केल्विन जांच बल माइक्रोस्कोप: Difference between revisions

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एसकेपी मापन की गुणवत्ता कई कारकों द्वारा प्रभावित होती है। इसमें एसकेपी जांच का व्यास, नमूना दूरी की जांच और एसकेपी जांच की सामग्री सम्मिलित है। एसकेपी मापन में जांच व्यास महत्वपूर्ण है क्योंकि यह माप के समग्र विश्लेषण को प्रभावित करता है, छोटे जांचों के साथ बेहतर विश्लेषण होता है।  दूसरी ओर, जांच के आकार को कम करने से बाह्य भूतल के प्रभाव में वृद्धि होती है जो अलग-अलग कैपेसिटेंस के माप को बढ़ाकर माप की संवेदनशीलता को कम कर देता है।<ref name= Wicinski 2016 1–8 /> एसकेपी जांच के निर्माण में प्रयुक्त सामग्री एसकेपी मापन की गुणवत्ता के लिए महत्वपूर्ण है। यह कई कारणों से होता है। विभिन्न सामग्रियों के अलग-अलग कार्य फलन मान होते हैं जो मापी गई संपर्क क्षमता को प्रभावित करेंगे। विभिन्न सामग्रियों में आर्द्रता परिवर्तनों के प्रति संवेदनशीलता अलग होती है। सामग्री एसकेपी मापन के स्थान विश्लेषण की परिणामी ज्यामितीय शर्तों को भी प्रभावित कर सकती है। व्यावसायिक जांच में [[टंगस्टन]] का उपयोग किया जाता है,<ref>{{Cite web|url=https://www.bio-logic.net/accessories/probes/hr-skp/|title=उच्च संकल्प स्कैनिंग केल्विन जांच|website=Bio-Logic Science Instruments|language=en-GB|access-date=2019-05-17}}</ref> यद्यपि [[ प्लैटिनम |प्लैटिनम]] ,<ref>{{Cite journal|last1=Hansen|first1=Douglas C.|last2=Hansen|first2=Karolyn M.|last3=Ferrell|first3=Thomas L.|last4=Thundat|first4=Thomas|date=2003|title=केल्विन जांच प्रौद्योगिकी का उपयोग करके बायोमोलेक्युलर इंटरैक्शन को समझना|journal=Langmuir|volume=19|issue=18|pages=7514–7520|doi=10.1021/la034333w|issn=0743-7463}}</ref> [[ताँबा]],<ref>{{Cite journal|last1=Dirscherl|first1=Konrad|last2=Baikie|first2=Iain|last3=Forsyth|first3=Gregor|last4=Heide|first4=Arvid van der|date=2003|title=एमसी-सी सौर कोशिकाओं के गैर-इनवेसिव सतह संभावित मानचित्रण के लिए माइक्रो-टिप स्कैनिंग केल्विन जांच का उपयोग|journal=Solar Energy Materials and Solar Cells|language=en|volume=79|issue=4|pages=485–494|doi=10.1016/S0927-0248(03)00064-3}}</ref> [[सोना]],<ref>{{Cite journal|last=Stratmann|first=M.|date=1987|title=The investigation of the corrosion properties of metals, covered with adsorbed electrolyte layers—A new experimental technique|journal=Corrosion Science|language=en|volume=27|issue=8|pages=869–872|doi=10.1016/0010-938X(87)90043-6}}</ref> तथा [[निक्रोम]] का प्रयोग किया गया है।<ref>{{Cite journal|last1=Nazarov|first1=A. P.|last2=Thierry|first2=D.|date=2001|title=Study of the Carbon Steel/Alkyd Coating Interface with a Scanning Vibrating Capacitor Technique|journal=Protection of Metals|volume=37|issue=2|pages=108–119|doi=10.1023/a:1010361702449|s2cid=92117439 |issn=0033-1732}}</ref> नमूना दूरी की जांच अंतिम एसकेपी माप को प्रभावित करती है, पार्श्व संकल्प में सुधार करने के लिए नमूना दूरी की छोटी जांच के साथ <ref name="mcmurray2002">{{Cite journal|last1=McMurray|first1=H. N.|last2=Williams|first2=G.|date=2002|title=Probe diameter and probe–specimen distance dependence in the lateral resolution of a scanning Kelvin probe|journal=Journal of Applied Physics|language=en|volume=91|issue=3|pages=1673–1679|doi=10.1063/1.1430546|bibcode=2002JAP....91.1673M |issn=0021-8979}}</ref>और माप का संकेतक-टू-शोर अनुपात।<ref>{{Cite web|url=https://www.bio-logic.net/wp-content/uploads/SCANLAB-AN-1.pdf|title=Height tracking with the SKP370 or SKP470 module|website=Bio-Logic Science Instruments|access-date=2019-05-17}}</ref> इसके अलावा, एसकेपी जांच को नमूना दूरी तक कम करने से माप की तीव्रता बढ़ जाती है, जहां माप की तीव्रता''1/d<sup>2</sup>'' के समानुपाती होती है, जहां d नमूना दूरी की जांच है।<ref>{{Cite journal|last1=Wapner|first1=K.|last2=Schoenberger|first2=B.|last3=Stratmann|first3=M.|last4=Grundmeier|first4=G.|date=2005|title=Height-Regulating Scanning Kelvin Probe for Simultaneous Measurement of Surface Topology and Electrode Potentials at Buried Polymer/Metal Interfaces|journal=Journal of the Electrochemical Society|language=en|volume=152|issue=3|pages=E114|doi=10.1149/1.1856914|bibcode=2005JElS..152E.114W }}</ref> माप पर जांच को नमूना दूरी में बदलने के प्रभावों को निरंतर दूरी रूप में एसकेपी का उपयोग करके प्रतिवर्त किया जा सकता है।                                                                                                                                                                                                                                                                       
एसकेपी मापन की गुणवत्ता कई कारकों द्वारा प्रभावित होती है। इसमें एसकेपी जांच का व्यास, नमूना दूरी की जांच और एसकेपी जांच की सामग्री सम्मिलित है। एसकेपी मापन में जांच व्यास महत्वपूर्ण है क्योंकि यह माप के समग्र विश्लेषण को प्रभावित करता है, छोटे जांचों के साथ बेहतर विश्लेषण होता है।  दूसरी ओर, जांच के आकार को कम करने से बाह्य भूतल के प्रभाव में वृद्धि होती है जो अलग-अलग कैपेसिटेंस के माप को बढ़ाकर माप की संवेदनशीलता को कम कर देता है।<ref name= Wicinski 2016 1–8 /> एसकेपी जांच के निर्माण में प्रयुक्त सामग्री एसकेपी मापन की गुणवत्ता के लिए महत्वपूर्ण है। यह कई कारणों से होता है। विभिन्न सामग्रियों के अलग-अलग कार्य फलन मान होते हैं जो मापी गई संपर्क क्षमता को प्रभावित करेंगे। विभिन्न सामग्रियों में आर्द्रता परिवर्तनों के प्रति संवेदनशीलता अलग होती है। सामग्री एसकेपी मापन के स्थान विश्लेषण की परिणामी ज्यामितीय शर्तों को भी प्रभावित कर सकती है। व्यावसायिक जांच में [[टंगस्टन]] का उपयोग किया जाता है,<ref>{{Cite web|url=https://www.bio-logic.net/accessories/probes/hr-skp/|title=उच्च संकल्प स्कैनिंग केल्विन जांच|website=Bio-Logic Science Instruments|language=en-GB|access-date=2019-05-17}}</ref> यद्यपि [[ प्लैटिनम |प्लैटिनम]] ,<ref>{{Cite journal|last1=Hansen|first1=Douglas C.|last2=Hansen|first2=Karolyn M.|last3=Ferrell|first3=Thomas L.|last4=Thundat|first4=Thomas|date=2003|title=केल्विन जांच प्रौद्योगिकी का उपयोग करके बायोमोलेक्युलर इंटरैक्शन को समझना|journal=Langmuir|volume=19|issue=18|pages=7514–7520|doi=10.1021/la034333w|issn=0743-7463}}</ref> [[ताँबा]],<ref>{{Cite journal|last1=Dirscherl|first1=Konrad|last2=Baikie|first2=Iain|last3=Forsyth|first3=Gregor|last4=Heide|first4=Arvid van der|date=2003|title=एमसी-सी सौर कोशिकाओं के गैर-इनवेसिव सतह संभावित मानचित्रण के लिए माइक्रो-टिप स्कैनिंग केल्विन जांच का उपयोग|journal=Solar Energy Materials and Solar Cells|language=en|volume=79|issue=4|pages=485–494|doi=10.1016/S0927-0248(03)00064-3}}</ref> [[सोना]],<ref>{{Cite journal|last=Stratmann|first=M.|date=1987|title=The investigation of the corrosion properties of metals, covered with adsorbed electrolyte layers—A new experimental technique|journal=Corrosion Science|language=en|volume=27|issue=8|pages=869–872|doi=10.1016/0010-938X(87)90043-6}}</ref> तथा [[निक्रोम]] का प्रयोग किया गया है।<ref>{{Cite journal|last1=Nazarov|first1=A. P.|last2=Thierry|first2=D.|date=2001|title=Study of the Carbon Steel/Alkyd Coating Interface with a Scanning Vibrating Capacitor Technique|journal=Protection of Metals|volume=37|issue=2|pages=108–119|doi=10.1023/a:1010361702449|s2cid=92117439 |issn=0033-1732}}</ref> नमूना दूरी की जांच अंतिम एसकेपी माप को प्रभावित करती है, पार्श्व संकल्प में सुधार करने के लिए नमूना दूरी की छोटी जांच के साथ <ref name="mcmurray2002">{{Cite journal|last1=McMurray|first1=H. N.|last2=Williams|first2=G.|date=2002|title=Probe diameter and probe–specimen distance dependence in the lateral resolution of a scanning Kelvin probe|journal=Journal of Applied Physics|language=en|volume=91|issue=3|pages=1673–1679|doi=10.1063/1.1430546|bibcode=2002JAP....91.1673M |issn=0021-8979}}</ref>और माप का संकेतक-टू-शोर अनुपात।<ref>{{Cite web|url=https://www.bio-logic.net/wp-content/uploads/SCANLAB-AN-1.pdf|title=Height tracking with the SKP370 or SKP470 module|website=Bio-Logic Science Instruments|access-date=2019-05-17}}</ref> इसके अलावा, एसकेपी जांच को नमूना दूरी तक कम करने से माप की तीव्रता बढ़ जाती है, जहां माप की तीव्रता''1/d<sup>2</sup>'' के समानुपाती होती है, जहां d नमूना दूरी की जांच है।<ref>{{Cite journal|last1=Wapner|first1=K.|last2=Schoenberger|first2=B.|last3=Stratmann|first3=M.|last4=Grundmeier|first4=G.|date=2005|title=Height-Regulating Scanning Kelvin Probe for Simultaneous Measurement of Surface Topology and Electrode Potentials at Buried Polymer/Metal Interfaces|journal=Journal of the Electrochemical Society|language=en|volume=152|issue=3|pages=E114|doi=10.1149/1.1856914|bibcode=2005JElS..152E.114W }}</ref> माप पर जांच को नमूना दूरी में बदलने के प्रभावों को निरंतर दूरी रूप में एसकेपी का उपयोग करके प्रतिवर्त किया जा सकता है।                                                                                                                                                                                                                                                                       


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Latest revision as of 11:57, 14 July 2023

केल्विन जांच बल माइक्रोस्कोपी में, भूतल के कार्य फलन को मानचित्रित करने के लिए एक निरंतर ऊंचाई पर एक भूतल पर एक संचालन कैंटिलीवर पर्यवेक्षण किया जाता है।
एक विशिष्ट पर्यवेक्षण केल्विन जांच (एसकेपी) उपकरण। बाईं ओर लॉक-इन एम्पलीफायर और बैकिंग पोटेंशियल कंट्रोलर के साथ कंट्रोल यूनिट है। दाईं ओर वाइब्रेटर, विद्युतमापी और प्रोब माउंटेड के साथ x, y, z पर्यवेक्षण अक्ष है।

केल्विन जांच बल माइक्रोस्कोपी (केपीएफएम), जिसे भूतल क्षमता सूक्ष्मदर्शिकी के रूप में भी जाना जाता है, परमाणु बल सूक्ष्मदर्शिकी (एएफएम) का एक गैर-संपर्क संस्करण है।[1][2][3] x, y समतल में रास्टर पर्यवेक्षण द्वारा नमूने के कार्य फलन को नमूना विशेषताओं के साथ सहसंबंध के लिए स्थानीय रूप से मानचित्रित किया जा सकता है। जब आवर्धन कम या नहीं होता है, तो इस दृष्टिकोण को पर्यवेक्षण केल्विन जांच (एसकेपी) के उपयोग के रूप में वर्णित किया जा सकता है। इन तकनीकों का उपयोग मुख्यतः संक्षारण और कोटिंग्स के आकलन के लिए किया जाता है।

केपीएफएम के साथ, भूतलों के कार्य फलन को परमाणु या अणु पैमाने पर देखा जा सकता है। कार्य फलन उत्प्रेरक की सक्रियता, भूतलों का पुनर्निर्माण, डोपिंग तथा अर्धचालक का संघटित -झुकाव, डीइलेक्ट्रिक्स में ट्रैपिंग तथा संक्षारण सहित अनेक भूतली घटनाओं से सम्बन्धित है। केपीएफएम द्वारा निर्मित फलन का कार्य का मानचित्र एक ठोस की भूतल पर स्थानीय संरचनाओं की संरचना और इलेक्ट्रॉनिक स्थिति के बारे में जानकारी देता है।

इतिहास

एसकेपी तकनीक 1898 में लॉर्ड केल्विन द्वारा किए गए समानांतर प्लेट संधारित्र प्रयोगों पर आधारित है।[4] 1930 के दशक में विलियम ज़िसमैन ने लॉर्ड केल्विन के प्रयोगों के आधार पर निर्मित असमान धातुओं के संपर्क संभावित असमानता के आकलन के लिए तकनीक विकसित करने के लिए बनाया था[5]

कार्य सिद्धांत

Diagram of Fermi level changes during scanning Kelvin probe
364x364px पर्यवेक्षण केल्विन प्रोब (एसकेपी) नमूना और माप के दौरान प्रोब दिखाए गए हैं। जांच और नमूने के विद्युत कनेक्शन पर उनके फर्मी स्तर संतुलित होते हैं, और जांच और नमूने पर एक चार्ज विकसित होता है। इस चार्ज को शून्य करने के लिए एक बैकिंग क्षमता लागू की जाती है, नमूना फर्मी स्तर को उसकी मूल स्थिति में लौटाता है।

एसकेपी में जांच और नमूना एक दूसरे के समानांतर रखे जाते हैं और समानांतर प्लेट विद्युत बनाने के लिए संधारित्र रूप से जुड़े होते हैं। जांच नमूने के लिए एक अलग सामग्री का चयन किया जाता है, इसलिए प्रत्येक घटक आरंभ में एक अलग फर्मि स्तर होता है। जब जांच और नमूने के बीच विद्युत संबंध बनाया जाता है तो जांच और नमूने के बीच उच्चतर से निचले फर्मी स्तर की दिशा में इलेक्ट्रॉन प्रवाह हो सकता है। यह इलेक्ट्रॉन प्रवाह जांच और नमूना फर्मी स्तरों के संतुलन का कारण बनता है। इसके अलावा, जांच और नमूने पर एक भूतली प्रभार विकसित होता है, जिसमें एक संबंधित संभावित अंतर होता है जिसे संपर्क क्षमता (Vc) के रूप में जाना जाता है। एसकेपी में जांच नमूने के भूतल के लंबवत होने पर स्फूर्त की जाती है।[6] यह कंपन नमूना दूरी की जांच में परिवर्तन का कारण बनता है, जिसके परिणामस्वरूप धारा का प्रवाह होता है, जो एसी साइन वेव का रूप ले लेता है। परिणामी एसी साइन वेव लॉक-इन एम्पलीफायर के उपयोग के माध्यम से डीसी संकेतक के लिए अवनत किया जाता है।[7] सामान्यतः उपयोगकर्ता को लॉक-इन एम्पलीफायर द्वारा उपयोग किए जाने वाले सही संदर्भ चरण मान का चयन करना चाहिए। एक बार डीसी क्षमता निर्धारित हो जाने के बाद, बाहरी क्षमता, जिसे बैकिंग क्षमता (Vb) जांच और नमूने के बीच आरोप को समाप्त करने के लिए लागू किया जा सकता है। जब चार्ज शून्य हो जाता है,, तो नमूने का फर्मी स्तर अपनी मूल स्थिति में लौट आता है। इसका अर्थ है कि Vb, -Vc के बराबर है, जो एसकेपी जांच और मापे गए नमूने के बीच कार्य फलन अंतर है।[8]

Block diagram of scanning Kelvin probe
कंप्यूटर, कंट्रोल यूनिट, पर्यवेक्षण अक्ष, वाइब्रेटर, जांच और नमूना दिखाने वाले पर्यवेक्षण केल्विन प्रोब (एसकेपी) उपकरण का ब्लॉक डायग्राम

एएफएम में केंटलिवर एक संदर्भ इलेक्ट्रोड है जो भूतल के साथ एक संधारित्र का निर्माण करता है, जिस पर एक सतत पृथक्करण पर पार्श्वतः का पर्यवेक्षण किया जाता है। सामान्य एएफएम के रूप में कैन्टलीवर अपने यांत्रिक अनुनाद आवृत्ति ω0पर पीजोइलेक्ट्रिक रूप से संचालित नहीं है, यद्यपि इस आवृत्ति पर एक प्रत्यावर्ती धारा(एसी) वोल्टेज लागू किया जाता है।

जब अग्रभाग और भूतल के बीच एक प्रत्यक्ष-धारा (डीसी) संभावित अंतर होता है, तो एसी + डीसी वोल्टेज ऑफ़सेट कैंटिलीवर को कंपन करने का कारण बनता है। बल की उत्पत्ति को इस बात पर विचार करके समझा जा सकता है कि कैंटिलीवर और भूतल द्वारा गठित संधारित्र की ऊर्जा है

इसके अलावा, डीसी में शब्द। केवल VDC·VAC उत्पाद का संकरण-अवधि आनुपातिक अनुनाद आवृत्ति ω0पर होता है। कैंटीलीवर के परिणामी कंपन का पता सामान्य पर्यवेक्षण किए गए-जांच सूक्ष्मदर्शिकी तरीकों (सामान्यतःएक डायोड लेजर और एक चार-क्वाड्रेंट डिटेक्टर को सम्मिलित करते हुए) का उपयोग करके लगाया जाता है। अग्रभाग की डीसी क्षमता को एक मान तक ले जाने के लिए एक शून्य सर्किट का उपयोग किया जाता है जो कंपन को कम करता है। इस अकृत डीसी क्षमता तथा पार्श्व स्थिति समन्वय के मानचित्र से भूतल के कार्य फलन की एक छवि उत्पन्न होती है।

एक संबंधित तकनीक, विद्युत स्थैतिक बलों बल माइक्रोस्कोप (ईएफएम), भूतल से निकलने वाले विद्युत क्षेत्र द्वारा आवेशित अग्रभाग पर उत्पन्न बल को सीधे मापता है। ईएफएम चुंबकीय बल माइक्रोस्कोप की तरह बहुत हद तक संचालित होता है, जिसमें कैटलवर दोलन की आवृत्ति परिवर्तन या आयाम परिवर्तन का उपयोग विद्युत क्षेत्र का पता लगाने के लिए किया जाता है। यद्यपि, केपीएफएम की तुलना में ईएफएम स्थलाकृतिक कलाकृतियों के प्रति अधिक संवेदनशील है। ईएफएम और केपीएफएम दोनों को प्रवाहकीय कैंटिलीवर के सामान्यतःधातु-लेपित सिलिकॉन या सिलिकॉन नाइट्राइड विद्युत स्थैतिक बलोंउपयोग की आवश्यकता होती है। विद्युत स्थैतिक बलों भूतल क्षमता की कल्पना के लिए और एक अन्य एएफएम-आधारित तकनीक, पर्यवेक्षण क्वांटम डॉट सूक्ष्मदर्शिकी,[9] अग्रभाग-संलग्न क्वांटम डॉट को गेट करने की उनकी क्षमता के आधार पर भूतल की क्षमता की मात्रा निर्धारित करता है।

एसकेपी माप को प्रभावित करने वाले कारक

एसकेपी मापन की गुणवत्ता कई कारकों द्वारा प्रभावित होती है। इसमें एसकेपी जांच का व्यास, नमूना दूरी की जांच और एसकेपी जांच की सामग्री सम्मिलित है। एसकेपी मापन में जांच व्यास महत्वपूर्ण है क्योंकि यह माप के समग्र विश्लेषण को प्रभावित करता है, छोटे जांचों के साथ बेहतर विश्लेषण होता है। दूसरी ओर, जांच के आकार को कम करने से बाह्य भूतल के प्रभाव में वृद्धि होती है जो अलग-अलग कैपेसिटेंस के माप को बढ़ाकर माप की संवेदनशीलता को कम कर देता है।Cite error: Invalid <ref> tag; invalid names, e.g. too many एसकेपी जांच के निर्माण में प्रयुक्त सामग्री एसकेपी मापन की गुणवत्ता के लिए महत्वपूर्ण है। यह कई कारणों से होता है। विभिन्न सामग्रियों के अलग-अलग कार्य फलन मान होते हैं जो मापी गई संपर्क क्षमता को प्रभावित करेंगे। विभिन्न सामग्रियों में आर्द्रता परिवर्तनों के प्रति संवेदनशीलता अलग होती है। सामग्री एसकेपी मापन के स्थान विश्लेषण की परिणामी ज्यामितीय शर्तों को भी प्रभावित कर सकती है। व्यावसायिक जांच में टंगस्टन का उपयोग किया जाता है,[10] यद्यपि प्लैटिनम ,[11] ताँबा,[12] सोना,[13] तथा निक्रोम का प्रयोग किया गया है।[14] नमूना दूरी की जांच अंतिम एसकेपी माप को प्रभावित करती है, पार्श्व संकल्प में सुधार करने के लिए नमूना दूरी की छोटी जांच के साथ [15]और माप का संकेतक-टू-शोर अनुपात।[16] इसके अलावा, एसकेपी जांच को नमूना दूरी तक कम करने से माप की तीव्रता बढ़ जाती है, जहां माप की तीव्रता1/d2 के समानुपाती होती है, जहां d नमूना दूरी की जांच है।[17] माप पर जांच को नमूना दूरी में बदलने के प्रभावों को निरंतर दूरी रूप में एसकेपी का उपयोग करके प्रतिवर्त किया जा सकता है।







कार्य फलन

केल्विन जांच बल माइक्रोस्कोप या केल्विन बल माइक्रोस्कोप (केएफएम) एक एएफएम संरचना पर आधारित है और कार्य फलन का निर्धारण छोटे एएफएम अग्रभाग और नमूने के बीच विद्युत स्थैतिक बलों के माप पर आधारित है। संचालन युक्ति और नमूना की विशेषता (सामान्य रूप से) विभिन्न कार्य फलन द्वारा चित्रित किया गया है, जो प्रत्येक सामग्री के लिए फर्मी स्तर और निर्वात स्तर के बीच अंतर का प्रतिनिधित्व करते हैं। यदि दोनों तत्वों को संपर्क में लाया जाता है, तो फर्मी स्तर संरेखित होने तक उनके बीच एक शुद्ध विद्युत प्रवाह प्रवाहित होगा। कार्य कार्यों के बीच के अंतर को वोल्टा क्षमता कहा जाता है और इसे सामान्यतःVCPD के साथ निरूपित किया जाता है, उनके बीच विद्युत क्षेत्र की वजह से अग्रभाग और नमूने के बीच एक विद्युत स्थैतिक बलों बल मौजूद है। माप के लिए अग्रभाग और नमूने के बीच एक वोल्टेज लगाया जाता है, जिसमें DC-bias VDC और आवृत्ति ω का एसी-वोल्टेज VAC sin(ωt सम्मिलित होता है ।

एएफएम कैंटिलीवर की प्रतिध्वनि आवृत्ति के लिए एसी-आवृत्ति को समस्वरण करने से एक बेहतर संवेदनशीलता मिलती है। एक संधारित्र में विद्युत स्थैतिक बलों तत्वों के पृथक्करण के संबंध में ऊर्जा कार्य को अलग करके पाया जा सकता है और इसे इस रूप में लिखा जा सकता है

जहाँ C संधारिता है, z पृथक्करण है, और V वोल्टेज है, प्रत्येक अग्रभाग और भूतल के बीच है। वोल्टेज (V) के लिए पिछले सूत्र को प्रतिस्थापित करने से पता चलता है कि विद्युत स्थैतिक बलों को तीन योगदानों में विभाजित किया जा सकता है, क्योंकि कुल विद्युत स्थैतिक बल एफ अग्रभाग पर कार्य करता है, फिर आवृत्तियों ω और 2ω पर वर्णक्रमीय घटक होते हैं।

डीसी घटक,FDC, स्थलाकृतिक संकेत में योगदान देता है, Fω शब्दविशेषता आवृत्ति पर ω का उपयोग संपर्क क्षमता और योगदान F2ω को आकलन के लिए किया जाता है, संधारिता सूक्ष्मदर्शिकी के लिए उपयोग किया जा सकता है।

संपर्क संभावित माप

संपर्क संभावित मापन के लिए ω पर कैंटिलीवर दोलन का पता लगाने के लिए एक लॉक-इन एम्पलीफायर का उपयोगकिया जाता है। पर्यवेक्षण के दौरान VDCसमायोजित किया जाएगा ताकि अग्रभाग और नमूने के बीच विद्युत स्थैतिक बल शून्य हो जाएं और इस प्रकार आवृत्ति ω पर प्रतिक्रिया शून्य हो जाए। चूंकि ω पर विद्युत स्थैतिक बल VDC − VCPD, पर निर्भर करता है, VDC का मान जो ω-अवधि को कम करता है, संपर्क क्षमता के अनुरूप होता है। नमूना कार्य फलन के पूर्ण मान प्राप्त किए जा सकते हैं यदि अग्रभाग को पहले ज्ञात कार्य फलन के संदर्भ नमूने के विरुद्ध अंशांकित किया जाता है।[18] इसके अलावा, उपरोक्त से स्वतंत्र रूप से अनुनाद आवृत्ति ω पर सामान्य स्थलाकृतिक पर्यवेक्षण विधियों का उपयोग किया जा सकता है। इस प्रकार, एक पर्यवेक्षण में, स्थलाकृति और नमूने की संपर्क क्षमता एक साथ निर्धारित की जाती है। यह (कम से कम) दो अलग-अलग तरीकों से किया जा सकता है: 1) स्थलाकृति को एसी रूप में अधिकृत किया जाता है जिसका अर्थ है कि कैंटिलीवर एक पीजो द्वारा अपनी गुंजयमान आवृत्ति पर संचालित होता है। इसके साथ ही केपीएफएम मापन के लिए एसी वोल्टेज कैंटिलीवर की गुंजयमान आवृत्ति से थोड़ी कम आवृत्ति पर लागू होता है। इस माप रूप में स्थलाकृति और संपर्क संभावित अंतर एक ही समय में अधिकृत किए जाते हैं और इस रूप को अधिकांशतःएकल-पारित कहा जाता है। 2) स्थलाकृति की एक पंक्ति या तो संपर्क या एसी रूप में अधिकृत की जाती है और आंतरिक रूप से संग्रहीत होती है। फिर, इस रेखा को फिर से पर्यवेक्षण किया जाता है, जबकि कैंटिलीवर यंत्रवत् संचालित दोलन के बिना नमूने के लिए एक निर्धारित दूरी पर रहता है, लेकिन केपीएफएम माप के एसी वोल्टेज को लागू किया जाता है और ऊपर बताए अनुसार संपर्क क्षमता अधिकृत कर लिया जाता है। यह ध्यान रखना महत्वपूर्ण है कि लागू एसी वोल्टेज के साथ अच्छे दोलन की अनुमति देने के लिए कैंटिलीवर अग्रभाग नमूने के बहुत करीब नहीं होनी चाहिए। इसलिए, एसी स्थलाकृति माप के दौरान केपीएफएम एक साथ किया जा सकता है लेकिन संपर्क स्थलाकृति माप के दौरान नहीं।

अनुप्रयोग

एसकेपी द्वारामापा गया वोल्टा क्षमता सीधे सामग्री की संक्षारण क्षमता के समानुपाती होती है,[19] इस तरह एसकेपी ने संक्षारण और कोटिंग्स के क्षेत्र के अध्ययन में व्यापक उपयोग पाया है। उदाहरण के लिए कोटिंग्स के क्षेत्र में, स्व-उपचार आकार-स्मृति बहुलक कोटिंग जिसमें एल्यूमीनियम मिश्र धातुओं पर ताप उत्पन्न करने वाले कर्मक होता है, जिसमें सामयिक क्षेत्र एसकेपी द्वारा मापा गया था।[20] प्रारंभ में सामयिक किए जाने के बाद वोल्टा की क्षमता शेष नमूने की तुलना में सामयिक पर काफी अधिक और व्यापक थी, जिसका अर्थ है कि इस क्षेत्र में खुरचना होने की अधिक संभावना है। वोल्टा की क्षमता बाद के मापों में कम हो गई, और अंततः सामयिक के ऊपर का शिखर पूरी तरह से गायब हो गया, जिसका अर्थ है कि कोटिंग ठीक हो गई है। क्योंकि एसकेपी का उपयोग गैर-विनाशकारी तरीके से कोटिंग्स की जांच के लिए किया जा सकता है, इसका उपयोग कोटिंग की विफलता को निर्धारित करने के लिए भी किया गया है। पालीयुरथेन कोटिंग्स के एक अध्ययन में, यह देखा गया कि उच्च तापमान और आर्द्रता के संपर्क में वृद्धि के साथ कार्य फलन बढ़ता है।[21] कार्य फलन में यह वृद्धि कोटिंग के भीतर बॉन्ड के हाइड्रोलिसिस से संभावित कोटिंग के अपघटन से संबंधित है।

एसकेपी का उपयोग करके औद्योगिक रूप से महत्वपूर्ण मिश्र धातुओं के संक्षारण को मापा गया है। विशेष रूप से एसकेपी के साथ संक्षारण पर पर्यावरणीय प्रोत्साहन के प्रभावों की जांच करना संभव है। उदाहरण के लिए, स्टेनलेस स्टील और टाइटेनियम के सूक्ष्मजीव प्रेरित संक्षारण की जांच की गई है।[22] एसकेपी इस प्रकार के संक्षारण का अध्ययन करने के लिए उपयोगी है क्योंकि यह सामान्यतःस्थानीय रूप से होता है, इसलिए वैश्विक तकनीकें खराब अनुकूल हैं। बढ़ी हुई स्थानीय संक्षारण से संबंधित भूतल संभावित परिवर्तन एसकेपी मापन द्वारा दिखाए गए थे। इसके अलावा, विभिन्न माइक्रोबियल प्रजातियों से परिणामी संक्षारण की तुलना करना संभव था। एक अन्य उदाहरण में एसकेपी का उपयोग बायोमेडिसिन मिश्र धातु सामग्री की जांच के लिए किया गया था, जिसे मानव शरीर के भीतर संक्षारित किया जा सकता है। ज्वलनशील परिस्थितियों में Ti-15Mo पर अध्ययन में,[23] एसकेपी मापों ने मिश्रधातु की ऑक्साइड संरक्षित भूतल की तुलना में संक्षारण गड्ढे के तल पर कम संक्षारण प्रतिरोध दिखाया। एसकेपी का उपयोग वायुमंडलीय संक्षारण के प्रभावों की जांच के लिए भी किया गया है, उदाहरण के लिए समुद्री पर्यावरण में तांबा मिश्र धातुओं की जांच के लिए।[24] इस अध्ययन में केल्विन क्षमता अधिक सकारात्मक हो गई, जो संक्षारण उत्पादों की मोटाई में वृद्धि के कारण एक्सपोजर समय में वृद्धि के साथ अधिक सकारात्मक संक्षारण क्षमता का संकेत देती है। अंतिम उदाहरण के रूप में एसकेपी का उपयोग गैस पाइपलाइन की सिम्युलेटेड परिस्थितियों में स्टेनलेस स्टील की जांच के लिए किया गया था।[25] इन मापों ने संक्षारण के समय में वृद्धि के साथ कैथोड और एनोड क्षेत्रों की संक्षारण क्षमता में अंतर में वृद्धि दिखाई, जो संक्षारण की उच्च संभावना को दर्शाता है। इसके अलावा, इन एसकेपी मापों ने स्थानीय क्षरण के बारे में जानकारी प्रदान की, जो अन्य तकनीकों के साथ संभव नहीं है।

एसकेपी का उपयोग सौर कोशिकाओं में उपयोग की जाने वाली सामग्रियों की भूतल की क्षमता की जांच करने के लिए किया गया है, इस लाभ के साथ कि यह एक गैर-संपर्क है, और इसलिए एक गैर-विनाशकारी तकनीक है।[26] इसका उपयोग विभिन्न सामग्रियों के इलेक्ट्रॉन संबंध को निर्धारित करने के लिए किया जा सकता है, जिससे अलग-अलग सामग्रियों के वैलेंस और चालन बैंड के ऊर्जा स्तर ओवरलैप को निर्धारित किया जा सकता है। इन बैंडों का ऊर्जा स्तर ओवरलैप सिस्टम की भूतल फोटोवोल्टेज प्रतिक्रिया से संबंधित है।[27] एक गैर-संपर्क के रूप में, गैर-विनाशकारी तकनीक एसकेपी का उपयोग फोरेंसिक विज्ञान के अध्ययन के लिए रुचि की सामग्री पर अव्यक्त उंगलियों के निशान की जांच के लिए किया गया है।[28] जब उंगलियों के निशान एक धातु की भूतल पर छोड़े जाते हैं तो वे लवण को पीछे छोड़ देते हैं जो ब्याज की सामग्री के स्थानीय संक्षारण का कारण बन सकता है। इससे नमूने की वोल्टा क्षमता में परिवर्तन होता है, जिसे एसकेपी द्वारा पता लगाया जा सकता है। एसकेपी इन विश्लेषणों के लिए विशेष रूप से उपयोगी है क्योंकि यह वोल्टा क्षमता में इस परिवर्तन का पता लगा सकता है, उदाहरण के लिए, तेलों द्वारा गर्म करने, या कोटिंग करने के बाद भी।

एसकेपी का उपयोग लेखक साइट युक्त उल्कापिंडों के संक्षारण तंत्र का विश्लेषण करने के लिए किया गया है।[29][30] इन अध्ययनों का उद्देश्य जीवोत्पत्ति रसायन विज्ञान में उपयोग की जाने वाली प्रजातियों को मुक्त करने में ऐसे उल्कापिंडों की भूमिका की जांच करना है।

जीव विज्ञान के क्षेत्र में एसकेपी का उपयोग घावों से जुड़े विद्युत क्षेत्रों की जांच के लिए किया गया है,[31] और एक्यूपंक्चर बिन्दुओं।[32]

इलेक्ट्रॉनिक्स के क्षेत्र में, केपीएफएम का उपयोग हाई-के गेट ऑक्साइड/इलेक्ट्रॉनिक उपकरणों के इंटरफेस में चार्ज ट्रैपिंग की जांच के लिए उपयोग किया जाता है।[33][34][35]

यह भी देखें

संदर्भ

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बाहरी संबंध

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