ओपन आर्टवर्क सिस्टम इंटरचेंज स्टैंडर्ड: Difference between revisions
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'''विवृत चित्रकला प्रणाली अंतर्विनिमय मानक''' ('''ओएएसआईएस''')<ref>The trade name [http://tarr.uspto.gov/servlet/tarr?regser=serial&entry=78169188 OASIS is a registered trademark in the USA] of Thomas J. Grebinski, Alamo, California and licensed for use exclusively by [http://www.semi.org/ SEMI].</ref>) एक द्विआधारी फ़ाइल स्वरूप है जिसका उपयोग [[फोटोमास्क]] उत्पादन के लिए डेटा संरचनाओं के विनिर्देशन के लिए किया जाता है।<ref>{{Cite web |title=SEMI P39 : 2016 SPECIFICATION FOR OASIS - OPEN ARTWORK SYSTEM INT |url=https://infostore.saiglobal.com/en-us/Standards/SEMI-P39-2016-1036702_SAIG_SEMI_SEMI_2419502/ |access-date=2023-05-23 |website=infostore.saiglobal.com}}</ref> इसका उपयोग [[एकीकृत सर्किट डिजाइन]] के दौरान उत्पादित पदानुक्रमित एकीकृत | '''विवृत चित्रकला प्रणाली अंतर्विनिमय मानक''' ('''ओएएसआईएस''')<ref>The trade name [http://tarr.uspto.gov/servlet/tarr?regser=serial&entry=78169188 OASIS is a registered trademark in the USA] of Thomas J. Grebinski, Alamo, California and licensed for use exclusively by [http://www.semi.org/ SEMI].</ref>) एक द्विआधारी फ़ाइल स्वरूप है जिसका उपयोग [[फोटोमास्क]] उत्पादन के लिए डेटा संरचनाओं के विनिर्देशन के लिए किया जाता है।<ref>{{Cite web |title=SEMI P39 : 2016 SPECIFICATION FOR OASIS - OPEN ARTWORK SYSTEM INT |url=https://infostore.saiglobal.com/en-us/Standards/SEMI-P39-2016-1036702_SAIG_SEMI_SEMI_2419502/ |access-date=2023-05-23 |website=infostore.saiglobal.com}}</ref> इसका उपयोग [[एकीकृत सर्किट डिजाइन|एकीकृत परिपथ डिजाइन]] के दौरान उत्पादित पदानुक्रमित एकीकृत परिपथ मास्क अभिन्यास सूचना के लिए एक पैटर्न, एक अंतर्विनिमय और एनकैप्सुलेशन प्रारूप का प्रतिनिधित्व करने के लिए किया जाता है जिसका उपयोग फोटोमास्क के [[ अर्द्ध ]]कंडक्टर डिवाइस निर्माण के लिए किया जाता है। मानक SEMI द्वारा विकसित किया गया है।<ref name=":0">{{cite web |title=ओएसिस|url=https://www.layouteditor.org/layout/file-formats/oasis#:~:text=Open%20Artwork%20System%20Interchange%20Standard%20(OASIS)%20is%20a%20specification%20for,is%20the%20trademark%20of%20SEMI. |access-date=2022-05-26 |website=www.layouteditor.org}}</ref><ref name=":1">{{cite web |title=About OASIS SEMI P39 |url=http://www.yottadatasciences.com/compliancecenter.html |access-date=2022-05-26 |website=www.yottadatasciences.com}}</ref> भाषा आयत, समलंब और बहुभुज जैसी ज्यामितीय आकृतियों के लिए आवश्यक कोड को परिभाषित करती है। यह परिभाषित करता है कि प्रत्येक में किस प्रकार के गुण हो सकते हैं, उन्हें इन आकृतियों द्वारा बनाए गए पैटर्न वाली कोशिकाओं में कैसे व्यवस्थित किया जा सकता है और परिभाषित करता है कि प्रत्येक को एक दूसरे के सापेक्ष कैसे रखा जा सकता है। यह [[GDSII]] के समान है। | ||
2023 तक SEMI के सदस्यों के लिए मानक की लागत $252 और गैर-सदस्यों के लिए: US$335 निर्धारित की गई थी।<ref>{{Cite web |title=P03800 - SEMI P39 - Specification for OASIS® – Open Artwork System Interchange Standard |url=https://store-us.semi.org/products/p03800-semi-p39-specification-for-oasis%c2%ae-open-artwork-system-interchange-standard |access-date=2023-05-23 |website=semi.org |language=en}}</ref> | 2023 तक SEMI के सदस्यों के लिए मानक की लागत $252 और गैर-सदस्यों के लिए: US$335 निर्धारित की गई थी।<ref>{{Cite web |title=P03800 - SEMI P39 - Specification for OASIS® – Open Artwork System Interchange Standard |url=https://store-us.semi.org/products/p03800-semi-p39-specification-for-oasis%c2%ae-open-artwork-system-interchange-standard |access-date=2023-05-23 |website=semi.org |language=en}}</ref> | ||
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ओएएसआईएस एकीकृत | ओएएसआईएस एकीकृत परिपथ डिजाइन और विनिर्माण इलेक्ट्रॉनिक पैटर्न लेआउट भाषा, GDSII का कथित व्यावसायिक उत्तराधिकारी है। | ||
GDSII 1970 के दशक में बनाया गया था जब एकीकृत | GDSII 1970 के दशक में बनाया गया था जब एकीकृत परिपथ डिज़ाइन में प्रबंधन के लिए कुछ लाख ज्यामितीय आकार, गुण और प्लेसमेंट होते थे। आज, प्रबंधित करने के लिए अरबों आकार, गुण और प्लेसमेंट हो सकते हैं। GDSII प्रारूप की फ़ाइल का आकार अक्सर दसियों गीगाबाइट भंडारण लेता है और संग्रहीत करना और संसाधित करना कठिन होता है।<ref>{{Cite web |title=ओएसिस प्रारूप|url=http://www.wrcad.com/manual/xicmanual/node775.html |access-date=2023-05-23 |website=www.wrcad.com}}</ref> ओएएसआईएस रचनाकारों और उपयोगकर्ताओं ने दावा किया कि वर्कस्टेशन की डेटा भंडारण और हैंडलिंग क्षमताओं की वृद्धि एकीकृत परिपथ लेआउट जटिलता की वृद्धि से कहीं अधिक थी।<ref>{{cite web|url=http://www.eetimes.com/document.asp?doc_id=1276148 |title=GDSII से OASIS तक जा रहे हैं|publisher=EETimes |date=2022-08-30 |accessdate=2022-09-11}}</ref> इसलिए, ओएएसआईएस डेटा आकार को कम करने के लिए जटिल प्रकार की ज्यामितीय आकृतियों (केवल 25 प्रकार के ट्रेपेज़ॉइड) को पेश करके GDSII फ़ाइलों के बड़े आकार की कथित समस्या को हल करने का प्रयास करता है। इसके अलावा, निर्देशांक के लिए चर-लंबाई संख्यात्मक प्रारूप ([[रन-लंबाई एन्कोडिंग]] के समान) लागू किया गया था। अंत में, ओएएसआईएस फ़ाइल में प्रत्येक सेल को [[gzip]]-जैसे एल्गोरिदम द्वारा स्वतंत्र रूप से संपीड़ित किया जा सकता है। | ||
ओएएसआईएस प्रारूप बनाने का प्रयास जून 2001 में शुरू हुआ। संस्करण 1.0 का विमोचन मार्च 2004 में हुआ। इसके उपयोग के लिए नए ओएएसआईएस पाठकों और लेखकों के विकास की आवश्यकता थी जिन्हें पहले से ही GDSII पाठकों और लेखकों से सुसज्जित उपकरणों के डिजाइन और निर्माण के साथ जोड़ा जा सकता था। . इसे अपनाने का जन्म संयुक्त राज्य अमेरिका, जापान, ताइवान, कोरिया और यूरोप की एकीकृत | ओएएसआईएस प्रारूप बनाने का प्रयास जून 2001 में शुरू हुआ। संस्करण 1.0 का विमोचन मार्च 2004 में हुआ। इसके उपयोग के लिए नए ओएएसआईएस पाठकों और लेखकों के विकास की आवश्यकता थी जिन्हें पहले से ही GDSII पाठकों और लेखकों से सुसज्जित उपकरणों के डिजाइन और निर्माण के साथ जोड़ा जा सकता था। . इसे अपनाने का जन्म संयुक्त राज्य अमेरिका, जापान, ताइवान, कोरिया और यूरोप की एकीकृत परिपथ डिजाइन, उपकरण, फोटोमास्क, फैबलेस, तृतीय पक्ष बौद्धिक संपदा (आईपी) और विनिर्माण कंपनियों के ठोस प्रयास से हुआ था। | ||
ओएएसआईएस का एक सीमित संस्करण, जिसे ओएएसआईएस.MASK कहा जाता है, सेमीकंडक्टर फोटोमास्क निर्माण उपकरण जैसे पैटर्न जनरेटर और निरीक्षण प्रणाली की अनूठी जरूरतों को संबोधित करता है। ओएएसआईएस और ओएएसआईएस.MASK दोनों [[तकनीकी मानक]] हैं। | ओएएसआईएस का एक सीमित संस्करण, जिसे ओएएसआईएस.MASK कहा जाता है, सेमीकंडक्टर फोटोमास्क निर्माण उपकरण जैसे पैटर्न जनरेटर और निरीक्षण प्रणाली की अनूठी जरूरतों को संबोधित करता है। ओएएसआईएस और ओएएसआईएस.MASK दोनों [[तकनीकी मानक]] हैं। | ||
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[[File:Wikipediaoasisimage 2.png|thumb|इस दृश्य को सेल व्यू कहा जाता है। एक सेल रखी गई ज्यामितीय आकृतियों का एक संग्रह हो सकता है। यह कोशिकाओं का संग्रह भी हो सकता है; प्रत्येक में अन्य कोशिकाएँ और/या ज्यामितीय आकृतियाँ होती हैं। प्रत्येक कोशिका में कम से कम एक परत अवश्य होनी चाहिए। इस दृष्टि से, प्रत्येक रंग कोशिका के भीतर एक अलग परत का प्रतिनिधित्व करता है। एक एकीकृत | [[File:Wikipediaoasisimage 2.png|thumb|इस दृश्य को सेल व्यू कहा जाता है। एक सेल रखी गई ज्यामितीय आकृतियों का एक संग्रह हो सकता है। यह कोशिकाओं का संग्रह भी हो सकता है; प्रत्येक में अन्य कोशिकाएँ और/या ज्यामितीय आकृतियाँ होती हैं। प्रत्येक कोशिका में कम से कम एक परत अवश्य होनी चाहिए। इस दृष्टि से, प्रत्येक रंग कोशिका के भीतर एक अलग परत का प्रतिनिधित्व करता है। एक एकीकृत परिपथ में हजारों अद्वितीय सेल और एक ही सेल के दोहराए गए उदाहरण शामिल हो सकते हैं।]]नीचे ओएएसआईएस द्विआधारी फ़ाइल का एक मानव-पठनीय पाठ प्रतिनिधित्व है जो उपरोक्त शीर्ष सेल दृश्य की अभिव्यक्ति की अनुमति देता है जिसे Placed_shapes_and_ cells_within_an_IC_ cell कहा जाता है। शीर्ष सेल को S_TOP_CELL नामक फ़ाइल-स्तरीय मानक PROPERTY रिकॉर्ड द्वारा परिभाषित किया गया है। नीचे दिया गया प्रॉपर्टी रिकॉर्ड एक PROPNAME रिकॉर्ड (refNum=0) को संदर्भित करता है जिसमें S_TOP_CELL नामक एक प्रोपनेम-स्ट्रिंग है। शीर्ष कोशिका में तीन कोशिकाओं का स्थान होता है जिन्हें निचली कोशिकाएँ कहा जाता है। निचली कोशिकाओं में केवल ज्यामितीय आकृतियाँ होती हैं। | ||
नीचे दिए गए ओएएसआईएस प्रतिनिधित्व की प्रत्येक पंक्ति में (बाएं से) एक रिकॉर्ड संख्या और एक रिकॉर्ड प्रकार होता है जिसके बाद मानों का एक सेट होता है जो उस रिकॉर्ड प्रकार को परिभाषित करता है। उदाहरण के लिए, नीचे दिया गया पहला RECTANGLE रिकॉर्ड निम्नलिखित प्रकार के आयत आकार, उसके आकार और उसके पूर्ण स्थान को परिभाषित करता है: | नीचे दिए गए ओएएसआईएस प्रतिनिधित्व की प्रत्येक पंक्ति में (बाएं से) एक रिकॉर्ड संख्या और एक रिकॉर्ड प्रकार होता है जिसके बाद मानों का एक सेट होता है जो उस रिकॉर्ड प्रकार को परिभाषित करता है। उदाहरण के लिए, नीचे दिया गया पहला RECTANGLE रिकॉर्ड निम्नलिखित प्रकार के आयत आकार, उसके आकार और उसके पूर्ण स्थान को परिभाषित करता है: | ||
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नीचे दिए गए CELLNAME रिकॉर्ड के अनुसार, नीचे की कोशिकाओं में निम्नलिखित सेलनाम-स्ट्रिंग्स Cell_Placed_Shapes_1, हैं। . . _2 और . . . _3 . प्रत्येक परत-संख्या जिसे एक ज्यामितीय आकार को सौंपा गया था, उसका एक LAYERNAME रिकॉर्ड के साथ जुड़ाव होता है जो एक परत-अंतराल और एक परत-नाम-स्ट्रिंग को परिभाषित करता है। इस दृश्य में, लेयरनेम-स्ट्रिंग, लेयर_कलर_मैपिंग, लेयर कलर टेबल लेयरकलरमैप.डेटा में उपयोग किए जाने वाले लेयर अंतराल को परिभाषित करता है। | नीचे दिए गए CELLNAME रिकॉर्ड के अनुसार, नीचे की कोशिकाओं में निम्नलिखित सेलनाम-स्ट्रिंग्स Cell_Placed_Shapes_1, हैं। . . _2 और . . . _3 . प्रत्येक परत-संख्या जिसे एक ज्यामितीय आकार को सौंपा गया था, उसका एक LAYERNAME रिकॉर्ड के साथ जुड़ाव होता है जो एक परत-अंतराल और एक परत-नाम-स्ट्रिंग को परिभाषित करता है। इस दृश्य में, लेयरनेम-स्ट्रिंग, लेयर_कलर_मैपिंग, लेयर कलर टेबल लेयरकलरमैप.डेटा में उपयोग किए जाने वाले लेयर अंतराल को परिभाषित करता है। | ||
नीचे दिया गया उदाहरण ओएएसआईएस भाषा का विस्तृत विवरण देने के लिए नहीं था। इसका उद्देश्य इच्छुक पाठक को ओएसिस भाषा के दायरे की सामान्य समझ देना था और यह एक एकीकृत | नीचे दिया गया उदाहरण ओएएसआईएस भाषा का विस्तृत विवरण देने के लिए नहीं था। इसका उद्देश्य इच्छुक पाठक को ओएसिस भाषा के दायरे की सामान्य समझ देना था और यह एक एकीकृत परिपथ को परिभाषित करने वाले इलेक्ट्रॉनिक लेआउट पैटर्न के प्रतिनिधित्व और अभिव्यक्ति पर कैसे लागू होता है। | ||
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Revision as of 09:45, 9 August 2023
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| Developed by | एसईएमआई |
|---|---|
| Initial release | Template:प्रारंभ दिनांक और आयु[1] |
| Standards | एसईएमआई P39-0416[2] |
| Open format? | हाँ |
| Free format? | नहीं |
| Website | एसईएमआई एसईएमआई P39 - ओएएसआईएस के लिए विशिष्टता (P39-0416) |
विवृत चित्रकला प्रणाली अंतर्विनिमय मानक (ओएएसआईएस)[3]) एक द्विआधारी फ़ाइल स्वरूप है जिसका उपयोग फोटोमास्क उत्पादन के लिए डेटा संरचनाओं के विनिर्देशन के लिए किया जाता है।[4] इसका उपयोग एकीकृत परिपथ डिजाइन के दौरान उत्पादित पदानुक्रमित एकीकृत परिपथ मास्क अभिन्यास सूचना के लिए एक पैटर्न, एक अंतर्विनिमय और एनकैप्सुलेशन प्रारूप का प्रतिनिधित्व करने के लिए किया जाता है जिसका उपयोग फोटोमास्क के अर्द्ध कंडक्टर डिवाइस निर्माण के लिए किया जाता है। मानक SEMI द्वारा विकसित किया गया है।[2][1] भाषा आयत, समलंब और बहुभुज जैसी ज्यामितीय आकृतियों के लिए आवश्यक कोड को परिभाषित करती है। यह परिभाषित करता है कि प्रत्येक में किस प्रकार के गुण हो सकते हैं, उन्हें इन आकृतियों द्वारा बनाए गए पैटर्न वाली कोशिकाओं में कैसे व्यवस्थित किया जा सकता है और परिभाषित करता है कि प्रत्येक को एक दूसरे के सापेक्ष कैसे रखा जा सकता है। यह GDSII के समान है।
2023 तक SEMI के सदस्यों के लिए मानक की लागत $252 और गैर-सदस्यों के लिए: US$335 निर्धारित की गई थी।[5]
परिचय
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ओएएसआईएस एकीकृत परिपथ डिजाइन और विनिर्माण इलेक्ट्रॉनिक पैटर्न लेआउट भाषा, GDSII का कथित व्यावसायिक उत्तराधिकारी है।
GDSII 1970 के दशक में बनाया गया था जब एकीकृत परिपथ डिज़ाइन में प्रबंधन के लिए कुछ लाख ज्यामितीय आकार, गुण और प्लेसमेंट होते थे। आज, प्रबंधित करने के लिए अरबों आकार, गुण और प्लेसमेंट हो सकते हैं। GDSII प्रारूप की फ़ाइल का आकार अक्सर दसियों गीगाबाइट भंडारण लेता है और संग्रहीत करना और संसाधित करना कठिन होता है।[6] ओएएसआईएस रचनाकारों और उपयोगकर्ताओं ने दावा किया कि वर्कस्टेशन की डेटा भंडारण और हैंडलिंग क्षमताओं की वृद्धि एकीकृत परिपथ लेआउट जटिलता की वृद्धि से कहीं अधिक थी।[7] इसलिए, ओएएसआईएस डेटा आकार को कम करने के लिए जटिल प्रकार की ज्यामितीय आकृतियों (केवल 25 प्रकार के ट्रेपेज़ॉइड) को पेश करके GDSII फ़ाइलों के बड़े आकार की कथित समस्या को हल करने का प्रयास करता है। इसके अलावा, निर्देशांक के लिए चर-लंबाई संख्यात्मक प्रारूप (रन-लंबाई एन्कोडिंग के समान) लागू किया गया था। अंत में, ओएएसआईएस फ़ाइल में प्रत्येक सेल को gzip-जैसे एल्गोरिदम द्वारा स्वतंत्र रूप से संपीड़ित किया जा सकता है।
ओएएसआईएस प्रारूप बनाने का प्रयास जून 2001 में शुरू हुआ। संस्करण 1.0 का विमोचन मार्च 2004 में हुआ। इसके उपयोग के लिए नए ओएएसआईएस पाठकों और लेखकों के विकास की आवश्यकता थी जिन्हें पहले से ही GDSII पाठकों और लेखकों से सुसज्जित उपकरणों के डिजाइन और निर्माण के साथ जोड़ा जा सकता था। . इसे अपनाने का जन्म संयुक्त राज्य अमेरिका, जापान, ताइवान, कोरिया और यूरोप की एकीकृत परिपथ डिजाइन, उपकरण, फोटोमास्क, फैबलेस, तृतीय पक्ष बौद्धिक संपदा (आईपी) और विनिर्माण कंपनियों के ठोस प्रयास से हुआ था।
ओएएसआईएस का एक सीमित संस्करण, जिसे ओएएसआईएस.MASK कहा जाता है, सेमीकंडक्टर फोटोमास्क निर्माण उपकरण जैसे पैटर्न जनरेटर और निरीक्षण प्रणाली की अनूठी जरूरतों को संबोधित करता है। ओएएसआईएस और ओएएसआईएस.MASK दोनों तकनीकी मानक हैं।
उदाहरण डेटाफ़ाइल
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नीचे ओएएसआईएस द्विआधारी फ़ाइल का एक मानव-पठनीय पाठ प्रतिनिधित्व है जो उपरोक्त शीर्ष सेल दृश्य की अभिव्यक्ति की अनुमति देता है जिसे Placed_shapes_and_ cells_within_an_IC_ cell कहा जाता है। शीर्ष सेल को S_TOP_CELL नामक फ़ाइल-स्तरीय मानक PROPERTY रिकॉर्ड द्वारा परिभाषित किया गया है। नीचे दिया गया प्रॉपर्टी रिकॉर्ड एक PROPNAME रिकॉर्ड (refNum=0) को संदर्भित करता है जिसमें S_TOP_CELL नामक एक प्रोपनेम-स्ट्रिंग है। शीर्ष कोशिका में तीन कोशिकाओं का स्थान होता है जिन्हें निचली कोशिकाएँ कहा जाता है। निचली कोशिकाओं में केवल ज्यामितीय आकृतियाँ होती हैं।
नीचे दिए गए ओएएसआईएस प्रतिनिधित्व की प्रत्येक पंक्ति में (बाएं से) एक रिकॉर्ड संख्या और एक रिकॉर्ड प्रकार होता है जिसके बाद मानों का एक सेट होता है जो उस रिकॉर्ड प्रकार को परिभाषित करता है। उदाहरण के लिए, नीचे दिया गया पहला RECTANGLE रिकॉर्ड निम्नलिखित प्रकार के आयत आकार, उसके आकार और उसके पूर्ण स्थान को परिभाषित करता है:
- परत
- डेटा प्रकार
- चौड़ाई
- ऊंचाई
- निचला-बाएँ x-निर्देशांक
- निचला-बाएँ y-समन्वय
इस आयत रिकॉर्ड में अनुपस्थित आयत के दोहराए गए उदाहरणों के स्थानों का वर्णन करने का एक विकल्प है। साथ ही, यह रिकॉर्ड प्रकार केवल चौड़ाई के मान को परिभाषित करके एक वर्ग के विवरण की अनुमति देता है। इन विवरणों को सक्षम करने के लिए, किसी को RECTANGLE रिकॉर्ड के लिए बिट पैटर्न के रूप में निर्दिष्ट सेट करना होगा। RECTANGLE रिकॉर्ड के लिए, बिट पैटर्न (या तो 1 (सक्षम) या 0 (अक्षम)) है:
SWHXYRDL (वर्ग, चौड़ाई, ऊँचाई, X-निर्देशांक, Y-निर्देशांक, दोहराव, डेटाटाइप, परत-संख्या)।
इस RECTANGLE रिकॉर्ड के लिए, बिट पैटर्न 0WHXY0DL (वर्ग नहीं, चौड़ाई, ऊँचाई, X-निर्देशांक, Y-निर्देशांक, दोहराव नहीं, डेटाटाइप, परत-संख्या) पर सेट है। सेल Cell_Placed_Shapes_2 (CELL refNum=1) में पहला और दूसरा RECTANGLE रिकॉर्ड एक आयत के दोहराए गए उदाहरणों को परिभाषित करता है। पहला RECTANGLE रिकॉर्ड (SW0XYRDL) प्रकार 10 पुनरावृत्ति (rep=rep10) का उपयोग करता है। दूसरा RECTANGLE रिकॉर्ड (0WHXYR0L) टाइप 11 दोहराव (rep=Rep11) का उपयोग करता है। कुल ग्यारह पुनरावृत्ति प्रकार हैं (Rep1-Rep11)। दूसरे RECTANGLE रिकॉर्ड बिट पैटर्न में, डेटाटाइप (D) को '0' पर सेट किया गया था क्योंकि पहले RECTANGLE रिकॉर्ड में उपयोग किया गया वही डेटाटाइप दूसरे RECTANGLE रिकॉर्ड पर लागू होता है। अन्य ओएएसआईएस-समर्थित ज्यामितीय आकृतियाँ जिनमें रिकॉर्ड प्रकार POLYGON, TRAPEZOID, CTRAPEZOID, CIRCLE और PATH हैं, को अलग-अलग बिट पैटर्न द्वारा परिभाषित किया गया है।
नीचे दिए गए CELLNAME रिकॉर्ड के अनुसार, नीचे की कोशिकाओं में निम्नलिखित सेलनाम-स्ट्रिंग्स Cell_Placed_Shapes_1, हैं। . . _2 और . . . _3 . प्रत्येक परत-संख्या जिसे एक ज्यामितीय आकार को सौंपा गया था, उसका एक LAYERNAME रिकॉर्ड के साथ जुड़ाव होता है जो एक परत-अंतराल और एक परत-नाम-स्ट्रिंग को परिभाषित करता है। इस दृश्य में, लेयरनेम-स्ट्रिंग, लेयर_कलर_मैपिंग, लेयर कलर टेबल लेयरकलरमैप.डेटा में उपयोग किए जाने वाले लेयर अंतराल को परिभाषित करता है।
नीचे दिया गया उदाहरण ओएएसआईएस भाषा का विस्तृत विवरण देने के लिए नहीं था। इसका उद्देश्य इच्छुक पाठक को ओएसिस भाषा के दायरे की सामान्य समझ देना था और यह एक एकीकृत परिपथ को परिभाषित करने वाले इलेक्ट्रॉनिक लेआउट पैटर्न के प्रतिनिधित्व और अभिव्यक्ति पर कैसे लागू होता है।
- मैजिक %सेमी-ओएसिस\015\012 1 स्टार्ट संस्करण= 1.0 इकाई=वास्तविक0(1000) ऑफसेटफ्लैग=0 ऑफसेट=[(0,0) (0,0) (0,0) (0,0) (0,0) (0,0)] 28 संपत्ति 00010CNS refNum=0 गिनती=(1) स्ट्रिंग12( प्लेस_शेप्स_एंड_सेल्स_विदिन_अन_आईसी_सेल ) 7 PROPNAME नाम= S_TOP_CELL refNum=(0) 3 सेलनाम नाम = सेल_प्लेस्ड_शेप्स_1 refNum=(0) 3 सेलनाम नाम = सेल_प्लेस्ड_शेप्स_2 refNum=(1) 3 सेलनाम नाम = सेल_प्लेस्ड_शेप्स_3 refNum=(2) 3 सेलनाम नाम = प्लेस्ड_शेप्स_एंड_सेल्स_विदिन_अन_आईसी_सेल रेफरनम=(3) 11 परतनाम नाम= परत_रंग_मैपिंग परतें=3(25:25) डेटाप्रकार=1(0:0) 11 परतनाम नाम= परत_रंग_मैपिंग परतें=4(41:46) डेटाप्रकार=1(0:0) 11 परतनाम नाम= परत_रंग_मैपिंग परतें=3(49:49) डेटाप्रकार=1(0:0) 11 परतनाम नाम= परत_रंग_मैपिंग परतें=3(63:63) डेटाप्रकार=1(0:0) 13 सेल रेफरनम=3 17 प्लेसमेंट CNXY0000 refNum=0 x=0 y=0 17 प्लेसमेंट CNXY0000 refNum=1 x=0 y=0 17 प्लेसमेंट CNXY0000 refNum=2 x=0 y=0 13 सेल रेफरनम=0 20 आयत 0WHXY0DL परत=41 डेटाप्रकार=1 चौड़ाई=3960 ऊंचाई=1980 x=-440 y=-220 20 आयत 00H0Y00L परत=42 ऊंचाई=2420 y=1760 20 आयत 0WHXY00L परत=63 चौड़ाई=3080 ऊंचाई=3960 x=0 y=0 20 आयत 0WHXY00L परत=43 चौड़ाई=2255 ऊंचाई=55 x=110 y=605 20 आयत 0WH0Y000 चौड़ाई=2860 ऊंचाई=330 y=660 20 आयत 00H0Y000 ऊंचाई=110 y=2530 20 आयत 0WH0Y000 चौड़ाई=2750 ऊंचाई=220 y=2640 20 आयत 0WH0Y000 चौड़ाई=2255 ऊँचाई=550 y=2860 20 आयत 0WHXY000 चौड़ाई=330 ऊंचाई=440 x=2035 y=165 20 आयत 0WH0Y000 चौड़ाई=935 ऊंचाई=220 y=2310 20 आयत 0WH0Y000 चौड़ाई=330 ऊँचाई=385 y=3410 20 आयत S00XY000 x=2585 y=3465 20 आयत 0WHXY00L परत=44 चौड़ाई=3330 ऊंचाई=1665 x=-125 y=1760 20 आयत 0WH0Y000 चौड़ाई=2670 ऊँचाई=410 y=3425 20 आयत 0WH0Y000 चौड़ाई=3330 ऊंचाई=250 y=3835 20 आयत 0WHXY000 चौड़ाई=250 ऊंचाई=410 x=2955 y=3425 20 आयत 0WHXY00L परत=45 चौड़ाई=3330 ऊंचाई=1885 x=-125 y=-125 20 आयत SW0XY000 चौड़ाई=410 x=2545 y=3425 13 सेल रेफरनम=1 20 आयत SW0XYRDL परत = 25 डेटा प्रकार = 0 चौड़ाई = 160 x = 195 y = 690 प्रतिनिधि = प्रतिनिधि 10 [dim = 15 disp = (g (0,1430) g (0,1045) g (550, -1375) g (220) ,-550) जी(165,-495) जी(0,1870) जी(165,-495) जी(825,-1870) जी(0,3300) जी(275,-1980) जी(165,1540) जी(110,440) जी(55,-2805) जी(0,1650))] 20 आयत 0WHXYR0L परत=46 चौड़ाई=340 ऊंचाई=220 x=105 y=2030 प्रतिनिधि=प्रतिनिधि11[dim=3 ग्रिड=10 disp=(g(55,-21) g(165,-22))] 20 आयत 0WH0YR00 चौड़ाई=505 ऊंचाई=120 y=2250 प्रतिनिधि=rep10[dim=3 disp=(g(2365,-1100) g(0,880))] 20 आयत 0W0XY000 चौड़ाई=285 x=325 y=1370 20 आयत 0WH0Y000 चौड़ाई=120 ऊंचाई=540 y=1490 20 आयत 00HXY000 ऊंचाई=1045 x=490 y=325 20 आयत 00H0YR00 ऊंचाई=1320 y=2370 प्रतिनिधि=rep2[xdim=2 dx=935] 20 आयत 0WHXY000 चौड़ाई=890 ऊंचाई=120 x=655 y=1700 20 आयत 0WHXY000 चौड़ाई=120 ऊँचाई=825 x=875 y=325 20 आयत SW00YR00 चौड़ाई=340 y=1150 प्रतिनिधि=rep10[dim=3 disp=(g(330,880) g(1265,990))] 2 अंत
उद्योग मानक
ओएएसआईएस और ओएएसआईएस.MASK अब औपचारिक तकनीकी मानक हैं। दोनों का स्वामित्व और रखरखाव व्यापार और मानक संगठन SEMI द्वारा किया जाता है। SEMI दुनिया भर में सेमीकंडक्टर सामग्री और उपकरण उद्योगों को सेवा प्रदान करता है।
SEMI P39 ओएएसआईएस और SEMI P44 ओएएसआईएस.MASK के लिए शुल्क-आधारित विनिर्देश SEMI की वेबसाइट से डाउनलोड किए जा सकते हैं।
यह भी देखें
बाहरी संबंध
फ़ुटनोट
- ↑ 1.0 1.1 "About OASIS SEMI P39". www.yottadatasciences.com. Retrieved 2022-05-26.
- ↑ 2.0 2.1 "ओएसिस". www.layouteditor.org. Retrieved 2022-05-26.
- ↑ The trade name OASIS is a registered trademark in the USA of Thomas J. Grebinski, Alamo, California and licensed for use exclusively by SEMI.
- ↑ "SEMI P39 : 2016 SPECIFICATION FOR OASIS - OPEN ARTWORK SYSTEM INT". infostore.saiglobal.com. Retrieved 2023-05-23.
- ↑ "P03800 - SEMI P39 - Specification for OASIS® – Open Artwork System Interchange Standard". semi.org (in English). Retrieved 2023-05-23.
- ↑ "ओएसिस प्रारूप". www.wrcad.com. Retrieved 2023-05-23.
- ↑ "GDSII से OASIS तक जा रहे हैं". EETimes. 2022-08-30. Retrieved 2022-09-11.
श्रेणी:ईडीए फ़ाइल स्वरूप
