एपर्चर मास्किंग इंटरफेरोमेट्री
द्वितीयक दर्पण के सामने छिद्र मास्क के चित्र दिखाते हैं। ठोस काली आकृतियाँ उप-छिद्रों (मास्क में छेद) का प्रतिनिधित्व करती हैं। कीक दूरबीन प्राइमरी मिरर सेगमेंट के विन्यास का प्रक्षेपण किया गया है।एपर्चर मास्किंग व्यतिकरणमितिधब्बेदार व्यतिकरणमिति का एक रूप है, जो भूमि -आधारित दूरबीन से विवर्तन सीमित इमेजिंग की अनुमति देता है, और जेम्स वेब अंतरिक्ष दूरबीन पर उच्च विपरीत इमेजिंग मोड है। यह विधि भूमि -आधारित दूरबीन को अधिकतम संभव समाधान तक पहुंचने की अनुमति देती है, जिससे हबल अंतरिक्ष सूक्ष्मदर्शी की तुलना में बड़े व्यास वाले भूमि -आधारित दूरबीन की अनुमति मिलती है। विधि की प्रमुख सीमा यह है कि यह केवल अपेक्षाकृत चमकीले खगोलीय पिंडों पर प्रयुक्त होती है। दूरबीन के ऊपर मास्क लगाया जाता है जो केवल कुछ ही छिद्रों के माध्यम से प्रकाश की अनुमति देता है। छिद्रों की यह सरणी एक लघु खगोलीय व्यतिकरणमापी के रूप में कार्य करती है। यह विधि जॉन ई. बाल्डविन और कैवेंडिश खगोल भौतिकी समूह के सहयोगियों द्वारा विकसित की गई थी।
विवरण
एपर्चर मास्किंग विधि में, बिस्पेक्ट्रल मास्किंग (स्पेकल मास्किंग) विधि सामान्यतः मास्क किए गए छिद्र के माध्यम से ली गई छवि डेटा पर प्रयुक्त होती है, जहां अधिकांश छिद्र बंद हो जाते हैं और प्रकाश केवल छोटे छेदों (उप-छिद्र) की एक श्रृंखला से गुजर सकता है। छिद्र मास्क समापन चरण के उपयोग के माध्यम से इन मापों से वायुमंडलीय ध्वनि को हटा देता है, जिससे द्विस्पेक्ट्रम को बिना मास्क वाले छिद्र की तुलना में अधिक तेज़ी से मापा जा सकता है।
सरलता के लिए छिद्र मास्क को सामान्यतः या तो द्वितीयक दर्पण के सामने रखा जाता है (जैसे टूथिल एट अल। (2000)) या चित्र 1.ए में दिखाए गए अनुसार री-इमेज्ड छिद्र प्लेन में रखा जाता है) (जैसे हनीफ एट अल। (1987) यंग एट अल. (2000); बाल्डविन एट अल. (1986)). मुखौटे को सामान्यतः या तो गैर-निरर्थक या आंशिक रूप से निरर्थक के रूप में वर्गीकृत किया जाता है। गैर-अनावश्यक मास्क में छोटे छिद्रों की सरणियाँ होती हैं जहाँ छिद्रों के दो जोड़े समान पृथक्करण वेक्टर (समान आधार रेखा - छिद्र संश्लेषण देखें) नहीं होते हैं।
छिद्रों की प्रत्येक जोड़ी छवि तल में अद्वितीय स्थानिक आवृत्ति पर फ्रिंज का एक समूह प्रदान करती है। आंशिक रूप से निरर्थक मास्क सामान्यतः रिक्ति को कम करने और थ्रूपुट और जांच की गई स्थानिक आवृत्तियों की सीमा दोनों को अधिकतम करने के बीच समझौता प्रदान करने के लिए डिज़ाइन किया गया है (हैनिफ एंड बुशर, 1992; हनीफ एट अल।, 1989)। चित्र 1.बी) और 1.सी) पीटर टूथिल और सहयोगियों द्वारा केके दूरबीन में माध्यमिक के सामने उपयोग किए जाने वाले छिद्र मास्क के उदाहरण दिखाते हैं; चित्रा 1.बी) गैर-निरर्थक मुखौटा है जबकि चित्रा 1.सी) आंशिक रूप से व्यर्थ है।
चूंकि उच्च प्रकाश स्तर पर स्पेकल मास्किंग अवलोकनों के ध्वनि करने के लिए संकेत को छिद्र मास्क के साथ उत्तम बनाया जा सकता है, फोटॉन-ध्वनि सीमित संसुचको के लिए सबसे कम सीमित परिमाण में उल्लेखनीय सुधार नहीं किया जा सकता है (बुशर एंड हनीफ (1993) देखें)।
यह भी देखें
संदर्भ
- Peter Tuthill's PhD thesis on aperture masking (PostScript) (PDF)
- Baldwin et al. (1986)
- Buscher & Haniff (1993)
- Haniff et al. (1987)
- Haniff et al., 1989
- Buscher et al. 1990
- Haniff & Buscher, 1992
- Tuthill et al. (2000)
- Young et al. (2000)
अग्रिम पठन
