माइक्रोलिथोग्राफी: Difference between revisions
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माइक्रोलिथोग्राफी किसी भी निर्माण प्रक्रिया के लिए सामान्य नाम है जो बाद में [[नक़्क़ाशी (माइक्रोफैब्रिकेशन)]] के समय इसके चयनित क्षेत्रों की रक्षा के लिए सब्सट्रेट, जैसे कि [[सिलिकॉन]] [[वेफर (इलेक्ट्रॉनिक्स)]] पर सुरक्षात्मक सामग्री की सूक्ष्म पैटर्न वाली [[पतली फिल्म]] बना सकती है। निक्षेप, या [[आयन आरोपण]] संचालन।<ref name=helb2001/><ref name=smi2007/> इस शब्द का प्रयोग सामान्यतः उन प्रक्रियाओं के लिए किया जाता है जो सूक्ष्म आकार की सुविधाओं जैसे कि 10 [[माइक्रोमीटर]] या उससे कम का विश्वसनीय रूप से उत्पादन कर सकते हैं। [[नैनो]]लिथोग्राफ़ी शब्द का उपयोग उन प्रक्रियाओं को निर्दिष्ट करने के लिए किया जा सकता है जो 100 [[नैनोमीटर]] से कम नैनोटेक्नोलॉजी सुविधाओं का उत्पादन कर सकती हैं। | माइक्रोलिथोग्राफी किसी भी निर्माण प्रक्रिया के लिए सामान्य नाम है जो बाद में [[नक़्क़ाशी (माइक्रोफैब्रिकेशन)]] के समय इसके चयनित क्षेत्रों की रक्षा के लिए सब्सट्रेट, जैसे कि [[सिलिकॉन]] [[वेफर (इलेक्ट्रॉनिक्स)]] पर सुरक्षात्मक सामग्री की सूक्ष्म पैटर्न वाली [[पतली फिल्म]] बना सकती है। निक्षेप, या [[आयन आरोपण]] संचालन।<ref name=helb2001/><ref name=smi2007/> इस शब्द का प्रयोग सामान्यतः उन प्रक्रियाओं के लिए किया जाता है जो सूक्ष्म आकार की सुविधाओं जैसे कि 10 [[माइक्रोमीटर]] या उससे कम का विश्वसनीय रूप से उत्पादन कर सकते हैं। [[नैनो]]लिथोग्राफ़ी शब्द का उपयोग उन प्रक्रियाओं को निर्दिष्ट करने के लिए किया जा सकता है जो 100 [[नैनोमीटर]] से कम नैनोटेक्नोलॉजी सुविधाओं का उत्पादन कर सकती हैं। | ||
माइक्रोलिथोग्राफी [[ microfabrication | सूक्ष्म निर्माण]] प्रक्रिया है जो [[सेमीकंडक्टर उद्योग]] में बड़े पैमाने पर उपयोग की जाती है और [[माइक्रोइलेक्ट्रॉनिक सिस्टम|माइक्रोइलेक्ट्रॉनिक प्रणाली]] का निर्माण भी करती है। | माइक्रोलिथोग्राफी [[ microfabrication |सूक्ष्म निर्माण]] प्रक्रिया है जो [[सेमीकंडक्टर उद्योग]] में बड़े पैमाने पर उपयोग की जाती है और [[माइक्रोइलेक्ट्रॉनिक सिस्टम|माइक्रोइलेक्ट्रॉनिक प्रणाली]] का निर्माण भी करती है। | ||
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माइक्रोलिथोग्राफी किसी भी निर्माण प्रक्रिया के लिए सामान्य नाम है जो बाद में नक़्क़ाशी (माइक्रोफैब्रिकेशन) के समय इसके चयनित क्षेत्रों की रक्षा के लिए सब्सट्रेट, जैसे कि सिलिकॉन वेफर (इलेक्ट्रॉनिक्स) पर सुरक्षात्मक सामग्री की सूक्ष्म पैटर्न वाली पतली फिल्म बना सकती है। निक्षेप, या आयन आरोपण संचालन।[1][2] इस शब्द का प्रयोग सामान्यतः उन प्रक्रियाओं के लिए किया जाता है जो सूक्ष्म आकार की सुविधाओं जैसे कि 10 माइक्रोमीटर या उससे कम का विश्वसनीय रूप से उत्पादन कर सकते हैं। नैनोलिथोग्राफ़ी शब्द का उपयोग उन प्रक्रियाओं को निर्दिष्ट करने के लिए किया जा सकता है जो 100 नैनोमीटर से कम नैनोटेक्नोलॉजी सुविधाओं का उत्पादन कर सकती हैं।
माइक्रोलिथोग्राफी सूक्ष्म निर्माण प्रक्रिया है जो सेमीकंडक्टर उद्योग में बड़े पैमाने पर उपयोग की जाती है और माइक्रोइलेक्ट्रॉनिक प्रणाली का निर्माण भी करती है।
प्रक्रियाएं
विशिष्ट माइक्रोलिथोग्राफी प्रक्रियाओं में सम्मिलित हैं:
- फोटोलिथोग्राफी प्रकाशसंवेदी मीटरियल फ़िल्म (फोटो प्रतिरोध) पर प्रक्षेपित प्रकाश का उपयोग करते हुए।
- इलेक्ट्रॉन बीम लिथोग्राफी चलाने योग्य इलेक्ट्रॉन बीम का उपयोग करना।
- नैनोइम्प्रिंट लिथोग्राफी
- हस्तक्षेप लिथोग्राफी
- मैग्नेटोलिथोग्राफी
- स्कैनिंग जांच लिथोग्राफी
- सरफेस-आवेश लिथोग्राफी[3]* विवर्तन लिथोग्राफी[4]
ये प्रक्रियाएँ गति और लागत में भिन्न होती हैं, साथ ही साथ वे जिस सामग्री पर प्रयुक्त की जा सकती हैं और उनके द्वारा उत्पादित किए जा सकने वाले फीचर आकारों की श्रेणी में भी भिन्न होती हैं। उदाहरण के लिए, जबकि फोटोलिथोग्राफी के साथ प्राप्त होने वाली सुविधाओं का आकार उपयोग किए गए प्रकाश की तरंग दैर्ध्य द्वारा सीमित होता है, यह तकनीक इलेक्ट्रॉन बीम लिथोग्राफी की तुलना में बहुत तेज और सरल है, जो बहुत छोटे लोगों को प्राप्त कर सकती है।
अनुप्रयोग
माइक्रोलिथोग्राफी का मुख्य अनुप्रयोग अर्धचालक निर्माण (इलेक्ट्रॉनिक चिप्स) है, जैसे ठोस स्थिति स्मृति सॉलिड-स्टेट मेमोरी और माइक्रोप्रोसेसर। उनका उपयोग सूक्ष्म विवरण के साथ विवर्तन झंझरी, माइक्रोस्कोप अंशांकन ग्रिड और अन्य फ्लैट संरचनाओं को बनाने के लिए भी किया जा सकता है।
यह भी देखें
संदर्भ
- ↑ John N Helbert (2001), Handbook of VLSI Microlithography. Elsevier Science, 1022 pages. ISBN 9780815514442
- ↑ Bruce W. Smith and Kazuaki Suzuki (2007): Microlithography: Science and Technology, 2nd Edition. CRC Press, 864 pages. ISBN 978-0824790240
- ↑ S. Grilli, V. Vespini, P. Ferraro (2008): "Surface-charge lithography for direct PDMS micro-patterning". Langmuir, volume 24, pages 13262–13265. doi:10.1021/la803046j PMID 18986187
- ↑ M. Paturzo, S. Grilli, S. Mailis, G. Coppola, M. Iodice, M. Gioffré, P. Ferraro (2008): "Flexible coherent diffraction lithography by tunable phase arrays in lithium niobate crystals". Optics Communications, volume 281, pages 1950–1953. doi:10.1016/j.optcom.2007.12.056
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