहरण के लिए [[ SNOLAB ]] को 2000 वर्ग के साफ कमरा के रूप में बनाए रखा गया है।
क्लीन रूम को हवा की मात्रा के अनुसार अनुमत कणों की संख्या और आकार के अनुसार वर्गीकृत किया जाता है। कक्षा 100 या "वर्ग 1000" जैसी बड़ी संख्याएँ [[ FED-STD-209E ]] को संदर्भित करती हैं, और आकार के कणों की संख्या को दर्शाती हैं जिनका आकार 0.5 μm या उससे अधिक प्रति घन फुट हवा में होता है। मानक भी प्रक्षेप की अनुमति देता है; उदाहरण के लिए [[ SNOLAB ]] को 2000 वर्ग के क्लीन रूम के रूप में बनाए रखा गया है।


एक असतत, प्रकाश-प्रकीर्णन हवाई कण काउंटर का उपयोग निर्दिष्ट नमूना स्थानों पर, निर्दिष्ट आकारों के बराबर और बड़े हवाई कणों की एकाग्रता को निर्धारित करने के लिए किया जाता है।
एक असतत, प्रकाश-प्रकीर्णन हवाई कण काउंटर का उपयोग निर्दिष्ट नमूना स्थानों पर, निर्दिष्ट आकारों के बराबर और बड़े हवाई कणों की एकाग्रता को निर्धारित करने के लिए किया जाता है।


छोटी संख्याएँ [[ ISO 14644 ]]|ISO 14644-1 मानकों को संदर्भित करती हैं, जो कणों की संख्या के दशमलव लघुगणक को निर्दिष्ट करती हैं 0.1 μm या उससे अधिक की अनुमति देती है। इसलिए, उदाहरण के लिए, एक ISO क्लास 5 साफ कमरा में अधिकतम 10 . होता है<sup>5</sup> कण/m<sup>3</सुप>.
छोटी संख्या [[ ISO 14644 |ISO 14644]] मानकों के लिए संदर्भित होती है, जो कणों की संख्या की दशमलव लघुगणक को 0.1 μ या हवा के प्रति 3 μ या उससे भी बड़ी अनुज्ञात होती है। इसलिए, उदाहरण के लिए, 105 कणों/m3 में आईएसओ क्लास 5 क्लीन रूम होता है।


FS 209E और ISO 14644-1 दोनों कण आकार और  सांद्रता के बीच लॉग-लॉग संबंध मानते हैं। उस कारण से, शून्य कण में सांद्रता मौजूद नहीं है। कुछ वर्गों को कुछ कण आकारों के परीक्षण की आवश्यकता नहीं होती है, क्योंकि परीक्षण के लिए व्यावहारिक होने के लिए एकाग्रता बहुत कम या बहुत अधिक है, लेकिन ऐसे रिक्त स्थान को शून्य के रूप में नहीं पढ़ा जाना चाहिए।
दोनों एफएस  FS 209E और आईएसओ 14644 इस कारण से, शून्य कण एकाग्रता मौजूद नहीं है। कुछ कक्षाओं में कुछ कणों के आकारों का परीक्षण करने की आवश्यकता नहीं होती क्योंकि एकाग्रता इतनी कम या बहुत ऊंची होती है कि उसका परीक्षण नहीं किया जा सकता परंतु ऐसे रिक्त स्थानों को शून्य के रूप में नहीं पढ़ा जाना चाहिए।


क्योंकि 1 एम<sup>3</sup> लगभग 35 ft . है<sup>3</sup>, 0.5 माइक्रोन कणों को मापते समय दो मानक अधिकतर समान होते हैं, हालांकि परीक्षण मानकों में अंतर होता है। साधारण कमरे की हवा कक्षा 1,000,000 या आईएसओ 9 के आसपास होती है।<ref>{{Cite web |url=http://www.ee.byu.edu/cleanroom/particlecount.phtml |title=Cleanroom Classification / Particle Count / FS209E / ISO TC209 /<!-- Bot generated title --> |access-date=2008-03-05 |archive-url=https://web.archive.org/web/20080214104020/http://www.ee.byu.edu/cleanroom/particlecount.phtml |archive-date=2008-02-14 |url-status=dead }}</ref>
चूँकि 1 एम 3 लगभग 35 μ कणों की माप के लगभग समतुल्य हैं, जबकि दोनों मानक 0.5 μ कणों के माप होते हैं, हालांकि परीक्षण मानकों में अंतर होता है.सामान्य कमरे की हवा लगभग 1,000,000 वर्ग या 9 आइओ के आसपास है।<ref>{{Cite web |url=http://www.ee.byu.edu/cleanroom/particlecount.phtml |title=Cleanroom Classification / Particle Count / FS209E / ISO TC209 /<!-- Bot generated title --> |access-date=2008-03-05 |archive-url=https://web.archive.org/web/20080214104020/http://www.ee.byu.edu/cleanroom/particlecount.phtml |archive-date=2008-02-14 |url-status=dead }}</ref>




=== आईएसओ 14644-1 और [[ आईएसओ 14698 ]] ===
=== आईएसओ 14644-1 और [[ आईएसओ 14698 ]] ===
आईएसओ 14644|आईएसओ 14644-1 और आईएसओ 14698 गैर-सरकारी संगठन/गैर-सरकारी मानक हैं जिन्हें अंतर्राष्ट्रीय मानकीकरण संगठन (आईएसओ) द्वारा विकसित किया गया है।<ref>{{Cite web|url=http://www.iso.org/iso/catalogue_detail?csnumber=53394|title=ISO 14644-1:2015 - Cleanrooms and associated controlled environments -- Part 1: Classification of air cleanliness by particle concentration|website=ISO|access-date=2016-09-12}}</ref> पूर्व सामान्य रूप से साफ कमरों पर लागू होता है (नीचे तालिका देखें); उत्तरार्द्ध सफाई कक्ष जहां सं[[ दूषण ]] एक मुद्दा हो सकता है। चूंकि सख्त मानकों को केवल अंतरिक्ष अनुप्रयोगों के लिए ही हासिल किया गया है, इसलिए कभी-कभी यह जानना मुश्किल होता है कि क्या वे निर्वात या मानक परिस्थितियों में हासिल किए गए थे।
आईएसओ 14644-1 और आईएसओ 14698 गैर-सरकारी संगठन/गैर-सरकारी मानक हैं जिन्हें अंतर्राष्ट्रीय मानकीकरण संगठन (आईएसओ) द्वारा विकसित किया गया है।<ref>{{Cite web|url=http://www.iso.org/iso/catalogue_detail?csnumber=53394|title=ISO 14644-1:2015 - Cleanrooms and associated controlled environments -- Part 1: Classification of air cleanliness by particle concentration|website=ISO|access-date=2016-09-12}}</ref> पूर्व सामान्य रूप से साफ कमरों पर लागू होता है (नीचे तालिका देखें); उत्तरार्द्ध सफाई कक्ष जहां [[ दूषण |संदूषण]] एक मुद्दा हो सकता है। चूंकि सख्त मानकों को केवल अंतरिक्ष अनुप्रयोगों के लिए ही हासिल किया गया है, इसलिए कभी-कभी यह जानना मुश्किल होता है कि क्या वे निर्वात या मानक परिस्थितियों में हासिल किए गए थे।


आईएसओ 14644|आईएसओ 14644-1 निम्नलिखित सूत्र के साथ प्रति वर्ग और प्रति कण आकार के कणों की अधिकतम सांद्रता को परिभाषित करता है<ref name="Whyte2001">{{cite book|author=W. Whyte|title=Cleanroom Technology: Fundamentals of Design, Testing and Operation|url=https://books.google.com/books?id=-ufEtmr1sBgC|date=17 October 2001|publisher=John Wiley & Sons|isbn=978-0-471-86842-2}}</ref>
आईएसओ 146441 प्रति वर्ग कणों की अधिकतम एकाग्रता और प्रति कण आकार को निम्नलिखित सूत्र के साथ परिभाषित करता है।<ref name="Whyte2001">{{cite book|author=W. Whyte|title=Cleanroom Technology: Fundamentals of Design, Testing and Operation|url=https://books.google.com/books?id=-ufEtmr1sBgC|date=17 October 2001|publisher=John Wiley & Sons|isbn=978-0-471-86842-2}}</ref>


<math>\text{C}_\text{N} = 10^{\text{N}} \left(\frac{0.1}{\text{D}}\right)^{2.08}</math>
<math>\text{C}_\text{N} = 10^{\text{N}} \left(\frac{0.1}{\text{D}}\right)^{2.08}</math>
कहाँ पे <math>\text{C}_\text{N}</math> 1m . की मात्रा में कणों की अधिकतम सांद्रता है<math>^3</math> वायुवाहित कणों की संख्या, जो तीन से अधिक महत्वपूर्ण आंकड़ों का उपयोग करते हुए, कण आकार के बराबर या उससे अधिक है, जो निकटतम पूर्ण संख्या में गोल है, <math>\text{N}</math> आईएसओ वर्ग संख्या है, <math>\text{D}</math> में कण का आकार है <math>\mu</math>मी और 0.1 एक स्थिरांक है जिसे में व्यक्त किया जाता है <math>\mu</math>एम। मानक कण आकार का परिणाम निम्न तालिका में व्यक्त किया गया है।
कहाँ पे <math>\text{C}_\text{N}</math> 1m . की मात्रा में कणों की अधिकतम सांद्रता है<math>^3</math> वायुवाहित कणों की संख्या, जो तीन से अधिक महत्वपूर्ण आंकड़ों का उपयोग करते हुए, कण आकार के बराबर या उससे अधिक है, जो निकटतम पूर्ण संख्या में गोल है, <math>\text{N}</math> आईएसओ वर्ग संख्या है, <math>\text{D}</math> में कण का आकार है <math>\mu</math>मी और 0.1 एक स्थिरांक है जिसे <math>\mu</math>एम में व्यक्त किया जाता है। मानक कण आकार का परिणाम निम्न तालिका में व्यक्त किया गया है।


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=== यूएस फेड एसटीडी 209ई ===
=== यूएस फेड एसटीडी 209ई ===
US FED-STD-209E [[ संयुक्त राज्य अमेरिका ]] के मानक की एक संयुक्त राज्य संघीय सरकार थी। इसे 29 नवंबर, 2001 को [[ सामान्य सेवा प्रशासन ]] द्वारा आधिकारिक रूप से रद्द कर दिया गया था।<ref>{{Cite web|url=https://www.iest.org/Standards-RPs/ISO-Standards/FED-STD-209E|title=Federal Standard 209E Cancellation|website=www.iest.org}}</ref><ref>{{cite web |url=http://www.wbdg.org/ccb/FEDMIL/notices.pdf |title=Archived copy |access-date=2008-04-17 |url-status=dead |archive-url=https://web.archive.org/web/20080528111035/http://www.wbdg.org/ccb/FEDMIL/notices.pdf |archive-date=2008-05-28 }}, page 148</ref> लेकिन अभी भी व्यापक रूप से उपयोग किया जाता है।<ref>{{cite web | url=http://www.nufab.northwestern.edu/files/2015/10/NUFAB-Safety-Protocol-Policy-10gsrfd.pdf | title=NUFAB SAFETY & PROTOCOL | access-date=24 February 2016}}</ref>
US FED-STD-209E [[ संयुक्त राज्य अमेरिका ]] के मानक की एक संयुक्त राज्य संघीय सरकार थी। इसे 29 नवंबर, 2001 को [[ सामान्य सेवा प्रशासन ]] द्वारा आधिकारिक रूप से रद्द कर दिया गया था।<ref>{{Cite web|url=https://www.iest.org/Standards-RPs/ISO-Standards/FED-STD-209E|title=Federal Standard 209E Cancellation|website=www.iest.org}}</ref><ref>{{cite web |url=http://www.wbdg.org/ccb/FEDMIL/notices.pdf |title=Archived copy |access-date=2008-04-17 |url-status=dead |archive-url=https://web.archive.org/web/20080528111035/http://www.wbdg.org/ccb/FEDMIL/notices.pdf |archive-date=2008-05-28 }}, page 148</ref> लेकिन इसे अभी भी व्यापक रूप से उपयोग किया जाता है।<ref>{{cite web | url=http://www.nufab.northwestern.edu/files/2015/10/NUFAB-Safety-Protocol-Policy-10gsrfd.pdf | title=NUFAB SAFETY & PROTOCOL | access-date=24 February 2016}}</ref>


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| align="center"| ISO 8
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वर्तमान नियामक निकायों में शामिल हैं: ISO, USP 800, US FED STD 209E (पिछला मानक, अभी भी उपयोग किया जाता है)
वर्तमान नियामक निकायों में शामिल हैं: यूएस फेड एसटीडी 209 ई (पिछला मानक, अभी भी उपयोग किया जाता है)


* ड्रग कंपाउंडिंग मौतों और गंभीर प्रतिकूल घटनाओं के जवाब में नवंबर 2013 में ड्रग क्वालिटी एंड सिक्योरिटी एक्ट (डीक्यूएसए) बनाया गया।
* ड्रग कंपाउंडिंग मौतों और गंभीर प्रतिकूल घटनाओं के जवाब में नवंबर 2013 में ड्रग क्वालिटी एंड सिक्योरिटी एक्ट (डीक्यूएसए) बनाया गया।
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=== यूरोपीय संघ जीएमपी वर्गीकरण ===
=== यूरोपीय संघ जीएमपी वर्गीकरण ===
ईयू जीएमपी दिशानिर्देश दूसरों की तुलना में अधिक कड़े हैं, संचालन के दौरान (निर्माण प्रक्रिया के दौरान) और आराम से (जब निर्माण प्रक्रिया नहीं की जाती है, लेकिन रूम एयर हैंडलर चालू है) कण गणना को पूरा करने के लिए साफ कमरा की आवश्यकता होती है।
ईयू जीएमपी के दिशानिर्देश दूसरों की तुलना में कठोर होते हैं, प्रक्रिया के दौरान कणों की मात्रा को पूरा करने के लिए सफाई कक्षों की आवश्यकता होती है। (विनिर्माण प्रक्रिया के दौरान) और आराम करो (जब विनिर्माण प्रक्रिया नहीं की जाती है, लेकिन कमरे में  ए एच यू AHU चालू है।)
   
   
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बीएस 5295 कक्षा 1 के लिए यह भी आवश्यक है कि किसी भी नमूने में मौजूद सबसे बड़ा कण 5 माइक्रोन से अधिक न हो।<ref>{{cite web|title=What is a Clean Room?
बीएस 5295 का अधिक्रमण कर दिया गया है, और वर्ष 2007 के बाद से वापस ले लिया गया है इसका स्थान बीएस एन आईएसओ BS EN ISO 14644-6:2007 से लिया गया है।<ref>{{cite web|title=BS 5295-0:1989 - Environmental cleanliness in enclosed spaces. General introduction, terms and definitions for clean rooms and clean air devices
|author=Market Venture Philippines Inc. web site
|date=2006-04-19
|access-date=2007-06-02
|url=http://www.mvent.com.ph/references/cleanroom.htm
|archive-url=https://web.archive.org/web/20120828005933/http://www.mvent.com.ph/references/cleanroom.htm
|archive-date=2012-08-28}}</ref> बीएस 5295 को हटा दिया गया है, वर्ष 2007 से वापस ले लिया गया है और बीएस एन आईएसओ 14644-6: 2007 के साथ बदल दिया गया है।<ref>{{cite web|title=BS 5295-0:1989 - Environmental cleanliness in enclosed spaces. General introduction, terms and definitions for clean rooms and clean air devices
|date=2016
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=== यूएसपी <800> मानक ===
=== यूएसपी <800> मानक ===
यूएसपी 800 यूनाइटेड स्टेट्स फार्माकोपियल कन्वेंशन (यूएसपी) द्वारा विकसित एक संयुक्त राज्य मानक है जिसकी प्रभावी तिथि 1 दिसंबर, 2019 है।<ref>{{Cite web|url=https://www.usp.org/compounding/general-chapter-hazardous-drugs-handling-healthcare|title=USP 800 {{!}} USP|website=www.usp.org|language=en|access-date=2020-04-13}}</ref>
यूएसपी 800 एक संयुक्त राज्य अमेरिका का मानक है जिसे यूनाइटेड स्टेट्स फार्माकोपियल कन्वेंशन (यूएसपी) द्वारा विकसित किया गया है, जिसकी प्रभावी तिथि 1 दिसंबर, 2019 है।<ref>{{Cite web|url=https://www.usp.org/compounding/general-chapter-hazardous-drugs-handling-healthcare|title=USP 800 {{!}} USP|website=www.usp.org|language=en|access-date=2020-04-13}}</ref>




== प्रभाव और आगे के अनुप्रयोग ==
== प्रभाव और आगे के अनुप्रयोग ==


[[ अस्पताल ]]ों में, ऑपरेशन थिएटर सर्जिकल रोगियों के ऑपरेशन के लिए [[ सर्जिकल चीरा ]] के साथ साफ कमरा के समान होते हैं ताकि रोगी के लिए किसी भी संक्रमण को रोका जा सके।
[[ अस्पताल | अस्पतालो]] में, ऑपरेशन थिएटर सर्जिकल रोगियों के ऑपरेशन के लिए [[ सर्जिकल चीरा ]] के साथ क्लीन रूम के समान होते हैं ताकि रोगी के लिए किसी भी संक्रमण को रोका जा सके।


एक अन्य मामले में, गंभीर रूप से प्रतिरक्षित रोगियों को कभी-कभी संक्रमण के डर से अपने परिवेश से लंबे समय तक अलगाव में रखना पड़ता है। चरम पर, इसके लिए एक साफ-सुथरे वातावरण की आवश्यकता होती है। हवाई संक्रामक रोगों को ले जाने वाले रोगियों के लिए भी यही स्थिति है, केवल उन्हें नकारात्मक दबाव में संभाला जाता है, सकारात्मक दबाव में नहीं।
[[ अस्पताल | अस्पतालो]] में, थिएटर, [[ सर्जिकल चीरा |सर्जिकल चीरा]] के लिए ऑपरेशन, शल्य चिकित्सा रोगियों के ऑपरेशन के समान होते हैं ताकि रोगी को कोई संक्रमण से बचा जा सके।


[[ जीव विज्ञान ]] में जब हम अन्य ग्रहों के साथ संपर्क तलाशते हैं, तो दोनों तरह से एक जैविक खतरा होता है: हमें स्थलीय रोगाणुओं के साथ अन्य तारकीय निकायों से किसी भी नमूना वापसी मिशन को दूषित नहीं करना चाहिए, और हमें अन्य ग्रहों में मौजूद संभावित अन्य पारिस्थितिक तंत्रों को दूषित नहीं करना चाहिए। इस प्रकार, यहां तक ​​कि अंतरराष्ट्रीय कानून द्वारा, बाहरी अंतरिक्ष में भेजे जाने वाले किसी भी जांच को निष्फल होना चाहिए, और इसलिए इसे साफ-सुथरे परिस्थितियों में संभाला जाना चाहिए।
संक्रमित होने के डर से गंभीर रूप से प्रभावित रोगियों को अपने आसपास के वातावरण से दूर रहकर लंबे समय तक अलग-थलग रहना पड़ता है।चरम पर, यह एक स्वच्छ वातावरण की आवश्यकता होती हैवायु जनित संक्रामक रोग उठाने वाले रोगियों के लिए भी यही स्थिति है।
 
[[ जीव विज्ञान | जीव विज्ञान]] जब हम दूसरे ग्रहों से संपर्क करना चाहते हैं, तब जैविक खतरा दोनों ही प्रकार से होते हैं, हमें अन्य ग्रहों में स्थित अन्य पारिस्थितिक तंत्रों से किसी भी नमूने को फिर से दूषित नहीं करना चाहिए और अन्य ग्रहों में स्थित अन्य पारिस्थितिक तंत्रों को भी दूषित नहीं करना चाहिए। इस प्रकार, अंतर्राष्ट्रीय कानून के अनुसार, बाह्य अंतरिक्ष में भेजे जाने वाली जांच के लिए बाँझ होना आवश्यक है और इसलिए साफ-सफाई की स्थिति में इसका इस्तेमाल किया जाना चाहिए।
 
चूंकि बड़े सफाई कक्ष बहुत संवेदनशील नियंत्रित वातावरण होते हैं, जिसके अंतर्गत कई अरब डॉलर का उद्योग हो सकता है, कई बार उन्हें [[ भूकंपीय आधार अलगाव |भूकंपीय आधार अलगाव]] तंत्र भी फिट किया जाता है ताकि महंगे उपकरण की खराबी को रोका जा सके।।<ref>{{Cite web|url=https://www.youtube.com/watch?v=4Q_n4vdyZzc |archive-url=https://ghostarchive.org/varchive/youtube/20211212/4Q_n4vdyZzc| archive-date=2021-12-12 |url-status=live|title=Semiconductor Technology at TSMC, 2011|via=www.youtube.com}}{{cbignore}}</ref>


चूंकि बड़े सफाई कक्ष बहुत संवेदनशील नियंत्रित वातावरण होते हैं, जिसके भीतर अरबों डॉलर का उद्योग हो सकता है, कभी-कभी महंगे उपकरण की खराबी को रोकने के लिए उन्हें कई [[ भूकंपीय आधार अलगाव ]] प्रणालियों से भी सुसज्जित किया जाता है।<ref>{{Cite web|url=https://www.youtube.com/watch?v=4Q_n4vdyZzc |archive-url=https://ghostarchive.org/varchive/youtube/20211212/4Q_n4vdyZzc| archive-date=2021-12-12 |url-status=live|title=Semiconductor Technology at TSMC, 2011|via=www.youtube.com}}{{cbignore}}</ref>




==यह भी देखें==
==यह भी देखें==
{{Portal|Technology}}
{{Portal|Technology}}
* [[ वायु ionizer ]]
* [[ वायु ionizer | वायु आयनन]]
*[[ वायु गुणवत्ता सूचकांक ]]
*[[ वायु गुणवत्ता सूचकांक ]]
*[[ संदूषण नियंत्रण ]]*
*[[ संदूषण नियंत्रण ]]
*[[ डेटा रिकवरी लैब ]]
*[[ डेटा रिकवरी लैब ]]
* [[ माइक्रोफिल्टरेशन ]]
* [[ माइक्रोफिल्टरेशन ]]
*[[ दबाव कक्ष ]]*
*[[ दबाव कक्ष ]]
* कण काउंटर
* कण काउंटर
* [[ वायवीय फिल्टर ]]
* [[ वायवीय फिल्टर ]]
*[[ सुरक्षित वातावरण ]]*
*[[ सुरक्षित वातावरण ]]
* सेमीकंडक्टर डिवाइस निर्माण
* सेमीकंडक्टर डिवाइस निर्माण


==संदर्भ==
==संदर्भ==
{{Reflist}}
{{Reflist}}
==इस पृष्ठ में अनुपलब्ध आंतरिक कड़ियों की सूची==
*पीला
*प्रशंसक फ़िल्टर इकाई
*नाभिकीय अभियांत्रिकी
*दवाइयों की फैक्ट्री
*आयनीकरण विकिरण
*नमी
*नकारात्मक कमरे का दबाव
*कागज़
*कपड़ा
*रासायनिक अनुकूलता
*लोगारित्म
*गैर सरकारी संगठन
*अंतरराष्ट्रीय मानकीकरण संगठन
*संयुक्त राज्य अमेरिका की संघीय सरकार
*शल्य कक्ष
*वाह़य ​​अंतरिक्ष
==बाहरी संबंध==
==बाहरी संबंध==
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*[https://web.archive.org/web/20200601113337/https://www.gsfcc.org/ Cleanroom Wiki--The Global Society For Contamination Control (GSFCC)]
*[https://web.archive.org/web/20200601113337/https://www.gsfcc.org/ Cleanroom Wiki--The Global Society For Contamination Control (GSFCC)]
*[http://www.iest.org The Secretariat to ISO/TC 209 Cleanrooms and associated controlled environments, the group of experts who negotiate all aspects of the 14644 standard]
*[http://www.iest.org The Secretariat to ISO/TC 209 Cleanrooms and associated controlled environments, the group of experts who negotiate all aspects of the 14644 standard]
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Latest revision as of 12:43, 13 September 2023

क्लीन रूम का उपयोग माइक्रोसिस्टम्स के उत्पादन के लिए किया जाता है। फोटोलिथोग्राफी के लिए पीली (लाल-हरी) रोशनी आवश्यक है, ताकि कम तरंग दैर्ध्य के प्रकाश में प्रकाश प्रतिरोध के अवांछित जोखिम को रोका जा सके।
बाहर से साफ-सुथरा कमरा
बिना एयर शावर वाले क्लीन रूम में प्रवेश
सीलिंग ग्रिड में स्थापित फैन फिल्टर इकाइयों के साथ माइक्रोइलेक्ट्रॉनिक्स निर्माण के लिए क्लीन रूम
सटीक माप उपकरणों के लिए क्लीन रूम केबिन
विशिष्ट क्लीन रूम हेड गारमेंट

क्लीन रूम एक इंजीनियरिंग का स्थान है, जो हवा में कणों की बहुत कम सांद्रता रखता है। यह अच्छी तरह से अलग है तथा संदूषण से भली-भांति नियंत्रित है तथा सक्रिय रूप से स्वच्छ है.ऐसे कमरों की आम तौर पर वैज्ञानिक अनुसंधान के लिए और सभी नैनोस्केल प्रक्रियाओं जैसे अर्धचालक उत्पादन के लिए औद्योगिक उत्पादन की आवश्यकता होती है।हर चीज को धूल, हवा से लेकर हवा के कणों तक, या वेपोराइज्ड कणों तक से दूर रखने के लिए एक सफाई कक्ष बनाया गया है।

दूसरी ओर, एक साफ-सुथरा कमरा की सामग्री को बाहर निकालने में भी सहायता मिल सकती है। हमारा उद्देश्य खतरनाक जीव विज्ञान और परमाणु कार्य, फार्मास्यूटिक्स और वायरोलॉजी में प्राथमिक उद्देश्य होता है।

क्लीन रूम आमतौर पर पूर्व निर्धारित अणु माप पर प्रति घन मीटर कणों की संख्या के द्वारा मानांकित स्वच्छता स्तर के साथ आते हैं। एक विशिष्ट शहरी क्षेत्र में परिवेश बाहरी हवा में 35,000,000 कण 0.5μ माइक्रोन के आकार के हर घन मीटर के लिए और एक आईएसओ 9 प्रमाणित क्लीन रूम के समतुल्य होते हैं.आईएसओ 146441-स्तर 1 तुलना के द्वारा प्रमाणित क्लीन रूम उस आकार के कोई कण नहीं देता है, और प्रत्येक घन मीटर के लिए केवल 12 कणों की तुलना करता है और छोटा होता है। अर्धचालक सुविधाओं को प्रायः स्तर 7 से प्राप्त किया जाता है जबकि स्तर 1 की सुविधाएं अति दुर्लभ हैं।

इतिहास

आधुनिक साफ कमरे का आविष्कार अमेरिकी भौतिक विज्ञानी विलिस व्हिटफ़ील्ड द्वारा किया गया था।[1] सैंडिया नेशनल लेबोरेटरीज के कर्मचारी के रूप में, व्हिटफ़ील्ड ने 1960 में क्लीन रूम के लिए प्रारंभिक योजनाएँ बनाईं।[1]व्हिटफ़ील्ड के आविष्कार से पहले, पहले के क्लीन रूम में अक्सर कणों और अप्रत्याशित वायु प्रवाह की समस्या होती थी। व्हिटफ़ील्ड ने अशुद्धियों को दूर करने के लिए अपने क्लीन रूम को एक निरंतर, अत्यधिक फ़िल्टर्ड वायु प्रवाह के साथ समस्या होती थी ।[1] साथ समस्या थी.व्हाइटफील्ड ने अपने क्लीन रूम को निरंतर, अत्यधिक फ़िल्टर्ड वायु प्रवाह के साथ अशुद्धियों को फ्लश करने के लिए डिज़ाइन किया। [1]1960 के दशक में अपने आविष्कार के कुछ ही वर्षों के भीतर, व्हिटफील्ड के आधुनिक क्लीन रूम ने दुनिया भर में 50 अरब अमरीकी डॉलर से अधिक बिक्री (लगभग 430 अरब डॉलर आज) की थी।[2][3]

सिलिकॉन वैली की अधिकांश एकीकृत परिपथ निर्माण सुविधाएं तीन कंपनियों द्वारा बनायी गयी थी, माइक्रोएरे, प्यूरीयर तथा प्रमुख प्लास्टिक.इन प्रतिस्पर्धाओं ने लामिना की प्रवाह इकाइयां, दस्ताने के डिब्बे, साफ कमरे और हवा की बरसात के साथ रासायनिक टैंक और बैन्च का निर्माण एकीकृत परिपथ के निर्माण में किया। ये तीनों कंपनियां एकीकृत परिपथों के निर्माण के लिए टेफ्लोन के प्रयोग में अग्रणी थीं। विलियम (बिल) सी एम ए एल राय William (Bill) C. McElroy Jr ने इंजीनियरिंग मैनेजर, प्रारूपण कक्ष पर्यवेक्षक, क्यूए/क्यूसी के रूप में कार्य किया और तीनों कंपनियों तथा उनके डिजाइनों के लिए डिजाइनर के रूप में 45 मूल पेटेंट को उस समय की तकनीक में जोड़ा। एम्सी एलरॉय ने भी सूक्ष्म संदूषण पत्रिका, वीट प्रोसेसिंग ट्रेनिंग मैनुअल तथा गीले संसाधन और साफ कमरों के लिए उपकरण पुस्तिकाएं आदि के लिए चार पृष्ठ का एक लेख लिखा[4]


अवलोकन

निर्माण (अर्धचालक) , रिचार्जेबल बैटरी उद्योग, जीवन विज्ञान र्यावरण संदूषण के प्रति अत्यधिक संवेदनशील किसी भी अन्य क्षेत्र में एक स्वच्छ कक्ष की आवश्यकता है।

क्लीन रूम बहुत छोटे से लेकर बड़े हो सकते हैं। एक ओर कई वर्ग मीटर के अंदर साफ कमरे के मानकों के लिए एकल प्रयोक्ता प्रयोगशाला का निर्माण किया जा सकता है और दूसरी ओर फैक्ट रूम के फर्श पर हजारों वर्ग मीटर की सफाई वाली एकमात्र उत्पादन सुविधाओं को एक कमरे में रखा जा सकता है। बड़े और छोटे के बीच, मॉड्यूलर क्लीन रूम भी हैं। [5]उनको प्रौद्योगिकी के स्केलिंग की लागत कम करने के पक्ष में तर्क दिया गया है और वे विपत्तिपूर्ण असफलता के प्रति संवेदनशील नहीं हैं.

इस तरह के व्यापक क्षेत्र में, प्रत्येक सफाई कक्ष समान नहीं होता है। उदाहरण के लिए, अर्धचालक निर्माण में उपयोग किए जाने वाले कमरों में नसबंदी (सूक्ष्म जीव विज्ञान) (यानी, अनियंत्रित रोगाणुओं से मुक्त) होने की आवश्यकता नहीं है;[6]जबकि जैव प्रौद्योगिकी में इस्तेमाल होने वाले लोग आमतौर पर होना चाहिए। इसके विपरीत, ऑपरेटिंग रूम बिल्कुल नैनोस्केल अकार्बनिक लवणों जैसे जंग से शुद्ध नहीं होने चाहिए जबकि नैनो टैक्नोलॉजी इसके लिए आवश्यक है.तब सभी सफाई कक्षों के लिए वायु जनित कणिका का सख्त नियंत्रण, संभवतः हवा के द्वितीयक संदूषण, सतहों, कमरे, उपकरणों, रसायनों और मशीनों में प्रवेश करने वाले वायु कणों का सख्त नियंत्रण होता है

कभी कभी कम्पार्टमेंट के बाहर जाने वाले कणों का भी पता लग जाता है जैसे खतरनाक विषाणुओं के बारे में अनुसंधान, अथवा जहां रेडियोधर्मी पदार्थों का इस्तेमाल किया जा रहा हो।

बुनियादी निर्माण

सबसे पहले, एक क्लीन रूम में प्रवेश करने वाली बाहरी हवा और धूल को बाहर करने के लिए उत्तरोत्तर महीन फिल्टर का उपयोग करके कई बाहरी हवा का संचालक द्वारा ठंडा किया जाता है।

आंतरिक रूप से उत्पन्न दूषित पदार्थों को हटाने के लिए उच्च दक्षता वाले कीक अवशोषित फिल्टर, और/या अति-निम्न कणों वाली हवा यूएलपीए (ULPA) फिल्टर (HEPA) युक्त प्रशंसक इकाइयों के माध्यम से वायु को लगातार पुनःपरिचालित किया जाता है। वायु कणों के उत्पादन में कमी लाने के लिए विशेष प्रकाश जुड़नार, दीवार, उपकरण तथा अन्य सामग्रियों का उपयोग किया जाता है। यदि स्वच्छ कक्ष का डिजाइन पटलीय वायुप्रवाह प्रकार का है तो वायुविक्षोभ को कम करने के लिए प्लास्टिक शीट का प्रयोग किया जा सकता है।[7][8][9]

एक साफ कमरे के अंदर का वायु तापमान और आर्द्रता के स्तर को कसकर नियंत्रित किया जाता है, क्योंकि ये हवा में छानने की क्षमता और साधन को प्रभावित करते हैं। यदि किसी कमरे में पर्याप्त आर्द्रता नहीं रह जाती, जिससे कि स्थैतिक बिजली एक चिंता का कारण बन सके, तो उस पर भी नियंत्रण किया जा सकेगा उदाहरण के लिए, आवेश में भरे हुए आयनों को हवा में डालकर, कोरोना डिस्चार्ज का प्रयोग करके। स्थैतिक निर्वहन विशेष रूप से इलेक्ट्रॉनिक्स उद्योग के लिए महत्व का होता है, जहां वह अवयवों और सर्किट्री को तत्काल नष्ट कर सकता है।

किसी भी सफाई कक्ष के भीतर न्यूनतम वायु प्रदूषण उत्पन्न करने के लिए डिजाइन किया गया उपकरण.सफाई कक्ष के निर्माण के लिए सामग्री के चयन से कोई भी कण उत्पन्न नहीं हो पाए, इसलिए अखंड एपॉक्सी या पॉलियुरथेन फर्श पर कोटिंग अधिक पसंद की जाती है। बफर किये हुए स्टेनलेस स्टील या पाउडर कोटेड हल्के स्टील सैंडविच पार्टिशन पैनल और हाईलाइट पैनल का उपयोग किया जाता है। दीवार से दीवार, दीवार से फर्श तक के कोनों, भीतरी से भीतरी छत को कोर से बचाने के लिए रस्सी की सतह प्रदान करते हैं और संधियों पर स्थित कणों के जमाव या उत्पादन से बचने के लिए सभी जोड़ों को युपी सीलेंट से सील लगाने की जरूरत होती है।

वायु प्रवाह सिद्धांत

Air flow pattern for "Turbulent Cleanroom"
Air flow pattern for "Laminar Flow Cleanroom"

क्लीन रूम, लैमिनर या अशांत वायु प्रवाह के सिद्धांतों का उपयोग करते हुए, हेपा या यूएलपीए फिल्टर के द्वारा कणों से मुक्त हवा बनाए रखते हैं। पटमीनार या यूनिडायरेक्शनल वायु प्रवाह प्रणाली को फिल्टर की हुई हवा को नीचे की ओर या क्षैतिज दिशा में निर्देशित करती है। सतत वायु प्रक्रमण को बनाए रखने के लिए पटलीय वायु प्रवाह प्रणालियों का आम तौर पर 80% स्वच्छ छत पर कार्यरत किया जाता है। हवा में अतिरिक्त कणों को आने से रोकने के लिए स्टेनलेस स्टील या अन्य गैर शेडिंग सामग्री को लामिनार वायु प्रवाह छन्नी तथा फन के निर्माण में उपयोग किया जाता है। अशांत, या नॉन यूनिडायरेक्शनल वायु प्रवाह लामिनार वायु प्रवाह समच्छों और अविशिष्ट वेग फिल्टरों का उपयोग करता है जो साफ कक्ष में एक स्थिर गति में रहते हैं, हालांकि सभी समान दिशा में नहीं। अपरिष्कृत वायु उन कणों को फंसाने का प्रयास करती है जो हवा में हो सकते हैं और उन्हें फर्श की ओर धकेल सकते हैं, जहां वे फ़िल्टर में प्रवेश करते हैं और साफ वातावरण छोड़ देते हैं। यू. एस. डी. ए. और ई. यू. ने सूक्ष्म जीवाणु संदूषण के लिए दिशानिर्देश तथा सीमा निर्धारित की है, जो भैषज उत्पादों में माइक्रोबियल संदूषण से मुक्त होने के लिए काफी कठोर है।[10] चिपचिपा चटाई के साथ एयर हैंडलर और फैन फिल्टर यूनिट के बीच प्लेनम चैम्बर का भी इस्तेमाल किया जा सकता है।

एयर फिल्टर के अलावा, स्वच्छ कमरे भी हवा को कीटाणुरहित करने के लिए पराबैंगनी प्रकाश का उपयोग कर सकते हैं।[11] यू वी उपकरणों को अधिकतम छत पर प्रकाश के जुड़नार (जुड़नार) तथा वायु में वायु संचार तंत्र में मिलाया जा सकता है, साथ ही यह संभावित संक्रामक कणों को नष्ट कर सकता है, जिसमें 9999 प्रतिशत हवा में मौजूद माइक्रोबियल और फफूंद संदूषक शामिल हैं।[12]यूवी लाइट का उपयोग पहले रोगाणुरहित वातावरण जैसे अस्पताल के प्रचालन कक्ष में सतह दूषित पदार्थों को साफ करने के लिए किया जाता रहा है।अन्य साफ कमरों में उनका उपयोग बढ़ सकता है क्योंकि उपकरण अधिक किफायती हो जाते हैं।उ. वी. आधारित विसंदूषण के संभावित लाभों में रासायनिक कीटाणुनाशकों पर कम निर्भरता और एचवीसी फिल्टर जीवन का विस्तार शामिल है

विभिन्न प्रकार के साफ-सफाई

कुछ सफाई कक्ष सकारात्मक दबाव में रखे जाते हैं, ताकि यदि कोई लीक हो तो सफाई न की हुई हवा के बजाय चैम्बर से हवा में से हवा बाहर निकलिए। अर्धचालक उत्पादन में यह सबसे अधिक घटना है, जहां लीक के छोटे कणों के द्वारा भी पूरी प्रक्रिया को दूषित किया जा सकता है, जबकि रिसने वाली कोई भी चीज आसपास के समुदाय के लिए हानिकारक नहीं होगी। इसके विपरीत ऐसा किया जाता है जैसे हाई लेवल वाली बायो-लेबोरेटरी के मामले में जो खतरनाक बैक्टीरिया या वायरसों को संभाले, वे हमेशा नकारात्मक दबाव में पड़े रहते हैं और उच्च दक्षता फिल्टर द्वारा उन पर से गुजरने वाले निकास तथा पुनः बंध्याकरण की प्रक्रियाएं दूर हो जाती हैं। दोनों अभी भी सफाई कक्ष हैं, क्योंकि अंदर के कणों का स्तर बहुत ही कम सीमाओं में बना रहता है।

कुछ क्लीन रूम एचवीएसी सिस्टम आर्द्रता को इतने निम्न स्तर तक नियंत्रित करते हैं कि स्थिरविद्युत निर्वाह समस्याओं को रोकने के लिए वायु आयनकारक जैसे अतिरिक्त उपकरण की आवश्यकता होती है। अर्धचालक व्यवसाय के भीतर यह एक विशेष चिंता का विषय है, क्योंकि स्थैतिक निर्वहन आधुनिक परिपथ डिजाइनों को आसानी से नुकसान पहुंचा सकता है। दूसरी ओर, हवा में सक्रिय आयन उजागर घटकों को भी नुकसान पहुंचा सकते हैं। इस वजह से उच्च इलेक्ट्रॉनिक्स और अर्धचालक सुविधाओं में अधिकांश श्रमिकों को काम करते समय प्रवाहकीय जूते पहनने पड़ते हैं। निचले स्तर के साफ-सफाई वाले कमरों में केवल विशेष जूते की आवश्यकता हो सकती है, पूरी तरह से चिकने तलवों के साथ जो धूल या गंदगी में ट्रैक नहीं करते हैं। हालांकि, सुरक्षा कारणों से, जूते के तलवों में फिसलने का खतरा नहीं होना चाहिए। क्लीन रूम तक पहुंच आमतौर पर आवश्यक मशीनरी सहित, साफ-सुथरा सूट पहनने वालों तक ही सीमित होती है।

सफाई कक्षों में जहाँ वायु संदूषण के मानक कम कठोर होते हैं, सफाई कक्ष के प्रवेश द्वार में वायु स्नान नहीं होता है। उपकक्ष (एक ग्रे रूम के रूप में जाना जाता है) साफ कमरे के कपड़ों पर डाल करने के लिए प्रयोग किया जाता है कई नाभिकीय संयंत्रों में, जो कि कुल मिलाकर निम्न श्रेणी के व्युत्क्रम दाब साफ-सफाई कक्ष के रूप में काम करते हैं, यह प्रथा बहुत सामान्य है.

रीसर्क्युलेटिंग बनाम वन पास क्लीन रूम

रीसर्क्युलेटिंग क्लीन रूम कम दीवार वाले वायु रिटर्न के माध्यम से नकारात्मक दबाव वाले प्लेनम में हवा लौटाते हैं। हवा को फिर HEPA प्रशंसक फ़िल्टर इकाइयों द्वारा वापस क्लीन रूम में खींच लिया जाता है। हवा लगातार घूम रही है और हर बार हवा से कणों को हटाते हुए HEPA निस्पंदन के माध्यम से लगातार गुजर रही है। इस डिजाइन का एक अन्य लाभ एयर कंडीशनिंग को शामिल किया जा सकता है।

एक पास क्लीन रूम क्लीन रूम के बाहर से हवा खींचता है, इसे HEPA फैन फिल्टर यूनिट के माध्यम से क्लीन रूम में पास करता है। हवा फिर एग्जॉस्ट ग्रिल के जरिए क्लीन रूम के बाहर निकल जाती है। इस दृष्टिकोण का लाभ कम लागत है। नुकसान कम HEPA प्रशंसक फ़िल्टर लाइव हैं, समान रीसर्क्युलेटिंग क्लीन रूम की तुलना में बदतर कण मायने रखता है, और एयर कंडीशनिंग को समायोजित नहीं कर सकता है।

संचालन प्रक्रिया

किसी व्यक्ति द्वारा क्लीन रूम में घुसकर उसके कणों को कम करने के लिए, स्टाफ एयरलॉक में से घुसकर बाहर जा सकते हैं, एयर शावर (कमरा) (कभी-कभी हवा में नहाने के चरण सहित) और सुरक्षात्मक कपड़ों जैसे फन, फेस मास्क, दस्ताने, बूट और किट पहनते हैं।

सामान्य सामग्री जैसे कागज़, पेंसिल, और प्राकृतिक फाइबर से बने कपड़े अक्सर अलग किये जाते हैं क्योंकि उनके द्वारा उपयोग किये जाने वाले कणों को छुड़ा जाता है।

कण के स्तर की जांच सामान्यतया कण काउंटर तथा सूक्ष्मजीवों द्वारा की जाती है और पर्यावरण निगरानी विधियों द्वारा गिनी जाती है।।[13]<रेफ नाम = सैंडल, टी 392–403 >Sandle, T (November 2011). "A review of cleanroom microflora: types, trends, and patterns". PDA J Pharm Sci Technol. 65 (4): 392–403. doi:10.5731/pdajpst.2011.00765. PMID 22293526. S2CID 25970142.</ref>

क्लीन रूम में उपयोग किए जाने वाले पॉलीमर टूल्स को सावधानीपूर्वक निर्धारित किया जाना चाहिए कि क्लीन रूम प्रोसेसिंग फ्लुइड्स के साथ रासायनिक संगतता हो

रेफरी>Heikkinen, Ismo T.S.; Kauppinen, Christoffer; Liu, Zhengjun; Asikainen, Sanja M.; Spoljaric, Steven; Seppälä, Jukka V.; Savin, Hele (October 2018). "Chemical compatibility of fused filament fabrication-based 3-D printed components with solutions commonly used in semiconductor wet processing" (PDF). Additive Manufacturing. 23: 99–107. doi:10.1016/j.addma.2018.07.015. ISSN 2214-8604. S2CID 139867946.</ref>

साथ ही कण उत्पादन का निम्न स्तर उत्पन्न करना सुनिश्चित किया।

रेफरी>Pasanen, T.P.; von Gastrow, G.; Heikkinen, I.T.S.; Vähänissi, V.; Savin, H.; Pearce, J.M. (January 2019). "Compatibility of 3-D printed devices in cleanroom environments for semiconductor processing". Materials Science in Semiconductor Processing. 89: 59–67. doi:10.1016/j.mssp.2018.08.027. ISSN 1369-8001. S2CID 105579272.</ref>

सफाई करते समय केवल स्पेशल मोप्स और बाल्टी का ही उपयोग किया जाता है। सफाई करने वाले रसायनों में धूल को पकड़ने के लिए चिपचिपी तत्वों को शामिल किया जाता है, और इन्हें हल्के मोलेक्यूलर वेट सॉल्वैट्स से हटाने के लिए इसे दूसरे चरण की ज़रूरत पड़ सकती है। क्लीन रूम फर्नीचर को कम से कम कणों का उत्पादन करने के लिए पहले डिज़ाइन किया गया है, और यह आसानी से साफ किया जा सकता है।

एक क्लीन रूम उतनी ही प्रक्रिया और इसे बनाए रखने के लिए एक सावधानीपूर्वक कल्चर है, क्योंकि यह एक ऐसी जगह है।

सफाई कक्षों का कार्मिक संदूषण

क्लीन रूम संदूषण के लिए सबसे बड़ा खतरा उपयोगकर्ताओं से आता है। [14]स्वास्थ्य देखभाल और दवा क्षेत्रों में, सूक्ष्मजीवों का नियंत्रण महत्वपूर्ण है, विशेषकर सूक्ष्मजीवों को वायु प्रवाह में त्वचा की बहा में जमा करने की संभावना है। रुझान के आकलन के लिए सूक्ष्म जीवविज्ञानियों और गुणवत्ता नियंत्रण कार्मिकों के लिए क्लीन रूम माइक्रोफ़्लोरा का अध्ययन महत्वपूर्ण है। माइक्रोफ़्लोरा की किस्मों में परिवर्तन से मानक के विचलन का संकेत मिलता है जैसे प्रतिरोधी नस्लों या सफाई प्रथाओं के साथ समस्याओं।

क्लीन रूम सूक्ष्म जीवों का आकलन करने के लिए, सामान्य वनस्पति मुख्य रूप से मानव त्वचा (ग्राम पॉजिटिव कोसी) से जुड़ी होती है, हालांकि पर्यावरण जैसे अन्य स्रोतों से सूक्ष्मजीव। ग्राम-पॉजिटिव छड़ पानी और

ग्राम-नकारात्मक छड़) का भी पता चलता है, हालांकि कम संख्या में माइक्रोकॉकस, स्टेफ़ायलोकोकस, कोरिनेबैक्टीरियम, और बैसिलस सामान्य बैक्टीरियल वंश में एस्पर्गिलस और पेनिसिलियम शामिल होते हैं।Cite error: Invalid <ref> tag; invalid names, e.g. too many

क्लीन रूम वर्गीकरण और मानकीकरण

कैनेडी स्पेस सेंटर अंतरिक्ष स्टेशन प्रसंस्करण सुविधा का क्लीन रूम प्रोसेसिंग बे। NASA SSPF में 100,000 वर्ग का मानक रखता है[15]

क्लीन रूम को हवा की मात्रा के अनुसार अनुमत कणों की संख्या और आकार के अनुसार वर्गीकृत किया जाता है। कक्षा 100 या "वर्ग 1000" जैसी बड़ी संख्याएँ FED-STD-209E को संदर्भित करती हैं, और आकार के कणों की संख्या को दर्शाती हैं जिनका आकार 0.5 μm या उससे अधिक प्रति घन फुट हवा में होता है। मानक भी प्रक्षेप की अनुमति देता है; उदाहरण के लिए SNOLAB को 2000 वर्ग के क्लीन रूम के रूप में बनाए रखा गया है।

एक असतत, प्रकाश-प्रकीर्णन हवाई कण काउंटर का उपयोग निर्दिष्ट नमूना स्थानों पर, निर्दिष्ट आकारों के बराबर और बड़े हवाई कणों की एकाग्रता को निर्धारित करने के लिए किया जाता है।

छोटी संख्या ISO 14644 मानकों के लिए संदर्भित होती है, जो कणों की संख्या की दशमलव लघुगणक को 0.1 μ या हवा के प्रति 3 μ या उससे भी बड़ी अनुज्ञात होती है। इसलिए, उदाहरण के लिए, 105 कणों/m3 में आईएसओ क्लास 5 क्लीन रूम होता है।

दोनों एफएस FS 209E और आईएसओ 14644 इस कारण से, शून्य कण एकाग्रता मौजूद नहीं है। कुछ कक्षाओं में कुछ कणों के आकारों का परीक्षण करने की आवश्यकता नहीं होती क्योंकि एकाग्रता इतनी कम या बहुत ऊंची होती है कि उसका परीक्षण नहीं किया जा सकता परंतु ऐसे रिक्त स्थानों को शून्य के रूप में नहीं पढ़ा जाना चाहिए।

चूँकि 1 एम 3 लगभग 35 μ कणों की माप के लगभग समतुल्य हैं, जबकि दोनों मानक 0.5 μ कणों के माप होते हैं, हालांकि परीक्षण मानकों में अंतर होता है.सामान्य कमरे की हवा लगभग 1,000,000 वर्ग या 9 आइओ के आसपास है।[16]


आईएसओ 14644-1 और आईएसओ 14698

आईएसओ 14644-1 और आईएसओ 14698 गैर-सरकारी संगठन/गैर-सरकारी मानक हैं जिन्हें अंतर्राष्ट्रीय मानकीकरण संगठन (आईएसओ) द्वारा विकसित किया गया है।[17] पूर्व सामान्य रूप से साफ कमरों पर लागू होता है (नीचे तालिका देखें); उत्तरार्द्ध सफाई कक्ष जहां संदूषण एक मुद्दा हो सकता है। चूंकि सख्त मानकों को केवल अंतरिक्ष अनुप्रयोगों के लिए ही हासिल किया गया है, इसलिए कभी-कभी यह जानना मुश्किल होता है कि क्या वे निर्वात या मानक परिस्थितियों में हासिल किए गए थे।

आईएसओ 146441 प्रति वर्ग कणों की अधिकतम एकाग्रता और प्रति कण आकार को निम्नलिखित सूत्र के साथ परिभाषित करता है।[18]

कहाँ पे 1m . की मात्रा में कणों की अधिकतम सांद्रता है वायुवाहित कणों की संख्या, जो तीन से अधिक महत्वपूर्ण आंकड़ों का उपयोग करते हुए, कण आकार के बराबर या उससे अधिक है, जो निकटतम पूर्ण संख्या में गोल है, आईएसओ वर्ग संख्या है, में कण का आकार है मी और 0.1 एक स्थिरांक है जिसे एम में व्यक्त किया जाता है। मानक कण आकार का परिणाम निम्न तालिका में व्यक्त किया गया है।

Class Maximum particles/m3 a FED STD 209E
equivalent
≥0.1 μm ≥0.2 μm ≥0.3 μm ≥0.5 μm ≥1 μm ≥5 μm
ISO 1 10b d d d d e
ISO 2 100 24b 10b d d e
ISO 3 1,000 237 102 35b d e Class 1
ISO 4 10,000 2,370 1,020 352 83b e Class 10
ISO 5 100,000 23,700 10,200 3,520 832 d,e,f Class 100
ISO 6 1,000,000 237,000 102,000 35,200 8,320 293 Class 1,000
ISO 7 c c c 352,000 83,200 2,930 Class 10,000
ISO 8 c c c 3,520,000 832,000 29,300 Class 100,000
ISO 9 c c c 35,200,000 8,320,000 293,000 Room air
a All concentrations in the table are cumulative, e.g. for ISO Class 5, the 10 200 particles shown at 0,3 μm include all particles equal to and greater than this size.

b These concentrations will lead to large air sample volumes for classification. Sequential sampling procedure may be applied; see Annex D.
c Concentration limits are not applicable in this region of the table due to very high particle concentration.
d Sampling and statistical limitations for particles in low concentrations make classification inappropriate.
e Sample collection limitations for both particles in low concentrations and sizes greater than 1 μm make classification at this particle size inappropriate, due to potential particle losses in the sampling system.

f In order to specify this particle size in association with ISO Class 5, the macroparticle descriptor M may be adapted and used in conjunction with at least one other particle size. (See C.7.)


यूएस फेड एसटीडी 209ई

US FED-STD-209E संयुक्त राज्य अमेरिका के मानक की एक संयुक्त राज्य संघीय सरकार थी। इसे 29 नवंबर, 2001 को सामान्य सेवा प्रशासन द्वारा आधिकारिक रूप से रद्द कर दिया गया था।[19][20] लेकिन इसे अभी भी व्यापक रूप से उपयोग किया जाता है।[21]

Class Maximum particles/ft3 ISO
equivalent
≥0.1 μm ≥0.2 μm ≥0.3 μm ≥0.5 μm ≥5 μm
1 35 7.5 3 1 0.007 ISO 3
10 350 75 30 10 0.07 ISO 4
100 3,500 750 300 100 0.7 ISO 5
1,000 35,000 7,500 3000 1,000 7 ISO 6
10,000 350,000 75,000 30,000 10,000 70 ISO 7
100,000 3.5×106 750,000 300,000 100,000 830 ISO 8

वर्तमान नियामक निकायों में शामिल हैं: यूएस फेड एसटीडी 209 ई (पिछला मानक, अभी भी उपयोग किया जाता है)

  • ड्रग कंपाउंडिंग मौतों और गंभीर प्रतिकूल घटनाओं के जवाब में नवंबर 2013 में ड्रग क्वालिटी एंड सिक्योरिटी एक्ट (डीक्यूएसए) बनाया गया।
  • फ़ेडरल फ़ूड, ड्रग एंड कॉस्मेटिक एक्ट (FD&C Act) ने मानव कंपाउंडिंग के लिए विशिष्ट दिशानिर्देश और नीतियां बनाईं।
    • 503ए लाइसेंसधारी कर्मियों (फार्मासिस्ट/चिकित्सकों) द्वारा राज्य या संघीय लाइसेंस प्राप्त सुविधा द्वारा कंपाउंडिंग का पता
    • आउटसोर्सिंग सुविधाओं से संबंधित 503बी को लाइसेंस प्राप्त फार्मासिस्ट से सीधे पर्यवेक्षण की आवश्यकता है और लाइसेंस प्राप्त फार्मेसी होने की आवश्यकता नहीं है। सुविधा खाद्य एवं औषधि प्रशासन (एफडीए) के माध्यम से लाइसेंस प्राप्त है [22]


यूरोपीय संघ जीएमपी वर्गीकरण

ईयू जीएमपी के दिशानिर्देश दूसरों की तुलना में कठोर होते हैं, प्रक्रिया के दौरान कणों की मात्रा को पूरा करने के लिए सफाई कक्षों की आवश्यकता होती है। (विनिर्माण प्रक्रिया के दौरान) और आराम करो (जब विनिर्माण प्रक्रिया नहीं की जाती है, लेकिन कमरे में  ए एच यू AHU चालू है।)

Class Maximum particles/m3[23]
At Rest In Operation
0.5 μm 5 μm 0.5 μm 5 μm
Grade A 3,520 20 3,520 20
Grade B 3,520 29 352,000 2,900
Grade C 352,000 2,900 3,520,000 29,000
Grade D 3,520,000 29,000 Not defined Not defined


बी एस 5295

बीएस 5295 एक ब्रिटिश मानक है।

Class Maximum particles/m3
≥0.5 μm ≥1 μm ≥5 μm ≥10 μm ≥25 μm
Class 1 3,000   0 0 0
Class 2 300,000   2,000 30  
Class 3   1,000,000 20,000 4,000 300
Class 4     200,000 40,000 4,000

बीएस 5295 का अधिक्रमण कर दिया गया है, और वर्ष 2007 के बाद से वापस ले लिया गया है इसका स्थान बीएस एन आईएसओ BS EN ISO 14644-6:2007 से लिया गया है।[24]


यूएसपी <800> मानक

यूएसपी 800 एक संयुक्त राज्य अमेरिका का मानक है जिसे यूनाइटेड स्टेट्स फार्माकोपियल कन्वेंशन (यूएसपी) द्वारा विकसित किया गया है, जिसकी प्रभावी तिथि 1 दिसंबर, 2019 है।[25]


प्रभाव और आगे के अनुप्रयोग

अस्पतालो में, ऑपरेशन थिएटर सर्जिकल रोगियों के ऑपरेशन के लिए सर्जिकल चीरा के साथ क्लीन रूम के समान होते हैं ताकि रोगी के लिए किसी भी संक्रमण को रोका जा सके।

अस्पतालो में, थिएटर, सर्जिकल चीरा के लिए ऑपरेशन, शल्य चिकित्सा रोगियों के ऑपरेशन के समान होते हैं ताकि रोगी को कोई संक्रमण से बचा जा सके।

संक्रमित होने के डर से गंभीर रूप से प्रभावित रोगियों को अपने आसपास के वातावरण से दूर रहकर लंबे समय तक अलग-थलग रहना पड़ता है।चरम पर, यह एक स्वच्छ वातावरण की आवश्यकता होती हैवायु जनित संक्रामक रोग उठाने वाले रोगियों के लिए भी यही स्थिति है।

जीव विज्ञान जब हम दूसरे ग्रहों से संपर्क करना चाहते हैं, तब जैविक खतरा दोनों ही प्रकार से होते हैं, हमें अन्य ग्रहों में स्थित अन्य पारिस्थितिक तंत्रों से किसी भी नमूने को फिर से दूषित नहीं करना चाहिए और अन्य ग्रहों में स्थित अन्य पारिस्थितिक तंत्रों को भी दूषित नहीं करना चाहिए। इस प्रकार, अंतर्राष्ट्रीय कानून के अनुसार, बाह्य अंतरिक्ष में भेजे जाने वाली जांच के लिए बाँझ होना आवश्यक है और इसलिए साफ-सफाई की स्थिति में इसका इस्तेमाल किया जाना चाहिए।

चूंकि बड़े सफाई कक्ष बहुत संवेदनशील नियंत्रित वातावरण होते हैं, जिसके अंतर्गत कई अरब डॉलर का उद्योग हो सकता है, कई बार उन्हें भूकंपीय आधार अलगाव तंत्र भी फिट किया जाता है ताकि महंगे उपकरण की खराबी को रोका जा सके।।[26]


यह भी देखें

संदर्भ

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बाहरी संबंध

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